盤(pán)點(diǎn)影響PCBA清洗工藝穩定性的4個(gè)因素

相當長(cháng)一段時(shí)間，業(yè)內對清洗工藝的認識不夠充分。主要是因為以前PCBA組裝密度較低，助焊劑殘留等污染物對電氣性能的不良影響不易被察覺(jué)。如今，隨著(zhù)PCBA的設計向小型化發(fā)展，器件尺寸和器件之間的間距變得更小，由微小顆粒殘留導致的短路、電化學(xué)遷移等失效故障已經(jīng)引起了廣泛的關(guān)注。為了適應市場(chǎng)趨勢，提升產(chǎn)品的可靠性，越來(lái)越多的SMT生產(chǎn)制造商開(kāi)啟了對清洗工藝的求知之旅。

清洗工藝即結合清洗劑的靜態(tài)清洗力和清洗設備的動(dòng)態(tài)清洗力，最終將污染物去除的過(guò)程。PCBA清洗分為貼片（SMT）和插件（THT）兩個(gè)階段，通過(guò)清洗可以清除產(chǎn)品在加工過(guò)程中表面污染物的積累，減少產(chǎn)品受到表面污染而降低可靠性的風(fēng)險。在電子制造和半導體加工行業(yè)，選擇正確的清洗劑搭配恰當的清洗設備非常重要。影響PCBA清洗工藝穩定性的因素主要包括：清洗對象、清洗設備、清洗劑以及工藝控制。

清洗對象

一般情況下清洗對象的是錫膏和助焊劑殘留，這些殘留會(huì )引起電化學(xué)遷移、腐蝕和短路，給產(chǎn)品可靠性帶來(lái)極大的威脅，不過(guò)也不排除電路板表面有大顆粒污染、油漬和汗漬。不同PCBA的材料性能和表面狀況也不同。ZESTRON技術(shù)中心每天都進(jìn)行免費清洗測試，在很多情況下客戶(hù)的產(chǎn)品不能進(jìn)水，因此不適合用浸沒(méi)式清洗工藝！另外有一些元器件由敏感金屬構成，非常脆弱，不能使用超聲波進(jìn)行清洗，不然那些泡泡爆炸的時(shí)候會(huì )震碎元器件。還有一些元器件必須用pH中性清洗液來(lái)進(jìn)行“溫柔”處理！通常線(xiàn)路板表面都有非常復雜的幾何結構，而且集成密度還非常高。當器件與基板之間的距離非常小，去離子水的水滴就無(wú)法鉆入細小的間隙，根本無(wú)力去除器件底部的污染物，這時(shí)候就需要化學(xué)清洗劑來(lái)幫忙。

清洗劑

選擇專(zhuān)門(mén)的清洗劑非常重要。ZESTRON數據庫存儲2500多種配方及相關(guān)原材料，針對不同的污染物設計了豐富的水基、半水基和溶劑型的產(chǎn)品組合。材料兼容性是清洗工藝中常常被忽視卻又至關(guān)重要的部分，比如：電源模塊封裝上有銅、鎳或鋁等多種金屬材料，不當的清洗工藝極易導致鋁芯片和銅表面出現腐蝕或氧化，有的還有字符脫落。因此，清洗劑與清洗對象之間、清洗劑與清洗設備之間的材料的不兼容可能導致產(chǎn)品報廢，或是引起設備管路的堵塞。

清洗液作為一種在生產(chǎn)線(xiàn)上使用且可能直接接觸人體的化學(xué)品，存在操作不當造成人身傷害和經(jīng)濟損失風(fēng)險。ZESTRON自1989年開(kāi)發(fā)出第一款替代CFC的清洗劑，始終堅持做綠色安全的清洗產(chǎn)品。無(wú)論何時(shí)，ZESTRON承諾所有產(chǎn)品均符合REACH法規、RoHS指令和WEEE 指令。ZESTRON清洗劑不含ODS臭氧層破壞成分，VOC含量符合國家標準。

 清洗設備

一套完整的清洗工藝通常包括清洗、漂洗和烘干這三道工序，在清洗過(guò)程中，清洗劑和污染物相互接觸，清洗劑將污染物從清洗對象的表面分離出來(lái)；漂洗和烘干過(guò)程主要是進(jìn)一步去除污染物，還要確保元器件表面不存在清洗劑的殘留。ZESTRON技術(shù)中心內擁有100多臺來(lái)自世界著(zhù)名清洗設備生產(chǎn)商的清洗設備。從離線(xiàn)批量清洗設備，諸如超聲波清洗設備、浸沒(méi)式清洗設備、離心清洗設備，到在線(xiàn)噴淋設備，客戶(hù)可在多種常用清洗機械力學(xué)中進(jìn)行選擇。ZESTRON能夠以真實(shí)的生產(chǎn)條件測試您的產(chǎn)品，并根據客戶(hù)的需求，評估清洗應用、清洗設備，及各種清洗劑。

清洗工藝控制

隨著(zhù)清洗時(shí)間的增加，清洗液中不斷進(jìn)入的污染物將對清洗效率產(chǎn)生負面影響。何時(shí)該換液？最晚何時(shí)換液？環(huán)境/產(chǎn)品變了，清洗參數怎么調？這些問(wèn)題直接關(guān)乎客戶(hù)的成本和產(chǎn)出，而找到答案的關(guān)鍵在于對清洗數據的采集，包括：時(shí)間、動(dòng)作、濃度及溫度。其中清洗液在使用的過(guò)程中會(huì )受到諸多因素的影響，如：液體中殘留物、液體的蒸發(fā)、去離子水的添加等，其濃度往往會(huì )起伏不定。所以在電路清洗工序中，濃度的監測直接關(guān)系到清洗效果的穩定性。ZESTRON為濃度監控提綱豐富的產(chǎn)品組合。包括創(chuàng )新型清洗工藝濃度管理系統ZESTRON? EYE CM；自動(dòng)化濃度檢測系統ZESTRON ? EYE和便攜式的ZESTRON? EYE Mobile；以及全球首款不受助焊劑殘留影響的濃度測試包ZESTRON? Bath Analyze。

如果您對選擇清洗工藝的選擇或工藝的調整感興趣，歡迎發(fā)送電子郵件至infochina@zestron.com與ZESTRON聯(lián)系預約上?；蛏钲诩夹g(shù)中心的免費清洗試驗。