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蔡司顯微鏡事業(yè)部服務(wù)臺灣半導體技術(shù)革命,革新研發(fā)效能

發(fā)布人:12345zhi 時(shí)間:2023-09-07 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章

IC封裝失效分析涵蓋了從電性和功能測試、檢查、排除、高分辨率成像到破壞性失效分析等多個(gè)階段的工作流程。蔡司顯微鏡

IC封裝失效分析涵蓋了從電性和功能測試、檢查、排除、高分辨率成像到破壞性失效分析等多個(gè)階段的工作流程。蔡司顯微鏡

至今已有177年的營(yíng)運歷史,來(lái)自德國的卡爾蔡司 - 顯微鏡事業(yè)部是全球唯一一家提供光學(xué)顯微鏡、電子顯微鏡及3D X-ray顯微鏡三大領(lǐng)域研發(fā)制造的專(zhuān)業(yè)廠(chǎng)商。憑藉著(zhù)傲人的經(jīng)驗與技術(shù)實(shí)力,蔡司在顯微鏡制造領(lǐng)域一直居于全球領(lǐng)先地位,為各行各業(yè)提供啟發(fā)靈感的專(zhuān)業(yè)解決方案,不僅限于顯微鏡本身,還包含完整的分析軟件及定制化服務(wù),協(xié)助客戶(hù)達成卓越的成就。

近年來(lái),臺灣半導體技術(shù)持續蓬勃發(fā)展,成爲全球供應鏈中不可以或缺的一環(huán)??蛻?hù)面臨的挑戰也日益艱鉅,需要以不同的方式思考,從多角度解決問(wèn)題。蔡司顯微鏡事業(yè)部于2021年開(kāi)始在臺灣直營(yíng),以更近距離聆聽(tīng)客戶(hù)需求,并迅速協(xié)助客戶(hù)解決難題,客戶(hù)的成功才是蔡司的成功。

隨著(zhù)高性能運算的需求,半導體先進(jìn)封裝技術(shù)面臨著(zhù)日益增大的樣品尺寸和厚度,以及迅速成長(cháng)的分析需求。然而,現有的分析設備已難以滿(mǎn)足這些挑戰。為了協(xié)助客戶(hù)應對這一變化,蔡司顯微鏡事業(yè)部推出了卓越的AI技術(shù),為3D X-Ray顯微鏡上搭載了名為「DeepScout」的重構軟件,以及針對半導體先進(jìn)封裝的解決方案「SIVA(Sample In Volume Analysis)」,成為半導體研發(fā)的最佳夥伴。

DeepScout打造半導體研發(fā)的利器:高效重構,解決難題,效率提升125倍

在各種顯微鏡中,高分辨率的影像視野通常受到限制,而大視野卻無(wú)法達到所需的分辨率,這兩者之間的平衡是使用者常常面臨的考量。3D X-Ray顯微鏡透過(guò)拍攝樣品180度的2D投影照片,再利用這些照片進(jìn)行3D體積影像的重構。而DeepScout則運用AI中的深度學(xué)習技術(shù),改進(jìn)了重構過(guò)程,學(xué)習3D X-Ray顯微鏡高分辨率掃描影像中的特徵,再透過(guò)點(diǎn)擴散函數還原大視野掃描影像中的細節,讓高分辨率和大視野不再是二選一的難題。

透過(guò)DeepScout技術(shù),工作效率可提高125倍,同時(shí)達成效率與品質(zhì)雙贏(yíng)的目標。以A12芯片拍攝為例,高分辨率掃描使用體素尺寸2.1μm,視野范圍為6.3mm x 4.2mm;而大視野掃描則使用體素尺寸為10μm,視野范圍為30mm x 20mm。然而,透過(guò)DeepScout技術(shù)深度學(xué)習后,將大視野掃描直接重構成體素尺寸2.1μm,視野范圍維持在30mm x 20mm。這不僅節省大量時(shí)間,也確保掃描結果的高品質(zhì)。相比傳統方式,可至少提高125倍的掃描效率,且省去了拼接所需的重疊掃描范圍的考慮。

SIVA技術(shù)助精準解析大體積樣品缺陷

尋找大體積樣品中的缺陷位置并進(jìn)行缺陷分析,就像尋找海中的一根針般困難。然而,蔡司顯微鏡事業(yè)部為此提供了最佳解決方案—SIVA(Sample In Volume Analysis)。這項技術(shù)利用3D X-Ray顯微鏡觀(guān)察樣品內部結構,精準定位失效位置,并將相關(guān)信息傳送到蔡司獨有的fs Laser FIB-SEM系統(Crossbeam Laser),再利用Crossbeam Laser快速切割至失效位置,進(jìn)而透過(guò)超高分辨率的電子顯微鏡觀(guān)察失效位置,不僅極大提升了工作效率,更令缺陷無(wú)所遁形。

舉例來(lái)說(shuō),將SIVA應用于手機的3D封裝芯片上,該芯片內含覆晶黏晶鍵合、焊錫凸塊和基板連接,以及打線(xiàn)和另一晶粒接合。利用Crossbeam Laser,成功精準切斷特定打線(xiàn),且不影響其他區域及下方的晶粒,這是一個(gè)極為成功的應用案例。

使用SIVA技術(shù),首先進(jìn)行3D X-Ray顯微鏡的大視野影像拍攝,整體掃描范圍為12mm乘12mm,體素尺寸為12μm,掃描時(shí)間僅需28分鐘。接著(zhù),在感興趣的區域以高分辨率的參數設定取得目標打線(xiàn)的3D影像,此次掃描范圍為2mm x 2mm,體素尺寸落在2μm,掃描時(shí)間為2小時(shí)。

最后,使用Crossbeam Laser進(jìn)行定位,在fs laser的加持下,僅花費20秒時(shí)間就能切割大小為100μm x 100μm x 150μm的體積,以精準切斷深藏在封裝內的打線(xiàn),而且完全不損傷附近的打線(xiàn)和下方的晶粒。之后可借助電子顯微鏡進(jìn)行更進(jìn)一步的觀(guān)察和分析。

蔡司擁有177年的顯微鏡經(jīng)驗,技術(shù)根基與時(shí)俱進(jìn),結合人工智能和關(guān)聯(lián)技術(shù),大幅改善顯微鏡操作作業(yè)流程,并提高失效分析的成功率。無(wú)論是從Wafer到封裝,蔡司致力于為客戶(hù)提供全面的顯微成像解決方案,成為值得信賴(lài)的最佳合作夥伴。

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