IC智能卡失效的機理研究
隨著(zhù)IC產(chǎn)品制造工藝的提高以及高性能LSI的涌現,IC智能卡不斷向功能多樣化、智能化的方向發(fā)展,以滿(mǎn)足人們對方便、迅捷的追求。然而使用過(guò)程中出現的密碼校驗錯誤、數據丟失、數據寫(xiě)入出錯、亂碼、全“0”全“F”等諸多失效問(wèn)題,嚴重影響了IC卡的廣泛應用。因此,有必要結合IC卡的制作工藝及使用環(huán)境對失效的IC卡進(jìn)行分析,深入研究其失效模式及失效機理,探索引起失效的根本原因,以便采取相應的措施,改進(jìn)IC卡的質(zhì)量和性能1。
由IC卡失效樣品的分析實(shí)例發(fā)現,芯片碎裂、內連引線(xiàn)脫落(脫焊、虛焊等)、芯片電路擊穿等現象是引起IC卡失效的主要原因,本文著(zhù)重對IC卡芯片碎裂、鍵合失效模式及機理進(jìn)行研究和討論,并簡(jiǎn)略介紹其他失效模式。
1 芯片碎裂引起的失效
由于IC卡使用薄/超薄芯片,芯片碎裂是導致其失效的主要原因,約占失效總數的一半以上,主要表現為IC卡數據寫(xiě)入錯、亂碼、全“0”全“F”。
對不同公司提供的1739張失效IC卡進(jìn)行電學(xué)測試,選取其中失效模式為全“0”全“F”的100個(gè)樣品進(jìn)行IC卡的正、背面腐蝕開(kāi)封,光學(xué)顯微鏡(OM)觀(guān)察發(fā)現裂紋形狀多為“十”字、“T”字型,亦有部分為貫穿芯片的單條裂紋,并在頂針作用點(diǎn)處略有彎折,如圖1。碎裂芯片中的裂紋50%以上,位于芯片中央附近并垂直于邊緣;其余芯片的裂紋靠近芯片邊緣或集中于芯片。

圖1 芯片背面碎裂的OM照片
下面根據芯片碎裂物理機理,結合IC卡制作工藝(包括硅片的后道工序、模塊條帶制作、IC卡成型工藝),對導致IC卡薄芯片碎裂的根本原因進(jìn)行深入分析。
圖2 芯片背面研磨損傷的OM照片
1.1 硅片減薄
標準的硅片背面減薄工藝包括貼片、磨片(粗磨、細磨)、腐蝕三道工序。常用的機械磨削法不可避免地會(huì )造成硅片表面和亞表面的損傷(圖2),表面損傷分為3層:有微裂紋分布的非晶層;較深的晶格位錯層;彈性變形層。粗磨、細磨后,硅片背面仍留有深度為15~20μm、存在微損傷及微裂紋的薄層,極大影響了硅片的強度。因此,需要用腐蝕法來(lái)去除硅片背面殘留的晶格損傷層,避免硅片因殘余應力而發(fā)生碎裂。實(shí)驗發(fā)現原始厚度為725μm的硅片,經(jīng)磨片后,腐蝕深度約為25μm時(shí)可得到最大的強度值3;同時(shí),分析表明,芯片在鍵合與測試時(shí)發(fā)生碎裂,往往是由于磨片時(shí)造成的損傷在隨后的腐蝕或化學(xué)機械拋光中沒(méi)有被完全去除而引起的。
對于碎裂面垂直于芯片表面,深a、長(cháng)2b的二維半橢圓型裂紋而言,則滿(mǎn)足Ccr=[(Φ2KIC2)/(1。2πσIC2)][2],其中Ccr=(acrbcr)1/2,acr為臨界裂紋深度,bcr為臨界裂紋半長(cháng);裂紋幾何因子Φ=(1。2π)1/2/Y。設裂紋長(cháng)為2b,深度恒定為1μm,代入斷裂韌度KIC=0。82MPa,Y=1。42得,平面應力狀態(tài)常載荷條件下碎裂的臨界強度σ=0。58/4b(GPa),σ與芯片背面殘留裂紋長(cháng)度、深度的對應關(guān)系如圖3(b)??梢?jiàn),芯片碎裂臨界強度隨著(zhù)微裂紋長(cháng)度的增大而急劇降低,當裂紋大于1μm時(shí),下降趨勢逐漸平緩,并趨于穩定小值。
磨片過(guò)程不僅會(huì )造成硅片背面的微裂紋,且表面的殘余應力還會(huì )引起硅片翹曲。硅片的背面減薄工芯對芯片碎裂有著(zhù)直接的影響,因此需要開(kāi)發(fā)新技術(shù),實(shí)現背面減薄工藝集成,以提高硅片減薄的效率,減少芯片的碎裂。

