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智能手機省電秘訣:看如何從設計源頭來(lái)降低功耗

作者: 時(shí)間:2013-09-23 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò ) 收藏
微細化在2012年是具有里程碑意義的一年。預計采用32nm/28nm工藝技術(shù)制造的產(chǎn)品將配備于(表1)。雖然漏電功率容易增加,但由于電路負荷容量減小,因此可以相應削減耗電量。數年后的22nm/20nm工藝的應用也有望利用這一效應。

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/228230.htm

智能手機省電秘訣:看如何從設計源頭來(lái)降低功耗

  技術(shù)壁壘較高的是低電壓化。雖然半導體芯片截至90nm工藝一直在隨著(zhù)微細化順利降低電壓,但之后SRAM的誤動(dòng)作成為瓶頸,低電壓化越來(lái)越難以實(shí)現。目前的便攜終端用處理器的標準電壓只降到1.0~1.1V左右,最小驅動(dòng)電壓降到0.8~0.9V左右。因此需要從根本上改進(jìn)電路技術(shù)。

  推進(jìn)這類(lèi)研究的是美國英特爾。該公司試制出了電力效率在閾值電壓附近最高的x86處理器“Claremont”。這是通過(guò)開(kāi)發(fā)能以0.28V的極低電源電壓正常運行的電路群來(lái)實(shí)現的。以接近閾值電壓的0.45V電源電壓運行時(shí),工作頻率為60MHz,電力效率最大為5830MIPS/W(整體耗電量為10mW)。以1.2V運行時(shí),工作頻率最大為915MHz,電力效率為1240MIPS/W(整體耗電量為737mW)。

  漏電功率對策也在推進(jìn)

  要想提高電力效率,還必須削減漏電功率。韓國三星電子在“Exynos”處理器上采用32nm工藝制造技術(shù)時(shí),導入了high-k柵極絕緣膜/金屬柵極(即HKMG)。

  與32nm工藝中未導入HKMG時(shí)相比,柵極漏電流降至約1/100,整體漏電流降至約1/10。另外,三星電子還首次采用了基板偏壓技術(shù)*。目的是根據裸片上的漏電功率和性能的監控信息,減小制造偏差造成的性能下降和漏電功率。

  *基板偏壓技術(shù)=在硅基板上加載偏壓以動(dòng)態(tài)控制閾值電壓的技術(shù)。通過(guò)加載負電壓提高閾值電壓以暫時(shí)抑制漏電流的后基板偏壓,或者通過(guò)加載正電壓降低閾值電壓以暫時(shí)提高速度的前基板偏壓。

  為盡量削減正常處理時(shí)無(wú)需消耗的電力,而實(shí)施的對策是根據負荷改變工作頻率和電壓的DVFS*,以及以電路塊為單位的電源切斷和時(shí)鐘切斷操作。處理器本來(lái)就導入了以動(dòng)態(tài)控制電力為目的的技術(shù)。通過(guò)將這些技術(shù)用于細微之處,使負荷和耗電量走勢基本上呈現同樣的曲線(xiàn)走勢。

  *DVFS(dynamic voltage and frequency scaling)=在LSI中,通過(guò)根據處理負荷等動(dòng)態(tài)控制電源電壓和工作頻率,從而削減耗電量的方法。以L(fǎng)SI根據軟件指示變更設定的形態(tài)運行。

  從細微之處入手,瑞薩移動(dòng)的做法可謂典型。該公司的母公司瑞薩電子在用于傳統手機的應用處理及基帶處理整合型處理器“SH-Mobile G”系列中,將DVFS應用到了內核中,并對電源域和時(shí)鐘系統進(jìn)行了細分化。

