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GaN在射頻功率領(lǐng)域會(huì )所向披靡嗎?

  •   氮 化鎵(GaN)這種寬帶隙材料將引領(lǐng)射頻功率器件新發(fā)展并將砷化鎵(GaAs)和LDMOS(橫向擴散金屬氧化物半導體)器件變成昨日黃花?看到一些媒體 文章、研究論文、分析報告和企業(yè)宣傳文檔后你當然會(huì )這樣認為,畢竟,GaN比一般材料有高10倍的功率密度,而且有更高的工作電壓(減少了阻抗變換損 耗),更高的效率并且能夠在高頻高帶寬下大功率射頻輸出,這就是GaN,無(wú)論是在硅基、碳化硅襯底甚至是金剛石襯底的每個(gè)應用都表現出色!帥呆了!   至少現在看是這樣,讓我們回顧下不同襯底風(fēng)格的GaN:硅基、碳化硅(S
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導入Cascode結構 GaN FET打造高效率開(kāi)關(guān)

  • 為提高高壓電源系統能源效率,半導體業(yè)者無(wú)不積極研發(fā)經(jīng)濟型高性能功率場(chǎng)效應電晶體(FET);其中,采用Cascode結構的...
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英飛凌:GaN功率元件前景雖好,但采用為時(shí)尚早

  • GaN被認為是下一代的功率元件,被賦予了代替SiC的神圣使命。但是近日,來(lái)自英飛凌的MarkMuenzer表示,其前景雖好,但是還沒(méi)到廣泛使用的時(shí)候,因它還有很多未被探索出來(lái)的部分。
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新一代SiC和GaN功率半導體競爭激烈

  •   與現在的Si功率半導體相比,SiC及GaN等新一代功率半導體有望利用逆變器和變流器等大幅提高效率并減小尺寸。2013年采用SiC功率元件和GaN功率元件的事例逐漸增加,同時(shí)各企業(yè)也圍繞這些元件展開(kāi)了激烈的開(kāi)發(fā)競爭。   SiC功率半導體方面,在柵極設有溝道的溝道型MOSFET的開(kāi)發(fā)在2013年大幅加速。以前推出的SiC MOSFET只有平面型,尚未推出溝道型。溝道型MOSFET的導通電阻只有平面型的幾分之一,因此可以進(jìn)一步降低損耗。導通電阻降低后,采用比平面型更小的芯片面積即可獲得相同載流量。也
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元件開(kāi)發(fā)競爭激烈 亞洲企業(yè)紛紛涉足

  •   與現在的Si功率半導體相比,SiC及GaN等新一代功率半導體有望利用逆變器和變流器等大幅提高效率并減小尺寸。2013年采用SiC功率元件和GaN功率元件的事例逐漸增加,同時(shí)各企業(yè)也圍繞這些元件展開(kāi)了激烈的開(kāi)發(fā)競爭。   SiC功率半導體方面,在柵極設有溝道的溝道型MOSFET的開(kāi)發(fā)在2013年大幅加速。以前推出的SiCMOSFET只有平面型,尚未推出溝道型。溝道型MOSFET的導通電阻只有平面型的幾分之一,因此可以進(jìn)一步降低損耗。導通電阻降低后,采用比平面型更小的芯片面積即可獲得相同載流量。也就
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解讀GaN on GaN LED破效率與成本“魔咒”

  • 發(fā)光二極體(LED)的發(fā)光效率遠高于傳統光源,耗電量?jì)H約同亮度傳統光源的20%,并具有體積小、壽命長(cháng)、效率高、不...
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功率半導體的革命:SiC與GaN的共舞(二)

  • GaN和SiC將區分使用  2015年,市場(chǎng)上或許就可以穩定采購到功率元件用6英寸SiC基板。并且,屆時(shí)GaN類(lèi)功率元件 ...
  • 關(guān)鍵字: 功率  半導體  SiC  GaN  

