248nm增透膜國際領(lǐng)先:準分子激光器應用擴展
248nm準分子激光器技術(shù)由于輸出波長(cháng)短、能量高、具有窄的脈寬和很高的峰值功率,在工業(yè)、國防等方面,尤其是高功率激光系統包括248nm光刻技術(shù)、激光醫療、激光精細加工中具有極廣的應用前景,也是ICF領(lǐng)域一個(gè)重要的技術(shù)選項。248nm薄膜元件是準分子激光系統中重要的薄膜元器件,其光學(xué)損耗和抗激光損傷性能對激光系統的效率起著(zhù)重大或決定性的作用。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/273748.htm中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所研究了LaF3、MgF2、Al2O3和SiO2薄膜的低吸收、低損耗蒸發(fā)沉積工藝,在此基礎上設計并制備了兩種248nm增透膜,增透膜的剩余反射率均小于0.1%。“天光”準分子激光系統將該所制備的增透膜元件與國際最重要,也代表最高國際水平的德國研制元件進(jìn)行了損傷閾值對比測試,測試波長(cháng)248nm,脈寬24ns。結果顯示,對比德國5.5J/cm2的損傷閾值,該所制備的LaF3/MgF2增透膜平均在7.5J/cm2,最高達到11J/cm2;Al2O3/SiO2制備的增透膜的損傷閾值平均在6J/cm2。證明上海光機所研制的248nm增透膜損傷閾值結果達到國際領(lǐng)先水平。

圖1. 兩種材料組合制備的248nm增透膜的光譜曲線(xiàn)

圖2. 248nm增透膜的損傷閾值對比測試結果
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