磨片過(guò)程不僅會(huì )造成硅片背面的微裂紋,且表面的殘余應力還會(huì )引起硅片翹曲。硅片的背面減薄工芯對芯片碎裂有著(zhù)直接的影響,因此需要開(kāi)發(fā)新技術(shù),實(shí)現背面減薄工藝集成,以提高硅片減薄的效率,減少芯片的碎裂。

減薄后的硅片被送進(jìn)劃片機進(jìn)行劃片,劃片槽的斷面往往比較粗糙,通常存在少量微裂紋和凹坑;有些地方甚至存在劃片未劃到底的情況,取片時(shí)就要靠頂針的頂力作用使芯片“被迫”分離,斷口呈不規則狀,如圖4為多個(gè)樣品的疊加圖。實(shí)驗表明,劃片引起芯片邊緣的損傷同樣會(huì )嚴重影響芯片的碎裂強度。例如:斷口存在微裂紋或凹槽的芯片,在后續的引線(xiàn)鍵合工藝的瞬時(shí)沖擊下或者包封后熱處理過(guò)程中由于熱膨脹系數(CTE)的不匹配產(chǎn)生的應力使微裂紋擴展而發(fā)生碎裂。


為減少劃片工藝對芯片的損傷,目前已有新的劃片技術(shù)相繼問(wèn)世:先劃片后減薄(dicingbeforegrinding,DBG)法和減薄劃片法(dicingbythinning,DBT)5,即在硅片背面減薄之前,先用磨削或腐蝕方式在正面切割出切口,實(shí)現減薄后芯片的自動(dòng)分離。這兩種方法可以很好地避免/減少因減薄引起的硅片翹曲以及劃片引起的芯片邊緣損傷。此外,采用非機械接觸加工的激光劃片技術(shù)也可避免機械劃片所產(chǎn)生的微裂痕、碎片等現象,大大地提高成品率。
1.3 模塊工藝
模塊工藝包括裝片、包封等工序)的裝片過(guò)程中,裝片機頂針從貼片膜上頂起芯片,由真空吸頭吸起芯片,將其粘結到芯片卡的引線(xiàn)框上。若裝片機工藝參數調整不當,亦會(huì )造成芯片背面損傷,嚴重影響芯片強度:如頂針頂力不均或過(guò)大,導致頂針刺穿藍膜而直接作用于芯片,在芯片背面留有圓型損傷坑;或頂針在芯片背面有一定量的平等滑移過(guò)程,留下較大面積的劃痕,此現象在碎裂芯片中占了相當比例。
1.3 模塊工藝
模塊工藝包括裝片、包封等工序)的裝片過(guò)程中,裝片機頂針從貼片膜上頂起芯片,由真空吸頭吸起芯片,將其粘結到芯片卡的引線(xiàn)框上。若裝片機工藝參數調整不當,亦會(huì )造成芯片背面損傷,嚴重影響芯片強度:如頂針頂力不均或過(guò)大,導致頂針刺穿藍膜而直接作用于芯片,在芯片背面留有圓型損傷坑;或頂針在芯片背面有一定量的平等滑移過(guò)程,留下較大面積的劃痕,此現象在碎裂芯片中占了相當比例。
Fig頂針作用可等效為Vicker壓痕器4壓載過(guò)程,將對芯片表面造成局部損傷?,F將頂針對芯片背面的觸碰過(guò)程(暫不考慮頂針的滑移)簡(jiǎn)化為球對稱(chēng)平面垂直加載的理想情況,則兩者接觸圓半徑a隨垂直載荷P的變化為a=34PR(1-v2)/E+(1-v′2)/E′1/3=αP1/3,式中R是頂針端部半徑,E,v和E′,v′分別為芯片、頂針端部的楊氏模量和泊松比。在接觸圓的邊緣,芯片的張應力分量達到極大值σm=12(1-2v)P0,其中P0=P/πα2是端部所受的垂直應力,σm為作用在徑向方向并且與材料表面平等的應力。由于頂針尖端半徑較小,取硅材料v=0。28,在1N頂力作用下,得到芯片張力分量極大值與接觸半徑的對應關(guān)系如圖5??梢?jiàn),初始情況下,接觸半徑很小,芯片張力分量初始值可達到GPa量級,與前面計算結果比較可知,頂針過(guò)程是芯片碎裂的一個(gè)主要誘因。
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