uv-led 文章進(jìn)入uv-led技術(shù)社區

中科院：EDA驗證評測技術(shù)

針對國產(chǎn)EDA工具應用推廣的平臺化共性技術(shù)問(wèn)題，研究基于國產(chǎn)EDA工具先進(jìn)工藝設計參考流程，以及關(guān)鍵EDA工具的評測技術(shù)，包括EDA工具的功能對比、性能測試、可兼容性、穩定性、易用性等的測試驗證，形成規范的EDA工具評測報告，以此促進(jìn)國產(chǎn)EDA 工具的改進(jìn)、更新和完善，并指導設計企業(yè)選用合適的EDA工具完成芯片設計。該研究?jì)热莴@得北京市科技計劃項目“國產(chǎn)EDA工具產(chǎn)業(yè)鏈應用推廣示范平臺”項目的支持?；谌ㄖ圃O計流程的EDA評測技術(shù)：針對納米工藝全定制設計流程的系列EDA工具開(kāi)展EDA評測技術(shù)研
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中科院：物聯(lián)網(wǎng)新型體系結構

基于新型非易失存儲的高能效終端架構技術(shù)：為解決資源受限物聯(lián)網(wǎng)終端的“存儲墻”問(wèn)題，利用MRAM、PCM等新型存儲器，構建異構非揮發(fā)存儲架構。通過(guò)研究軟、硬件協(xié)同的異構存儲架構管理技術(shù)，達到降低內存功耗、減小I/O延時(shí)的目的。此項工作得到國家重點(diǎn)研發(fā)計劃、北京市科技計劃、中科院先導專(zhuān)項的支持。AI計算加速技術(shù)：GPU、ASIC、FPGA等AI加速器是實(shí)現高能效AI計算的重要手段，然而受限于移動(dòng)計算環(huán)境對芯片面積、功耗等的要求，AI加速芯片片上緩存容量有限，當計算深度模型時(shí)需要頻繁訪(fǎng)問(wèn)片外存儲，因此“內存墻”
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中科院：硅集成驗證技術(shù)

EDA中心硅集成驗證技術(shù)，聚焦于利用EDA技術(shù)及設計、工藝、封測技術(shù)，實(shí)現多環(huán)節集成、交叉技術(shù)集成，解決高品質(zhì)、高精度、新工程技術(shù)的難題。尤其在硅基芯片+光、+生物、+MEMS等跨學(xué)科創(chuàng )新領(lǐng)域，形成了獨特的解決方案，并成功實(shí)現芯片功能驗證?！?nbsp;設計與工藝集成 ★&nb
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中科院：EDA軟件與先進(jìn)算力平臺服務(wù)技術(shù)

研發(fā)基于Web的EDA工具授權管理技術(shù)、安全可靠的網(wǎng)絡(luò )架構及VPN解決方案，構建EDA軟件管理系統，實(shí)現license的分時(shí)復用策略，解決昂貴EDA工具靈活授權問(wèn)題。該系統支持EDA工具授權的全信息化管理模式，可實(shí)現License授權管理及分析服務(wù)，幫助用戶(hù)優(yōu)化EDA軟件采購方案，降低用戶(hù)軟件成本。研究EDA資源的平臺化技術(shù)與智能EDA計算技術(shù)，構建集成電路高性能EDA平臺，實(shí)現SaaS化的EDA應用創(chuàng )新服務(wù)模式，平臺提供從EDA工具授權、IP庫選擇、項目管理到高性能計算支撐等完整的云端芯片設計解決方案，
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中科院微電子研究所EDA中心研究方向匯總

納米芯片可制造性設計(DFM)技術(shù)：已形成Art-DFMx工具套件，支持65nm-28nm-14nm-7nm的版圖可制造性設計分析，用于面向良率提升和性能提升的版圖優(yōu)化，先進(jìn)工藝CMP工藝后芯片形貌預測；提出了多物理機理耦合建模、基于LDE的有效平坦化長(cháng)度特征提取、多粒度算法并行技術(shù)。部分成果被行業(yè)龍頭企業(yè)應用。獲國家科技重大專(zhuān)項支持。極低功耗設計：研發(fā)了多款性能指標優(yōu)于公開(kāi)文獻報道的亞閾值極低功耗IP以及用于底層低功耗電路優(yōu)化的電路結構-器件尺寸-版圖優(yōu)化工具；研發(fā)亞閾值電路特征化、統計延時(shí)建模、統計時(shí)
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中科院微電子所EDA中心參加國家重點(diǎn)研發(fā)計劃“高性能計算”重點(diǎn)專(zhuān)項2020年度匯報評估交流會(huì )

