理解功率MOSFET的RDS(ON)溫度系數特性
通常,許多資料和教材都認為,MOSFET的導通電阻具有正的溫度系數,因此可以并聯(lián)工作。當其中一個(gè)并聯(lián)的MOSFET的溫度上升時(shí),具有正的溫度系數導通電阻也增加,因此流過(guò)的電流減小,溫度降低,從而實(shí)現自動(dòng)的均流達到平衡。同樣對于一個(gè)功率MOSFET器件,在其內部也是有許多小晶胞并聯(lián)而成,晶胞的導通電阻具有正的溫度系數,因此并聯(lián)工作沒(méi)有問(wèn)題。但是,當深入理解功率MOSFET的傳輸特性和溫度對其傳輸特性的影響,以及各個(gè)晶胞單元等效電路模型,就會(huì )發(fā)現,上述的理論只有在MOSFET進(jìn)入穩態(tài)導通的狀態(tài)下才能成立,而在開(kāi)關(guān)轉化的瞬態(tài)過(guò)程中,上述理論并不成立,因此在實(shí)際的應用中會(huì )產(chǎn)生一些問(wèn)題,本文將詳細地論述這些問(wèn)題,以糾正傳統認識的局限性和片面性。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/188531.htm功率MOSFET傳輸特征
三極管有三個(gè)工作區:截止區、放大區和飽和區,而MOSFET對應的是關(guān)斷區、飽和區和線(xiàn)性區。MOSFET的飽和區對應著(zhù)三極管的放大區,而MOSFET的線(xiàn)性區對應著(zhù)三極管的飽和區。MOSFET線(xiàn)性區也叫三極區或可變電阻區,在這個(gè)區域,MOSFET基本上完全導通。
當MOSFET工作在飽和區時(shí),MOSFET具有信號放大功能,柵極的電壓和漏極的電流基于其跨導保持一定的約束關(guān)系。柵極的電壓和漏極的電流的關(guān)系就是MOSFET的傳輸特性。
其中,μn為反型層中電子的遷移率,COX為氧化物介電常數與氧化物厚度比值,W和L分別為溝道寬度和長(cháng)度。
溫度對功率MOSFET傳輸特征影響
在MOSFET的數據表中,通??梢哉业剿牡湫偷膫鬏斕匦?。注意到25℃和175℃兩條曲線(xiàn)有一個(gè)交點(diǎn),此交點(diǎn)對應著(zhù)相應的VGS電壓和ID電流值。若稱(chēng)這個(gè)交點(diǎn)的VGS為轉折電壓,可以看到:在VGS轉折電壓的左下部分曲線(xiàn),VGS電壓一定時(shí),溫度越高,所流過(guò)的電流越大,溫度和電流形成正反饋,即MOSFET的RDS(ON)為負溫度系數,可以將這個(gè)區域稱(chēng)為RDS(ON)的負溫度系數區域。
圖1 MOSFET轉移特性
而在VGS轉折電壓的右上部分曲線(xiàn),VGS電壓一定時(shí),溫度越高,所流過(guò)的電流越小,溫度和電流形成負反饋,即MOSFET的RDS(ON)為正溫度系數,可以將這個(gè)區域稱(chēng)為RDS(ON)正溫度系數區域。
功率MOSFET內部晶胞的等效模型
在功率MOSFET的內部,由許多單元,即小的MOSFET晶胞并聯(lián)組成,在單位的面積上,并聯(lián)的MOSFET晶胞越多,MOSFET的導通電阻RDS(ON)就越小。同樣的,晶元的面積越大,那么生產(chǎn)的MOSFET晶胞也就越多,MOSFET的導通電阻RDS(ON)也就越小。所有單元的G極和S極由內部金屬導體連接匯集在晶元的某一個(gè)位置,然后由導線(xiàn)引出到管腳,這樣G極在晶元匯集處為參考點(diǎn),其到各個(gè)晶胞單元的電阻并不完全一致,離匯集點(diǎn)越遠的單元,G極的等效串聯(lián)電阻就越大。
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