EDWARDS發(fā)布用于LED和化合物半導體制造的新型真空泵

　　全球領(lǐng)先的高精真空設備和尾氣處理系統制造商及相應增值服務(wù)供應商Edwards公司宣布推出新的iXH645H干泵，新設備經(jīng)過(guò)優(yōu)化，適用于LED制造中使用的MOCVD工藝，以及在柵堆疊(gate stack)中使用III-V材料的化合物半導體制造工藝。請參觀(guān)Edwards公司在InterSolar展會(huì )和SEMICON/West展會(huì )的5351號展臺，以便了解有關(guān)iXH系列的更多信息。上述兩個(gè)展會(huì )將于2012年7月10-12日在美國加利福尼亞州舊金山舉辦。

　　iXH645H提供了非常高的氣流量，并能夠在最新一代LED制造設備所需的高負載下連續工作。iXH系列干泵采用先進(jìn)的技術(shù)，最大限度地減少了維護需求，并實(shí)現正常運行時(shí)間最大化，有助于降低成本?！　?/p>

　　Edwards公司LED市場(chǎng)經(jīng)理邵偉稱(chēng)：“iXH系列干泵的新成員是設計用于滿(mǎn)足兩個(gè)快速發(fā)展的高技術(shù)制造細分市場(chǎng)的需求。由于具備出色的照明效率，LED照明產(chǎn)品逐漸被視為白熾燈照明的環(huán)保替代選擇，我們看到，中國、韓國、日本和英國最近通過(guò)立法，將逐步淘汰傳統的大功率照明產(chǎn)品。”

　　邵偉補充道：“同時(shí)，在化合物半導體制造中使用III-V材料，正在推動(dòng)摩爾定律(Moore’s Law)延續到下一代設計節點(diǎn)。”

　　LED和化合物半導體制造工藝通常使用大流量氕氣和高腐蝕性氨氣。iXH645H業(yè)已進(jìn)行設計優(yōu)化以滿(mǎn)足這些要求，具有出色的氫氣抽空性能并采用耐腐蝕設計，包括一個(gè)保護泵密封物的專(zhuān)利氮氣吹掃屏障(purge barrier)。XH645泵具有高溫工作能力，有助于防止可能出現的磷化合物冷凝。另外，該泵先進(jìn)的油潤滑和密封技術(shù)省去了定期保養需求，同時(shí)其散熱和電機設計可以防止出現過(guò)熱、電機過(guò)載或工作區域受限等問(wèn)題。iXH645H泵的優(yōu)化溫度控制系統確保泵在約30分鐘啟動(dòng)時(shí)間內為工藝做好準備。