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一種低功耗的電平位移電路

作者:陳智昕 時(shí)間:2018-09-27 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏
編者按:提出了一種基于0.35μm BCD工藝的電平位移電路。該電路使用了耐壓5V的CMOS器件。通過(guò)對常規電平位移電路進(jìn)行分析,提出了優(yōu)化改善的電平位移電路。電路仿真結果顯示,與常規的電平位移電路相比,改進(jìn)的電路具有功耗低、輸出電平穩定可靠等特點(diǎn)。

作者 / 陳智昕 電子科技大學(xué)(四川 成都 610054)

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/201809/392391.htm

  陳智昕,男(漢族),四川成都人,碩士研究生,主要從事模擬集成電路的研究設計。

摘要:提出了一種基于0.35μm BCD工藝的電路。該電路使用了耐壓5V的CMOS器件。通過(guò)對常規電路進(jìn)行分析,提出了優(yōu)化改善的電路。電路仿真結果顯示,與常規的電平位移電路相比,改進(jìn)的電路具有功耗低、輸出電平穩定可靠等特點(diǎn)。

0 引言

  隨著(zhù)最小特征尺寸的不斷下降,功耗問(wèn)題已經(jīng)成為現代集成電路設計的主要考慮因素之一。Dynamic Voltage Scaling Operating(動(dòng)態(tài)電壓調整)技術(shù)能為集成電路提供多種電源電壓。一方面,用低電源電壓給非關(guān)鍵路徑模塊供電,另一方面,在模擬和高速數字模塊中使用較高的電源電壓。這樣的技術(shù)對于減少動(dòng)態(tài)以及靜態(tài)功耗是很必要的[1]。

  在集成電路中,不同模組工作在不同的速度下,所以需要一種雙重供電結構。在雙重電壓供給系統中,需要用電平位移電路(Level-shifter Circuit)將低電壓轉換為高電壓以滿(mǎn)足后續的模組工作。為了確保整體電路的工作性能,電平位移電路需要具備的特點(diǎn)[2]。

  本文正是基于這樣的應用需求,設計了一種的電平位移電路。文章剩余部分按照以下結構展開(kāi)。第一部分對傳統電平位移電路進(jìn)行回顧,第二部分為本文所提出的電平位移電路原理,第三部分呈現了所設計電平位移電路的仿真結果。

1 常規電平位移電路

  圖1(a)為一種傳統的電平位移電路,當輸入信號IN為“1”(VIN=VDDL)時(shí),MN1開(kāi)啟,MN2關(guān)斷,MN1管將結點(diǎn)a電位下拉,從而MP2導通,對結點(diǎn)b充電,隨著(zhù)結點(diǎn)b電位的上升,MP1關(guān)斷。類(lèi)似的,當輸入信號變至“0”(VIN=VSS)時(shí),MN1關(guān)斷而MN2導通,整個(gè)過(guò)程將反置。值得注意的是,當輸入信號由“1”變“0”時(shí),a點(diǎn)的初始電位不能瞬變而仍然為“0”,因此MP2一開(kāi)始仍然導通,對結點(diǎn)b進(jìn)行充電,削弱了MN2對結點(diǎn)b放電的作用,使得電位轉換變得緩慢(對結點(diǎn)a的分析同理)。我們可以看到在結點(diǎn)a、b存在著(zhù)上拉管(MP1和MP2)和下拉管(MN1和MN2)的電位爭奪,上拉P管對N管的下拉產(chǎn)生阻礙作用。所以,當輸入電壓與VDDL/VDDH偏差很大,特別是低于閾值電壓時(shí),下拉管的下拉能力遠小于上拉管的上拉能力,電路無(wú)法正常轉換電平[3]。

  為了解決這樣的問(wèn)題,提出了基于的電平位移電路。如圖1(b)所示,該結構利用限制了電流,從而在下拉管對輸出結點(diǎn)放電時(shí)削弱了上拉管的上拉能力。然而,該結構存在一個(gè)明顯的缺點(diǎn),當輸入信號IN處于“1”時(shí),存在較大的流經(jīng)MP1和MN1的恒定電流,產(chǎn)生了額外功耗。為減少這樣的靜態(tài)功耗,提出了如圖1(c)所示基于威爾遜的電路。電路中引入MP3以消除恒定電流,當輸入信號IN為“1”時(shí),輸出電位上拉至“1”,使得MP3處于關(guān)斷狀態(tài),從而截斷了之前存在的恒定電流。但是,這種結構會(huì )造成結點(diǎn)b產(chǎn)生電壓降,當結點(diǎn)b電位還未完全上拉至VDDH時(shí),MP3已經(jīng)關(guān)斷,造成結點(diǎn)a電位上浮而關(guān)斷MP2管,使得結點(diǎn)b的電平浮動(dòng)且低于VDDH[4-5]。

2 改進(jìn)的電平位移電路

  通過(guò)對常規電平位移電路的分析研究,我們可以看出上述電路存在著(zhù)N管下拉電流能力較弱、持續恒定的大電流以及輸出信號無(wú)法被完全上拉至VDDH等問(wèn)題。而這些問(wèn)題的產(chǎn)生會(huì )使得電路在工作過(guò)程中產(chǎn)生更多的功耗。因此,本節在圖1(c)所示電路結構基礎上,提出了一種改進(jìn)的電平位移電路,可以?xún)?yōu)化功耗問(wèn)題。電路原理圖如圖2所示。

