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硅襯底LED芯片主要制造工藝解析

作者: 時(shí)間:2011-07-19 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò ) 收藏
題,采用的關(guān)鍵技術(shù)和創(chuàng )新性有以下幾點(diǎn)。

  (1)通過(guò)設計新型陶瓷封裝結構,減少了全反射,使器件獲得高取光效率和合適的光學(xué)空間分布。

  (2)采用電熱隔離封裝結構和優(yōu)化的熱沉設計,以適合薄膜芯片的封裝要求。

  (3)采用高導熱系數的金屬支架,選用導熱導電膠粘結芯片,獲得低熱阻的良好散熱通道,使產(chǎn)品光衰≤5%(1 000 h)。

  (4)采用高效、高精度的熒光膠配比及噴涂工藝,保證了產(chǎn)品光色參數可控和一致性。

  (5)多層復合封裝,降低了封裝應力,實(shí)施SSB鍵合工藝和多段固化制程,提高了產(chǎn)品的可靠性。

  (6)裝配保護二極管,使產(chǎn)品ESD靜電防護提高到8 000 V。

  3、產(chǎn)品測試結果

  3.1 Si襯底

  通過(guò)優(yōu)化Si襯底表面的處理和緩沖層結構,成功生長(cháng)出可用于大功率芯片的外延材料。采用Pt電極作為反射鏡,成功實(shí)現大功率芯片的薄膜轉移。采用銀作為反射鏡,大大提高了反射效率,通過(guò)改進(jìn)反射鏡的設計并引入粗化技術(shù),提高了光輸出功率。改進(jìn)了Ag反射鏡蒸鍍前p型表面的清洗工藝和晶片焊接工藝,改善了銀反射鏡的歐姆接觸,量子阱前引入緩沖結構,提高了芯片發(fā)光效率,優(yōu)化量子阱/壘界面生長(cháng)工藝,發(fā)光效率進(jìn)一步提高,通過(guò)改進(jìn)焊接技術(shù),減少了襯底轉移過(guò)程中芯片裂紋問(wèn)題,芯片制備的良率大幅度提高,且可靠性獲得改善。通過(guò)上述多項技術(shù)的應用和改進(jìn),成功制備出尺寸1 mm×1 mm,350 mA下光輸出功率大于380 mW的藍色發(fā)光芯片,發(fā)光波長(cháng)451 nm,工作電壓3.2 V,完成課題規定的指標。表1為芯片光電性能參數測試結果。

LED芯片電性能參數測試結果

表1 電性能參數測試結果

  注:測試條件為350 mA直流,Ta=25℃恒溫。

  3.2 Si襯底LED封裝

  根據LED的光學(xué)結構及芯片、封裝材料的性能,建立了光學(xué)設計模型和軟件仿真手段,優(yōu)化了封裝的光學(xué)結構設計。通過(guò)封裝工藝技術(shù)改進(jìn),減少了光的全反射,提高了產(chǎn)品的取光效率。改進(jìn)導電膠的點(diǎn)膠工藝方式,并對裝片設備工裝結構與精度進(jìn)行了改進(jìn),采用電熱隔離封裝結構和優(yōu)化的熱沉設計,降低了器件熱阻,提高了產(chǎn)品散熱性能。采用等離子清洗工藝,改善了LED封裝界面結合及可靠性。針對照明應用對光源的光色特性的不同要求,研究暖白、日光白、冷白光LED顏色的影響因素:芯片參數、熒光粉性能、配方、用量,并通過(guò)改進(jìn)熒光膠涂覆工藝,提高了功率LED光色參數的控制能力,生產(chǎn)出與照明色域規范對檔的產(chǎn)品。藍光和白光LED封裝測試結果見(jiàn)表2。表中:φ為光通量;K為光效;P為光功率;R為熱阻;μ為光衰;I為飽和電流。

藍光與白光LED封裝測試結果

表2 藍光與白光LED封裝測試結果

  4、結語(yǔ)

  Si襯底的基LED制造技術(shù)是國際上第三條LED制造技術(shù)路線(xiàn),是LED三大原創(chuàng )技術(shù)之一,與前兩條技術(shù)路線(xiàn)相比,具有四大優(yōu)勢:

第一,具有原創(chuàng )技術(shù)產(chǎn)權,產(chǎn)品可銷(xiāo)往國際市場(chǎng),不受?chē)H專(zhuān)利限制;

  第二,具有優(yōu)良的性能,產(chǎn)品抗靜電性能好,壽命長(cháng),可承受的電流密度高;

  第三,器件封裝工藝簡(jiǎn)單,芯片為上下電極,單引線(xiàn)垂直結構,在器件封裝時(shí)只需單電極引線(xiàn),簡(jiǎn)化了封裝工藝,節約了封裝成本;

  第四,由于Si襯底比前兩種技術(shù)路線(xiàn)使用的藍寶石和SiC價(jià)格便宜得多,而且將來(lái)生產(chǎn)效率更高,因此成本低廉。

  經(jīng)過(guò)三年的科技攻關(guān),課題申請發(fā)明專(zhuān)利12項、實(shí)用新型專(zhuān)利7項,該技術(shù)成功突破了美國、日本多年在半導體發(fā)光芯片(LED)方面的專(zhuān)利技術(shù)壁壘,打破了目前日本日亞公司壟斷藍寶石襯底和美國CREE公司壟斷SiC襯底半導體照明技術(shù)的局面,形成了藍寶石、SiC、Si襯底半導體照明技術(shù)方案三足鼎立的局面。因此采用Si襯底的LED產(chǎn)品的推出,對于促進(jìn)我國擁有知識產(chǎn)權的半導體LED照明產(chǎn)業(yè)的發(fā)展有著(zhù)重大意義。


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