壽命長(cháng)、穩定性高的μLED技術(shù)簡(jiǎn)介
寬能隙(Wide Bandgap)半導體氮化鎵(GaN)及其相關(guān)化合物半導體材料,被廣泛開(kāi)發(fā)用于照明及各種光電元件上。氮化鎵發(fā)光二極體(GaN LED)發(fā)光波長(cháng)涵蓋綠光至深紫外光波段,在可預見(jiàn)的未來(lái),將完全取代傳統白熾燈泡及螢光燈做為照明光源。
另一種潛在的光電元件是微光電陣列元件(Micro Optoelectronic Device),該元件集合成千上萬(wàn)如發(fā)光體(Emitter)、偵測器(Detector)、光學(xué)開(kāi)關(guān)(Optical Switch)或光波導(Optical Waveguide)等微型元件于單一晶片上。工研院預期微光電陣列元件未來(lái)將在顯示、生醫感測(Biosensor)、光通訊或光纖通訊、光互連 (Interconnect)及訊號處理(Signal Process)領(lǐng)域上扮演重要角色。
微發(fā)光二極體陣列(Micro LED Array)透過(guò)定址化驅動(dòng)技術(shù)做為顯示器,除具有LED的高效率、高亮度、高可靠度及反應時(shí)間快等特點(diǎn),其自發(fā)光顯示--無(wú)需背光源的特性,更具節能、機構簡(jiǎn)易、體積小、薄型等優(yōu)勢。Micro LED比起同樣是自發(fā)光的有機發(fā)光二極體(OLED)顯示器,有較佳的材料穩定性、壽命長(cháng)、無(wú)影像烙印等問(wèn)題,其獨特的高亮度特性在投影式顯示應用,如微投影(Pico Projection)、頭戴式光學(xué)透視顯示器(See-through HMD)、抬頭顯示器(Head-up Display, HUD)等,更具競爭力。此外,奈秒(Nano Second)等級的高速響應特性使得LED顯示器除適合做叁維(3D)顯示外,更能高速調變、承載訊號,做為智慧顯示器的可視光無(wú)線(xiàn)通訊功能。
Micro LED技術(shù)塬理
Micro LED微顯示器的晶片表面必須製作成如同LED顯示器般之陣列結構,且每一個(gè)點(diǎn)畫(huà)素(Pixel)必須可定址控制、單獨驅動(dòng)點(diǎn)亮。若透過(guò)互補式金屬氧化物半導體(CMOS)電路驅動(dòng)則為主動(dòng)定址驅動(dòng)架構,Micro LED陣列晶片與CMOS間可透過(guò)封裝技術(shù),如覆晶封裝方式(Flip Chip Bonding)形成電性連結。黏貼完成后Micro LED能藉由整合微透鏡陣列(Microlens Array),提高亮度及對比度。圖1是被動(dòng)定址Micro LED微顯示晶片,Micro LED陣列經(jīng)由垂直交錯的正、負柵狀電極(P-metal Line N-metal Line)連結每一顆Micro LED的正、負極,透過(guò)電極線(xiàn)的依序通電,透過(guò)掃描方式點(diǎn)亮Micro LED以顯示影像。主動(dòng)驅動(dòng)顯示器比被動(dòng)矩陣驅動(dòng)方式更節能、更快反應速度,向來(lái)是高解析顯示器主流驅動(dòng)方式。
圖1 Micro LED被動(dòng)定址陣列架構示意圖及晶片照片
Micro LED技術(shù)挑戰亟待突破
Micro LED(《50微米(μm))存在有別于一般尺寸(》100微米)LED的特性。例如一般尺寸LED幾乎沒(méi)有電流擁擠(Current Crowding)、熱堆積等問(wèn)題,且因晶格應力釋放及較大出光表面而可能有較佳的效率等優(yōu)勢。相對的,較大表面積的Micro LED可能因表面缺陷多而有較大的漏電路徑,微小電極提高串聯(lián)電阻值,都會(huì )影響發(fā)光效率。因此,微型LED陣列化製程開(kāi)發(fā)及微型LED的結構設計須克服上述問(wèn)題。此外,Micro LED的均勻度關(guān)係到成像品質(zhì)及產(chǎn)品良率,為技術(shù)開(kāi)發(fā)挑戰之一。
事實(shí)上,目前的Micro LED微顯示器均為單光色,塬因在于單一基板上很難同時(shí)有磊晶成長(cháng)不同波長(cháng),并且保持高品質(zhì)的LED。因此,據文獻資料顯示,美商3M可能以波長(cháng)轉換的方式將藍光(或UV)光透過(guò)量子井光激發(fā)層轉成紅、(藍)、綠光,構成叁塬色光模式(RGB)畫(huà)素。而索尼(Sony)、OKI等廠(chǎng)商則傾向採用以分次轉貼紅、藍、綠光Micro LED磊晶薄膜的技術(shù)(Epi-film Transfer),構成彩色Micro LED陣列。在Micro LED畫(huà)素大小約10微米尺度下,RGB陣列技術(shù)是全球各團隊亟待突破的技術(shù)瓶頸。
各國技術(shù)研發(fā)迭有進(jìn)展
德州科技大學(xué)(Texas Tech University)的江教授團隊在2011年底發(fā)表了至目前為止,全球密集度最高(1,693dpi)的綠光主動(dòng)定址Micro LED陣列晶片(圖2),達視訊圖形陣列(VGA)(640×480)解析度。此種微顯示器結合Micro LED陣列和CMOS的驅動(dòng)積體電路(IC),每個(gè)Micro LED單體下都有一驅動(dòng)電晶體電路,可個(gè)別控制發(fā)光。
圖2 德州科大所開(kāi)發(fā)的主動(dòng)
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