低端光掩模 文章 進(jìn)入低端光掩模技術(shù)社區

三星外包低端光掩模，將資源集中在A(yíng)rF和EUV上

• 據 The Elec 報道，三星計劃外包用于存儲芯片制造的光掩模的生產(chǎn)。到目前為止，該公司一直在內部生產(chǎn)所有光掩模，以防止技術(shù)泄漏。Elec 表示，據報道，三星正在評估低端光掩模的潛在供應商，例如 i-line 和 KrF。與此同時(shí)，消息人士稱(chēng)，三星計劃將 i-line 和 KrF 光掩模外包，以便將這些資源重新分配給 ArF 和 EUV。正如報告所強調的那樣，ArF 和 EUV 光掩模更先進(jìn)，將成為增強三星技術(shù)競爭力的關(guān)鍵。據 Business Korea 援引消
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