  將圖1(c)中MP3管上移至電流鏡的上方(即圖2中MP4管),使輸出端在上電過(guò)程中,結點(diǎn)a的電位始終被下拉到地。而不會(huì )像圖1(c)中那樣,結點(diǎn)a的電位因MP3管的斷開(kāi)而上浮,使MP2管的上拉能力減弱而影響輸出端電位無(wú)法上升到VDDH。與此同時(shí),當輸入IN為“1”時(shí),MP4管抑制了流過(guò)MP4、MP1和MN1管的電流I1,使得功耗減小。

  當輸入信號由高變低時(shí),由于結點(diǎn)b電位無(wú)法瞬變而仍為“0”。此時(shí),MP4、MN1管和MP5、MN3管開(kāi)啟,MN2管關(guān)斷。從而產(chǎn)生流經(jīng)MP4、MP1和MN1管的電流I1以及流經(jīng)MP5、MP3和MN3的電流I3。兩股電流被鏡像,產(chǎn)生電流I2,并上拉結點(diǎn)b的電位。最后,結點(diǎn)b電位變?yōu)椤?”,并反饋至MP4和MP5管使它們關(guān)斷,從而截斷電流I1、I3,也不再鏡像電流I2。輸出端變?yōu)椤?”。因為MN1和MN3管始終開(kāi)啟,致使結點(diǎn)a、c保持地電位,MP2、MP6管處于常開(kāi)狀態(tài),從而保證結點(diǎn)b電位能夠始終處于VDDH而不浮動(dòng),從而對常規電平位移電路結點(diǎn)出現電壓降的問(wèn)題進(jìn)行了優(yōu)化改善。

  當輸入信號由低變高時(shí),結點(diǎn)b信號起初仍然為“1”。在不添加輔助模塊時(shí),起初結點(diǎn)a電位仍然為“0”,MP4管關(guān)斷,使得MP2管處于強上拉狀態(tài),這樣很大程度的削弱了MN2管對結點(diǎn)b電位的下拉作用(因為P管的上拉能力大于N管的下拉能力),導致輸出端電位下降較慢。添加輔助模塊后,由MP2和MP6兩個(gè)P管作開(kāi)關(guān),有效的抑制了結點(diǎn)b電位受P管上拉作用的影響,使得結點(diǎn)b電位能夠較穩定地被下拉至“0”。

3 仿真結果及分析

  本文所提電平位移電路的仿真結果是基于華虹NEC 0.35μm BCD工藝進(jìn)行,實(shí)現從2.5 V轉換為5 V工作電壓的功能。本節分別從整體功能、電流功耗以及具體問(wèn)題優(yōu)化情況三方面進(jìn)行分析。

  如圖3所示為改進(jìn)電平位移電路功能波形圖。仿真結果表明,所提出的電平位移電路輸入2.5 V,經(jīng)過(guò)大約200 ps穩定地轉換為5 V輸出電壓環(huán)境,正確實(shí)現電路功能。

  圖4為電路功耗仿真結果,通過(guò)對IVDDL+IVDDH值進(jìn)行對比間接反映常規電平位移電路與改進(jìn)電平位移電路的功耗大小。從仿真結果來(lái)看,改進(jìn)電路功耗明顯減小,與常規電路相比,功耗下降約45%,改善結果顯著(zhù)。

  圖5所示,為圖1(c)常規電路和圖2改進(jìn)電路結點(diǎn)b在N管對該結點(diǎn)電位進(jìn)行下拉時(shí)的電位變化仿真圖。由圖可知,常規電路結點(diǎn)b在電位被N管下拉時(shí)受到上拉管MP2未關(guān)斷的影響,下拉有明顯變緩的過(guò)程,波形下降沿出現“二段式”的曲線(xiàn)。而改進(jìn)電路b結點(diǎn)的下拉過(guò)程則更加穩定,反映出改進(jìn)電路中輔助模塊有效地抑制了P管上拉能力強對結點(diǎn)b電位的影響,削弱了P管上拉能力,使得b點(diǎn)電位能被下拉N管穩定地放電至“0”。

4 結論

  本文提出一種改進(jìn)的電平位移電路,通過(guò)調整反饋PMOS管的位置和添加輔助模塊以改善電路功耗等問(wèn)題。與常規電平位移電路相比,所提出的電路具有,輸出電平穩定可靠等優(yōu)點(diǎn)。

  參考文獻:

  [1] K. Usami et al., “Automated low-power technique exploiting multiple supply voltages applied to a media processor,” IEEE J. Solid-State Circuits, vol. 33, no. 3, pp. 463–472, Mar. 1998.

  [2] A. Shapiro and E. G. Friedman, “Power efficient level shifter for 16 nm FinFET near threshold circuits,” IEEE Trans. Very Large Scale Integr. (VLSI) Syst., vol. 24, no. 2, pp. 774–778, Feb. 2016.

  [3] B.Razavi.Design of Analog CMOS Integrated Circuits.McCraw-Hill Companies Inc.Boston,MA,2001.

  [4] S. Lütkemeier and U. Ruckert, “A subthreshold to above-threshold level shifter comprising a Wilson current mirror,” IEEE Trans. Circuits Syst. II, Exp. Briefs, vol. 57, no. 9, pp. 721–724, Sep. 2010.

  [5] P. Corsonello, S. Perri, and F. Frustaci, “Exploring well configurations for voltage level converter design in 28 nm UTBB FDSOI technology,” in Proc. IEEE Int. Conf. Comput. Design (ICCD), Oct. 2015, pp. 499–504.

  本文來(lái)源于《電子產(chǎn)品世界》2018年第10期第43頁(yè),歡迎您寫(xiě)論文時(shí)引用,并注明出處。



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