Synopsys推出下一代布局布線(xiàn)解決方案
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同時(shí),新版本還推出了支持正在興起的45納米技術(shù)的物理設計。目前,有近百個(gè)采用IC Compiler的客戶(hù)設計正在進(jìn)行中,訂單金額超過(guò)一億美元。IC Compiler正成為越來(lái)越多市場(chǎng)領(lǐng)先的IC設計公司在各種應用和廣泛硅技術(shù)中的理想選擇。2007.03 版的重大技術(shù)創(chuàng )新將為加速其廣泛應用起到重要作用。
Synopsys設計產(chǎn)品集團高級副總裁兼總經(jīng)理Antun Domic 表示:“2007.03版是至今為止IC Compiler最重要的版本,將給數量龐大的用戶(hù)群帶來(lái)前所未有的優(yōu)勢。該版本提供先進(jìn)的核心技術(shù),能夠使用戶(hù)在整個(gè)板設計中獲益,同時(shí),通過(guò)提高M(jìn)CMM優(yōu)化和簽核驅動(dòng)時(shí)序收斂等主要功能的自動(dòng)化水平,提高生產(chǎn)效率?!?
IC Compiler 2007.03引入了用于快速運行模式的新技術(shù),在保證原有質(zhì)量的情況下使運行時(shí)間縮短了35%。新技術(shù)將16 Gb平臺的
容量增加到接近1,000萬(wàn)門(mén),有助于用戶(hù)實(shí)現更大的模塊劃分。該版增加了集成的、層次化的設計規劃的早期介入,有助于用戶(hù)高效處理一億門(mén)級的設計。提高生產(chǎn)能效的另一個(gè)關(guān)鍵在于物理可行性流程,它能夠使用戶(hù)迅速生成和分析多次試驗布局,以確定具體實(shí)現的最佳起始值。
IC Compiler 2007.03為高級設計引入了自適應性MCMM優(yōu)化技術(shù),能夠在保持精度水平相同的情況下,實(shí)現更快的運行速度、更小的內存需求。IC Compiler為設計提供了多角/多模,實(shí)現了真正的并行優(yōu)化,這對高級用戶(hù)而言是一種巨大的優(yōu)勢。這些用戶(hù)不能承受其他布局布線(xiàn)工具連續優(yōu)化對時(shí)序安排的影響,或接受低精度技術(shù)融合。高級設計也可受益于目前已經(jīng)提供的IC Compiler簽核驅動(dòng)時(shí)序收斂。
對于新興的45納米設計,IC Compiler 2007.03可為前沿用戶(hù)提供45納米布局及布線(xiàn)設計規則早期支持,并滿(mǎn)足光刻和與化學(xué)機械拋光(CMP)有關(guān)的金屬一致性的需求。目前,Synopsys正在與全球主要半導體廠(chǎng)商合作,為45納米設計的采用提供生產(chǎn)支持。與90納米和65納米設計一樣,Synopsys的物理部署解決方案率先啟動(dòng)了45納米的流片。
IC Compiler 2007.03版即將出貨。
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