EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
微影技術(shù)
微影技術(shù) 文章 進(jìn)入微影技術(shù)技術(shù)社區
半導體廠(chǎng)倚重EUV 先進(jìn)微影技術(shù)的強勁需求
- 微影設備業(yè)者ASML第一季已完成136臺極紫外光（EUV）曝光機出貨，累計超過(guò)7,000萬(wàn)片晶圓完成EUV曝光。隨著(zhù)EUV微影技術(shù)推進(jìn)，預期2025年之后新一代EUV曝光機每小時(shí)曝光產(chǎn)量可達220片以上，以因應客戶(hù)端先進(jìn)制程推進(jìn)至埃米（Angstrom）世代對先進(jìn)微影技術(shù)的強勁需求。雖然2023年半導體市況能見(jiàn)度低且不確定性高，但包括臺積電、英特爾、三星、SK海力士、美光等全球前五大半導體廠(chǎng)仍積極投資EUV產(chǎn)能，加上制程推進(jìn)會(huì )帶動(dòng)光罩層數增加，法人樂(lè )觀(guān)看好家登、帆宣、公準、意德士（等EUV概念股明年營(yíng)運將
- 關(guān)鍵字： 微影技術(shù) ASML EUV
三星跟隨英特爾和臺積電 5億歐元注資ASML公司
- 據外國媒體報道，荷蘭微影設備廠(chǎng)ASML宣布，三星公司已同意向ASML投資5.03億歐元(約合6.29億美元)，獲得該公司3%股權。此外，三星承諾在未來(lái)5年將向ASML公司投資2.76億歐元(約合3.45億美元)，支持ASML研發(fā)下一代微影技術(shù)。 此前，臺積電和英特爾公司已宣布分別以8.38億歐元和33億歐元收購ASML公司5%和15%股權。同時(shí)，臺積電公司承諾在未來(lái)5年向ASML投入2.76億歐元，用于A(yíng)SML的研發(fā)計劃。 ASML公司之前曾邀英特爾、臺積電和三星等公司加入由其
- 關(guān)鍵字： 三星 微影技術(shù)
臺積電發(fā)布6月報告 營(yíng)收環(huán)比增長(cháng)5.3%
- 臺灣積體電路制造股份有限公司(臺積電)10日公布2009年6月?tīng)I收報告，就非合并財務(wù)報表方面，營(yíng)收約為新臺幣257億7800萬(wàn)元，較2009年5月增加了5.3%，較去年同期減少了9.6%。累計2009年1至6月?tīng)I收約為新臺幣1095億5600萬(wàn)元，較去年同期減少了35.9%。 就合并財務(wù)報表方面，2009年6月?tīng)I收約為新臺幣265億1500萬(wàn)元，較2009年5月增加了5.0%，較去年同期減少了10.0%;累計2009年1至6月?tīng)I收約為新臺幣1137億1200萬(wàn)元，較去年同期減少了35.3%。
- 關(guān)鍵字： 臺積電 22納米 微影技術(shù)
臺積電與CEA-Leti合作推動(dòng)無(wú)光罩微影技術(shù)
- 為積極朝向22納米制程技術(shù)前進(jìn)，臺積電宣布與法國半導體研究機構CEA-Leti簽訂合作協(xié)議，將參與由CEA-Leti主持的IMAGINE產(chǎn)業(yè)研究計畫(huà)，就半導體制造中的無(wú)光罩微影技術(shù)進(jìn)行合作，這項計畫(huà)為期3年。日前曾傳出，由于經(jīng)濟前景不明，部分設備商延后22納米制程技術(shù)研發(fā)，臺積電此舉則希望更積極主動(dòng)推動(dòng)22納米無(wú)光罩微影技術(shù)。 這次臺積電參與的CEA-Leti IMAGINE研究計畫(huà)為期3年，所有參與這項計畫(huà)的公司都可取得無(wú)光罩微影架構供IC制造使用，也可以藉由設備商Mapper所提供的技術(shù)提高
- 關(guān)鍵字： 臺積電 22納米 微影技術(shù)
| 共5條 1/1 1 |
微影技術(shù)介紹
微影技術(shù)(Lithography)是制造晶體管及它們之間的連結的關(guān)鍵技術(shù)，在半導體制程上較狹義之定義，一般是指以光子束經(jīng)由圖罩(Mask, Reticle)對晶圓(Wafer)上之阻劑照射；以電子束、離子束經(jīng)由圖罩、圖規(Stencil)對阻劑照射；或不經(jīng)由圖罩、圖規，對阻劑直接照射（直寫(xiě)），使阻劑產(chǎn)生極性變化、主鏈斷鏈、主鏈交連等化學(xué)作用，經(jīng)顯影后將圖罩、圖規或直寫(xiě)之特定圖案轉移至晶圓?！ ? [ 查看詳細 ]
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì )員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473