應變工程項目大幅提高了綠色LED的光輸出

  • 中國科學(xué)院近日發(fā)布的一份報告稱(chēng),中國研究人員利用應變工程已將150mA的電流注入了530nm發(fā)光的二極管(LED),光的...
  • 關(guān)鍵字: LED    GaN    MOCVD  

Si基GaN功率器件的發(fā)展態(tài)勢分析

  • 2013年9月5日,首屆“第三代半導體材料及應用發(fā)展國際研討會(huì )”在深圳成功召開(kāi),來(lái)自中科院半導體研究所、南...
  • 關(guān)鍵字: Si基  GaN  功率器件  

大尺寸磊晶技術(shù)突破 GaN-on-Si基板破裂問(wèn)題有解

  • 近年來(lái)氮化鎵(GaN)系列化合物半導體材料已被證實(shí)極具潛力應用于液晶顯示器(LCD)之背光模組、光學(xué)儲存系統、高頻 ...
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硅基GaN LED及光萃取技術(shù)實(shí)現高性?xún)r(jià)比照明

  • 傳統的氮化鎵(GaN)LED元件通常以藍寶石或碳化硅(SiC)為襯底,因為這兩種材料與GaN的晶格匹配度較好,襯底常用尺寸為...
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功率器件的利器 GaN

  •   GaN是什么?   什么是GaN?GaN中文名:氮化嫁,用化學(xué)元素來(lái)解釋就是V族化合物。六方晶系鉛鋅礦型結構,為直接帶隙半導體。室溫禁帶寬度3.39eV。電子和空穴有效慣性質(zhì)量分別為0.19和0.6。電阻率>107Ω·m,電子遷移率 (1.25~1.50)×10-2m2/(V·s)。采用化學(xué)氣相淀積法制備。   GaN材料的研究與應用是全球半導體研究的熱點(diǎn),是研制微電子器件、光電子器件的新型半導體材料,并與SIC、金剛石等半導體材料一起,被
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富士通半導體推出耐壓150V的GaN功率器件產(chǎn)品

  • 富士通半導體(上海)有限公司日前宣布,推出基于硅襯底的氮化鎵(GaN)功率器件芯片MB51T008A,該芯片可耐壓150 V。富士通半導體將于2013年7月起開(kāi)始提供新品樣片。該產(chǎn)品初始狀態(tài)是斷開(kāi)(Normally-off),相比于同等耐壓規格的硅功率器件,品質(zhì)因數(FOM)可降低近一半。
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SiC和GaN是“下一代”還是“當代”?

  •   SiC企業(yè)不斷增多,成本不斷下降”一文中,作者根津在開(kāi)篇寫(xiě)道:“下一代功率半導體已經(jīng)不再特別?!边@是因為,隨著(zhù)使用SiC和GaN等“下一代功率半導體”的大量發(fā)布,在學(xué)會(huì )和展會(huì )的舞臺上,這種功率半導體逐漸帶上了“當代”的色彩。   那么,在使用功率半導體的制造現場(chǎng),情況又是如何呢?雖然使用SiC和GaN的產(chǎn)品目前尚處開(kāi)始增加的階段,仍屬于“下一代”,但在功率半導體使用者的心目中,此類(lèi)產(chǎn)品已逐漸由
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未來(lái)十年GaN和SiC功率半導體市場(chǎng)將以18%的速度穩增

  •   在未來(lái)十年,受電源、光伏(PV)逆變器以及工業(yè)電動(dòng)機的需求驅動(dòng),新興的碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)功率半導體市場(chǎng)將以18%的驚人速度穩步增長(cháng)。   據有關(guān)報告稱(chēng),至2022年SiC和GaN功率半導體的全球銷(xiāo)售額將從2012年的1.43億美元增加到28億美元。據預測,未來(lái)十年這一市場(chǎng)的銷(xiāo)售額將實(shí)現兩位數的年增長(cháng)率。   SiC肖特基二極管已存在十多年,SiC金氧半場(chǎng)效晶體管(MOSFET)、結晶性場(chǎng)效應晶體管(JFET)和雙極型晶體管(BJT)在最近幾年出現。GaN功率半導體則剛剛進(jìn)入市場(chǎng)。G
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