世界上第一臺高性能Peltier制冷設備

三星電子與約翰霍普金斯大學(xué)應用物理實(shí)驗室 （APL） 一起展示了下一代Peltier冷卻技術(shù)的進(jìn)展。Peltier器件通過(guò)利用珀爾帖效應進(jìn)行冷卻，其中向半導體施加電流會(huì )導致一側冷卻，而另一側會(huì )升溫。由于這種方法不依賴(lài)制冷劑，因此它正在成為傳統冷卻系統的一種有前途的環(huán)保替代方案。

通過(guò)首次利用新開(kāi)發(fā)的薄膜 Peltier 半導體器件，并通過(guò)先進(jìn)的納米工程技術(shù)進(jìn)行增強，研究團隊成功創(chuàng )造并展示了高性能 Peltier 制冷機。

這種薄膜 Peltier 制冷機的冷卻效率超過(guò)了傳統蒸汽壓縮系統的冷卻效率，為下一代無(wú)制冷劑制冷機的商業(yè)化鋪平了道路。

與傳統的蒸汽壓縮技術(shù)相比，帕爾貼冷卻以更簡(jiǎn)單的設計提供更快、更精確的溫度控制，使其適用于廣泛的行業(yè)，包括家用電器、半導體、醫療設備、汽車(chē)電子和數據中心。

在 Peltier 半導體器件中實(shí)現卓越的冷卻效率對于高性能 Peltier 冷卻技術(shù)的商業(yè)化至關(guān)重要。

三星和 APL 研究團隊通過(guò)引入新的薄膜半導體材料以及小型化和輕量化設計，將珀爾帖器件的效率提高了近 75%，從而實(shí)現了這一目標。

新開(kāi)發(fā)的 Peltier 器件在資源效率和可制造性方面也具有顯著(zhù)優(yōu)勢。該團隊證實(shí)，創(chuàng )新的制造工藝將所需的帕爾貼材料量大幅減少到典型體積的 1/1,000 左右，同時(shí)還簡(jiǎn)化了生產(chǎn)步驟。這一突破提高了可擴展性并支持大規模生產(chǎn)，有望在成本效益和環(huán)境可持續性方面取得重大進(jìn)步。

世界上第一臺采用納米薄膜技術(shù)的高性能帕爾貼制冷機代表著(zhù)向無(wú)制冷劑冷卻的飛躍