ASML下一代EUV光刻機曝光
9月2日,據WIRED報道,美國零部件部門(mén)已經(jīng)開(kāi)始為ASML的下一代EUV光刻機制造關(guān)鍵部件,該機器有望讓摩爾定律至少再延續10年。霍爾元件等行業(yè)有望也能爭取到行業(yè)技術(shù)發(fā)展的紅利。
位于美國康涅狄格州郊區的一間大型潔凈室里,工程師們已經(jīng)開(kāi)始為一臺空前強大的機器制造關(guān)鍵部件,而這臺機器有望讓芯片制造行業(yè)沿著(zhù)摩爾定律至少再走上10年時(shí)間。
該光刻機組件使用的新技術(shù)能夠極限降低紫外線(xiàn)波長(cháng),從而盡可能縮小所制造的芯片元件尺寸(線(xiàn)寬),從而提高單位面積的性能。
這些組件將在半年后被運輸、組裝成為ASML的新一代EUV光刻機——一座體積有一輛公共汽車(chē)那么大、造價(jià)1.5億美元的龐然大物。

整個(gè)機器包含10萬(wàn)個(gè)部件和2公里長(cháng)的電纜。為保證運輸安全,每臺機器的發(fā)貨需要40個(gè)集裝箱、3架貨機或者20輛卡車(chē)才能完成,當前只有臺積電、三星和英特爾等少數公司才能買(mǎi)得起這種機器。
“這真是一臺不可思議的機器,”麻省理工學(xué)院研究新型晶體管架構的教授Jesús del Alamo說(shuō)?!斑@絕對是一款革命性的產(chǎn)品,是一項突破,將給芯片行業(yè)帶來(lái)新的生命......我認為摩爾定律仍將持續相當長(cháng)一段時(shí)間?!?/div>
在康涅狄格州的工廠(chǎng)里,工程師們將一塊巨大鋁材雕刻成框架,最終讓光罩以納米級的精度在其間移動(dòng),反射極紫外光束。這些光束利用幾面鏡子來(lái)回反射,以驚人精度反復修飾打磨,在硅片上蝕刻出只有幾十個(gè)原子大小的特征圖案。
據悉,造好的組件將于2021年底運往荷蘭的維荷芬(ASML總部及制造基地),然后在2022年初安裝到新一代EUV光刻機的第一臺原型機中。
英特爾表示,預計將在2023年下線(xiàn)第一批芯片。憑借比以往任何機器更精密的制造能力,每顆芯片的晶體管規模都將再上一個(gè)臺階,這臺機器在未來(lái)幾年所生產(chǎn)的芯片都將創(chuàng )造歷史。
喬治敦大學(xué)研究芯片制造的研究分析師威爾·亨特(Will Hunt)表示,EUV光刻機的每個(gè)部件都“極其復雜,復雜得令人吃驚”?!皼](méi)有阿斯麥的機器,就不可能制造出先進(jìn)芯片?!薄昂芏鄸|西都要經(jīng)過(guò)年復一年的調整和試驗,而這些都是非常困難的?!?/div>
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“說(shuō)實(shí)話(huà),沒(méi)有人真的想用極紫外光,”行業(yè)研究公司Real World Technologies芯片分析師David Kanter說(shuō)?!八仍媱澩砹?0年,超出預算10倍。但如果你想制造非常致密的結構,它是你唯一的工具?!?/div>
某種意義上,光刻機就是人類(lèi)通往未來(lái)的工具之一。
就像戈登·摩爾在1975年的演講上提到的,“當一顆芯片上有了1萬(wàn)個(gè)晶體管,人們有什么不能做呢?”
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