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duv 文章 進(jìn)入duv技術(shù)社區
美國發(fā)起的對華聯(lián)合出口限制留下漏洞？
- 據報道，荷蘭和日本已與美國達成協(xié)議，共同限制向中國出口芯片制造工具，這將進(jìn)一步削弱中國半導體行業(yè)的發(fā)展，因為除了限制中國制造商使用 EUV 光刻機外，進(jìn)一步限制其使用浸沒(méi)式 DUV 光刻機。但在美國對中國發(fā)起的嚴格出口限制中，中國半導體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來(lái)緩沖沖擊？這似乎是一個(gè)值得仔細研究的問(wèn)題。近年來(lái)，美國加大了對中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設計了各種策略和行動(dòng)，還動(dòng)員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實(shí)施全面出口限制后，美國急于讓擁有 ASML
- 關(guān)鍵字： EUV DUV 深紫外光刻機
EUV光刻機開(kāi)始“落幕”了
- 說(shuō)到光刻機大家難免會(huì )想到三個(gè)廠(chǎng)商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備?，F如今光刻機領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動(dòng)作，才奠定了ASML在光刻機領(lǐng)域的核心地位。后續ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產(chǎn)。這就進(jìn)一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著(zhù)科技的不斷發(fā)展，市場(chǎng)就要越來(lái)越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長(cháng)時(shí)間壟斷，導致其他同行沒(méi)有辦法發(fā)展。在他自身無(wú)法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
- 關(guān)鍵字： 光刻機 ASML DUV EUV
ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同
- 近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買(mǎi)晶圓生產(chǎn)設備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱(chēng)“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買(mǎi)到其他所有型號的光刻機?！钡沁@一說(shuō)法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現有協(xié)議相關(guān)?！ 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區別呢？EUV也就是“極深紫外線(xiàn)”的意思，而DUV是“深紫外線(xiàn)”的意思，通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實(shí)際上也是如此?！ SML澄清與中
- 關(guān)鍵字： 中芯國際 ASML DUV EUV
Gigaphoton發(fā)布新的DUV光源產(chǎn)品規劃圖
- 半導體光刻光源的主要供應商Gigaphoton株式會(huì )社(母公司：栃木縣小山市，董事長(cháng)：浦中克己)宣布，為提高設備的工作效率，公司將制定新的產(chǎn)品規劃圖，以應對需求量不斷高漲的半導體廠(chǎng)家的要求。 Gigaphoton此次制定的產(chǎn)品規劃圖“RAM Enhancement”加強了DUV光源受激準分子激光器的可靠性(Reliability)、可用性(Availability)以及可維護性(Maintainability)。公司已經(jīng)開(kāi)始行動(dòng)，將在2020年前打破被業(yè)界定位為極限的&l
- 關(guān)鍵字： Gigaphoton DUV
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