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三星公布新工藝節點(diǎn),2nm工藝SF2Z將于2027年大規模生產(chǎn)
- 據韓媒報道,當地時(shí)間6月12日,三星電子在美國硅谷舉辦“三星晶圓代工論壇2024(Samsung Foundry Forum,SFF)”,并公布了其晶圓代工技術(shù)戰略?;顒?dòng)中,三星公布了兩個(gè)新工藝節點(diǎn),包括SF2Z和SF4U。其中,SF2Z是2nm工藝,采用背面電源輸送網(wǎng)絡(luò )(BSPDN)技術(shù),通過(guò)將電源軌置于晶圓背面,以消除與電源線(xiàn)和信號線(xiàn)有關(guān)的互聯(lián)瓶頸,計劃在2027年大規模生產(chǎn)。與第一代2nm技術(shù)相比,SF2Z不僅提高了PPA,還顯著(zhù)降低了電壓降(IR drop),從而提高了高性能計算(HPC)的性能。
- 關(guān)鍵字: 三星 晶圓代工 SF2Z SF4U
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