　2020年12月15日至16日，國家重點(diǎn)研發(fā)計劃“高性能計算”重點(diǎn)專(zhuān)項2018年度匯報評估交流會(huì )在北京召開(kāi)，本次交流會(huì )由科技部高技術(shù)中心發(fā)起，2017年立項項目“面向高性能計算環(huán)境的集成電路設計自動(dòng)化業(yè)務(wù)平臺”的6名項目成員參加了會(huì )議?！　?huì )上，項目負責人陳嵐研究員重點(diǎn)匯報了項目的考核指標完成情況、關(guān)鍵技術(shù)和創(chuàng )新點(diǎn)、組織宣傳成果以及后續的工作計劃。項目立項至今，構建了面向EDA行業(yè)的高性能計算平臺，能夠提供從EDA工具授權、IP庫選擇、項目管理到計算資源智能調度等完整的云端芯片設計解決方案，全方位助力設
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2021集成電路設計自動(dòng)化前沿技術(shù)研討會(huì )圓滿(mǎn)召開(kāi)

2021年6月1日，2021集成電路設計自動(dòng)化前沿技術(shù)研討會(huì )在北京國際會(huì )議中心成功舉辦，會(huì )議由中國科學(xué)院微電子研究所主辦，中國科學(xué)院微電子研究所EDA中心（三維及納米集成電路設計自動(dòng)化技術(shù)北京市重點(diǎn)實(shí)驗室）承辦。國家02專(zhuān)項專(zhuān)家組總體組組長(cháng)葉甜春、中科院微電子研究所黨委書(shū)記戴博偉、華大九天董事長(cháng)劉偉平、概倫電子董事長(cháng)劉志宏、以及來(lái)自清華大學(xué)、北京大學(xué)、中科院計算所、中科院上海微系統所、鴻芯微納、芯華章、新思科技、全芯智造等50余家單位的150余名專(zhuān)家學(xué)者出席了會(huì )議，會(huì )議由中國科學(xué)院微電子研究所EDA中心主
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國家重點(diǎn)研發(fā)計劃“基于高性能計算的集成電路電子設計自動(dòng)化（EDA）平臺”項目順利通過(guò)綜合績(jì)效評價(jià)

2022年3月10日，由中科院微電子所EDA中心陳嵐研究員牽頭承擔的國家重點(diǎn)研發(fā)計劃“高性能計算”重點(diǎn)專(zhuān)項“基于高性能計算的集成電路電子設計自動(dòng)化（EDA）平臺”項目在北京順利通過(guò)項目綜合績(jì)效評價(jià)。本次會(huì )議由科技部高技術(shù)中心“高性能計算”重點(diǎn)專(zhuān)項組織，以“線(xiàn)上+線(xiàn)下”的形式召開(kāi)，科技部高技術(shù)中心領(lǐng)導、項目綜合績(jì)效評價(jià)技術(shù)和財務(wù)專(zhuān)家組、項目承擔單位代表及科研骨干共37人參加了會(huì )議。由錢(qián)德沛院士組成的綜合績(jì)效評價(jià)專(zhuān)家組聽(tīng)取了項目負責
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中國 EDA 產(chǎn)業(yè)回顧：自研“熊貓系統”曇花一現，后錯失 15 年，最終走上崛起之路

EDA 工具素有“芯片之母”的美譽(yù)，是芯片制造最上游的產(chǎn)業(yè)，是銜接集成電路設計、制造和封測的關(guān)鍵紐帶，對行業(yè)生產(chǎn)效率、產(chǎn)品技術(shù)水平都有重要影響。近年來(lái)，國產(chǎn) EDA 產(chǎn)業(yè)受到國家高度重視，且涌現出了大量的 EDA 公司。而事實(shí)上，早在上世紀 80 年代，中國 EDA 產(chǎn)業(yè)也曾有過(guò)短暫的輝煌，但可惜，有如曇花一現，輝煌很快就沉寂下去，并長(cháng)達 15 年之久，這段歷史有著(zhù)怎樣的“隱情”？國產(chǎn) EDA 產(chǎn)業(yè)的轉折點(diǎn)又是從何時(shí)到來(lái)？本期我們讓我們一起走進(jìn) EDA 的發(fā)展史。中國 EDA 產(chǎn)業(yè)失去的 15 年（199
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Mini LED正逢其時(shí)：它有何過(guò)人之處

