北方微電子三種高端設備亮相SEMICON

　　為了應對市場(chǎng)變化，北方微電子在集成電路設備研發(fā)的基礎上加大了太陽(yáng)能電池領(lǐng)域高端設備的研發(fā)投入，開(kāi)發(fā)出集成電路12英寸65納米硅刻蝕機、晶硅太陽(yáng)能電池PECVD設備和薄膜太陽(yáng)能電池PVD設備，三種高端設備將在本次展會(huì )上同時(shí)亮相。

　　北方微電子新研制的1 2 英寸NMC612A等離子刻蝕機，在滿(mǎn)足用戶(hù)對65納米多種硅刻蝕工藝需求的同北方微電子三種高端設備亮相SEMICON時(shí)，強調大工藝窗口，小占地空間，低耗材價(jià)格，高智能軟件等幾大優(yōu)勢，同時(shí)還注重45納米的工藝延伸能力。經(jīng)過(guò)一年的生產(chǎn)線(xiàn)驗證，已經(jīng)得到了生產(chǎn)線(xiàn)的較高評價(jià)。

　　針對綠色能源產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，北方微電子快速響應市場(chǎng)需求，開(kāi)發(fā)完成了新型晶硅太陽(yáng)能電池設備ESSINDTM平板式PECVD系統。該設備用于晶硅太陽(yáng)能電池的減反射和鈍化工藝的氮化硅薄膜沉積，是國產(chǎn)先進(jìn)的大產(chǎn)能平板式設備。

　　同時(shí)，北方微電子非常重視薄膜太陽(yáng)能領(lǐng)域的發(fā)展，通過(guò)與國外公司技術(shù)合作，成功開(kāi)發(fā)出ROCSTM1500太陽(yáng)能平板式PVD設備，主要應用于5代薄膜太陽(yáng)能電池面板的金屬化、TCO透明電極制備和窗口層/吸收層制備工藝，該設備在晶硅太陽(yáng)能和TFT等領(lǐng)域也有廣泛的應用前景。