  而瑞薩移動(dòng)面向開(kāi)發(fā)的“MP5232”則對內核的工作頻率設定以及電源域和時(shí)鐘系統則進(jìn)行了更加細致的劃分(圖7)?!坝捎诒仨毰渲秒娫撮_(kāi)關(guān),因此并不是只要細分就完事了。我們設想了的使用情況,找到了最佳劃分點(diǎn)”(瑞薩移動(dòng)移動(dòng)多媒體事業(yè)本部SoC事業(yè)部事業(yè)部長(cháng)服部俊洋)。

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  圖7:根據利用情況對電力進(jìn)行極其細微的控制

  瑞薩移動(dòng)面向智能手機開(kāi)發(fā)的“MP5232”與用于傳統手機的處理器相比,可以根據利用情況對電力進(jìn)行極其細微的控制。內核的工作頻率設定、電源域的數量以及時(shí)鐘系統的數量均大幅增加?! ?strong>對每個(gè)CPU內核控制頻率

  美國高通的“Snapdragon”系列采用根據多個(gè)CPU內核進(jìn)行DVFS的方式。向一個(gè)內核施加較大負荷時(shí),如果其他內核的負荷較小,則會(huì )削減負載較小的內核的工作頻率(圖8)。其他半導體廠(chǎng)商則采用對內核群統一進(jìn)行DVFS的方法,即根據處理負荷統一改變多個(gè)CPU內核的工作頻率。

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  圖8:按照多個(gè)CPU內核進(jìn)行DVFS

  高通在“Snapdragon”系列的多核產(chǎn)品中,按照各CPU內核進(jìn)行了動(dòng)態(tài)控制電壓和頻率的DVFS。通過(guò)向各CPU內核供給其他系統的電力和時(shí)鐘,提高了對處理負荷的追隨性。

  按內核進(jìn)行DVFS的方法存在電源電路部件增加的問(wèn)題,不過(guò)“該方式能防止當單線(xiàn)程的處理負荷較大時(shí),其他內核以不必要的高頻率運行狀態(tài),我們判斷這樣做的優(yōu)勢更大一些”(高通日本CDMA技術(shù)營(yíng)銷(xiāo)及業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)統括部長(cháng)須永順子)。除了雙核產(chǎn)品外,四核產(chǎn)品也采用相同的方式。

  DVFS和電源切斷的徹底實(shí)施在基帶處理LSI方面也得到了推進(jìn)。尤其是“在整合型處理器中,基帶處理部也容易細微地控制電力”(高通日本的須永)。不僅是成本和安裝面積,耗電量也可能成為選擇整合型處理器的理由。

  適當使用效率各異的CPU

  今后,處理器將導入的新低耗電量化舉措之一是電路的“混合”化。在智能手機中,“所要求的處理動(dòng)態(tài)范圍比傳統手機大幅擴大。今后還會(huì )進(jìn)一步擴大”(瑞薩移動(dòng)的服部)。在處理負荷非常小時(shí)和非常大時(shí)區分使用最佳電力效率的電路——這類(lèi)對策將得到推進(jìn)。

  混合化從耗電量尤其大的CPU部分開(kāi)始。最先得到應用的是美國英偉達在“Tegra 3”中采用的“4-PLUS-1”技術(shù)。這是在同一枚裸片上混載采用LP(低電力)工藝的低電力CPU內核和采用G(普通)工藝的主CPU內核群的做法,可根據負荷切換使用(圖9)。CPU內核采用相同的微架構。

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  圖9:利用不同的制造工藝安裝

  區分使用CPU的英偉達在“Tegra3”中導入了可以區分使用以低電力工藝制造的CPU內核以及以普通工藝制造的CPU內核的“4-PLUS-1”技術(shù)。為了不使切換點(diǎn)附近頻繁發(fā)生切換,采取了預防措施。

  “從決定切換到完成切換所需時(shí)間不到2ms,用戶(hù)應該注意不到”(英偉達日本技術(shù)營(yíng)銷(xiāo)工程師Steven Zhang)。不過(guò),如果負荷剛好在切換邊界附近變化,可能會(huì )頻繁進(jìn)行切換處理,因此配備了在重復

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