2021年4月21日凌晨，蘋(píng)果春季新品發(fā)布會(huì )上Mini LED成為最大亮點(diǎn)，推出的新款12.9英寸iPad Pro搭載了Mini LED背光顯示技術(shù)。對于蘋(píng)果而言，Mini LED背光技術(shù)的導入補齊了全平臺HDR的最后一塊拼圖。對于LED行業(yè)而言，意義更為重大。這塊Liquid Retina XDR顯示屏采用了超1萬(wàn)顆Mini LED，共有2596個(gè)局域調光分區，可實(shí)現100萬(wàn)：1的超高對比度，峰值亮度達1600nits，比舊款高出了1000nits，同時(shí)支持P3廣色域、原彩顯示和ProMotion自適應
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說(shuō)出來(lái)你可能不信 MiniLed可能撐不起液晶未來(lái)

在電視的發(fā)展歷程中，液晶顯示產(chǎn)品在當年憑借畫(huà)質(zhì)、超薄等技術(shù)優(yōu)勢擊敗CRT、等離子等顯示技術(shù)，持續霸占電視市場(chǎng)近數十年之久。不過(guò)，其實(shí)自打液晶問(wèn)世至現在，在畫(huà)質(zhì)領(lǐng)域一直飽受詬病。究其原因，簡(jiǎn)單說(shuō)就是液晶顯示技術(shù)的小毛病太多，顯示效果從一開(kāi)始就不如等離子，甚至連CRT都比它強。從2015年開(kāi)始，OLED與量子點(diǎn)等顯示技術(shù)強勢進(jìn)場(chǎng)，憑借畫(huà)質(zhì)上對液晶技術(shù)的碾壓。不少人認為，LCD發(fā)展數十年后的今天，已經(jīng)不能滿(mǎn)足人眼對于極致畫(huà)質(zhì)的需求，技術(shù)變革勢在必行。所以，大廠(chǎng)們都在尋求能夠替代LCD液晶的完美顯示技術(shù)。最近兩年
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京東方首款34英寸玻璃基Mini LED電競顯示器重磅來(lái)襲!

3月31日消息京東方首款34英寸玻璃基Mini LED電競顯示器橫空出世！此款顯示器運用新一代玻璃基Mini LED背光技術(shù)，由BOE MLED和AOC聯(lián)合打造，震撼來(lái)襲！本款顯示器采用全球首創(chuàng )AM玻璃基技術(shù)，是游戲娛樂(lè )必備利器。AM主動(dòng)驅動(dòng), 消除畫(huà)面撕裂，真正實(shí)現健康護眼無(wú)屏閃；玻璃基化繁為簡(jiǎn)，整板設計，拒絕拼縫和拼板色差，其熱膨脹系數低，耐熱沖擊力強，高溫無(wú)翹曲，壽命長(cháng)；另外，玻璃基平整度高，易于固晶，芯片脫落風(fēng)險小，品質(zhì)過(guò)硬。臻享畫(huà)質(zhì) 完美體驗玻璃基背光具備平整度高，光學(xué)均一性強等天然
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聞泰科技：已開(kāi)發(fā)出 Mini / Micro LED 直顯和背光產(chǎn)品，并提供給多個(gè)車(chē)企測試

3 月 16 日消息，據中國證券報報道，聞泰科技已成立新型顯示技術(shù)事業(yè)部，成功開(kāi)發(fā)出 Mini / Micro LED 直顯和背光產(chǎn)品。目前首批樣品已提供給多個(gè)汽車(chē)客戶(hù)測試，反饋情況好。IT之家了解到，聞泰科技上月在接受機構調研時(shí)表示，公司業(yè)務(wù)主要分為三大板塊，包括半導體業(yè)務(wù)、產(chǎn)品集成業(yè)務(wù)和光學(xué)業(yè)務(wù)。聞泰科技表示，2022 年，產(chǎn)品集成業(yè)務(wù)中不僅是手機業(yè)務(wù)改善，筆電、服務(wù)器、IoT（如 TWS 耳機、智能手表）、汽車(chē)電子業(yè)務(wù)都將有明顯貢獻。此外，3 月 15 日，珠海得爾塔光電智能制造產(chǎn)業(yè)園項目（一期）主
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消息稱(chēng)蘋(píng)果正積極擴大 MacBook Pro 的 mini LED 面板供應鏈產(chǎn)能

3 月 26 日消息，天風(fēng)國際分析師郭明錤在最新的推文中表示，雖然筆記本 / PC 市場(chǎng)正遭受通貨膨脹 / 俄烏戰爭的困擾，但蘋(píng)果仍在積極擴大 MacBook Pro 的 mini LED 面板供應鏈產(chǎn)能，目標是增加 20-30%。IT之家稍早前報道，Display Supply Chain Consultants （DSCC）機構日前發(fā)布的一份新報告顯示，得益于配備 mini-LED 顯示屏的新款 MacBook Pro，mini-LED 屏在 2021 年第四季度以 54% 的份額引領(lǐng)了高端筆記本電腦
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