pecvd 文章進(jìn)入pecvd技術(shù)社區

高效晶體硅電池技術(shù)-表面鈍化

早期采用TiO2膜或MgF2/ZnS混合膜以增加對入射光的吸收，但該方法均需先單獨采用熱氧化方法生長(cháng)一層10～20umSiO2使硅片表面非晶化、且對多晶效果不理想。SixNy膜層不僅減緩漿料中玻璃體對
關(guān)鍵字：晶體硅絲網(wǎng)印刷 HF-PECVD

電子產(chǎn)品世界,為電子工程師提供全面的電子產(chǎn)品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術(shù)中心和交流中心,是電子產(chǎn)品的市場(chǎng)中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網(wǎng)絡(luò )家園
關(guān)鍵字： RFMEMS開(kāi)關(guān) 驅動(dòng)電壓開(kāi)關(guān)時(shí)間楊氏模量 PECVD

　　以評估高深寬比TSV 應用的金屬化制程　　濕式納米薄膜沉積工藝能夠以低持有成本提供20:1深寬比TSV 　　3D 整合正朝著(zhù)中段鉆孔(via middle approach)的做法發(fā)展，即在前端工藝之后，但卻在堆疊之前形成TSV。一些應用正處于研發(fā)階段，導致TSV技術(shù)的限制和不同規格。 Alchimer 的技術(shù)顯示出突破現有障礙，實(shí)現高深寬比TSV 的潛力。此次協(xié)作將評估其技術(shù)的潛力及其大批量生產(chǎn)的適用性。　　Alchimer 的執行長(cháng)Bruno Morel 表示：「目前的技術(shù)，例如PECV
關(guān)鍵字： Alchimer PECVD

　　應用材料公司宣布推出全新等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)薄膜技術(shù)，用于制造適用于下一代平板電腦和電視的更高性能高分辨率顯示。這些源自應用材料公司業(yè)界領(lǐng)先的AKT-PECVD系統的先進(jìn)絕緣薄膜，使得基于金屬氧化物的晶體管的應用成為可能，制造出尺寸更小、開(kāi)關(guān)速度更快的像素，從而幫助客戶(hù)推出更受消費者歡迎的高分辨率顯示屏。　　應用材料公司的全新PECVD設備沉積絕緣介電薄膜，為金屬氧化物晶體管提供了一個(gè)良好的層間界面，從而最大限度地減少了氫雜質(zhì)，提高了晶體管的穩定性，實(shí)現了顯示屏的優(yōu)化性能。這些高
關(guān)鍵字：應用材料 PECVD

　　為了應對市場(chǎng)變化，北方微電子在集成電路設備研發(fā)的基礎上加大了太陽(yáng)能電池領(lǐng)域高端設備的研發(fā)投入，開(kāi)發(fā)出集成電路12英寸65納米硅刻蝕機、晶硅太陽(yáng)能電池PECVD設備和薄膜太陽(yáng)能電池PVD設備，三種高端設備將在本次展會(huì )上同時(shí)亮相。
關(guān)鍵字：北方微電子集成電路 PECVD

光伏發(fā)電將成為未來(lái)電網(wǎng)的支柱和方向。隨著(zhù)我國《可再生能源法》的頒布實(shí)施，以及近兩年我國光伏產(chǎn)業(yè)規模的迅速擴大，生產(chǎn)設備銷(xiāo)量也大幅增長(cháng)。2006年國產(chǎn)光伏電池設備銷(xiāo)售額達到6億元，比2005年增長(cháng)76.6%。預計2007年國產(chǎn)光伏電池設備銷(xiāo)售額將超過(guò)7億元。各類(lèi)國產(chǎn)設備與國際差距不一 PECVD產(chǎn)能及工藝水平已接近世界先進(jìn)水平，得到越來(lái)越多國內用戶(hù)的使用，但設備自動(dòng)化程度(自動(dòng)裝卸片)與國外尚有差距。全自動(dòng)絲網(wǎng)印刷機在核心技術(shù)上無(wú)法取得突破，整體水平和國外差距較大，國內生產(chǎn)線(xiàn)幾乎全部采用了價(jià)
關(guān)鍵字：模擬技術(shù) 電源技術(shù) 光伏發(fā)電再生能源 PECVD 電源

共7條 1/1 1

您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條pecvd!
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對pecvd的理解，并與今后在此搜索pecvd的朋友們分享。創(chuàng )建詞條