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Lam Research 33億美元收購Novellus
- 全球半導體業(yè)最新一次重大并購近期觸發(fā)。據國外媒體報道，芯片制造設備商Lam Research已經(jīng)同意以33億美元的價(jià)格收購Novellus Systems，它打算將兩家公司的芯片制造設備業(yè)務(wù)整合在一起，挑戰市場(chǎng)領(lǐng)袖應用材料(Applied Materials)。這項聲明的發(fā)布日期與市調機構Gartner發(fā)布的2012年半導體設備成長(cháng)將衰退20%的預估報告恰巧為同一天。不過(guò)對于這次半導體設備行業(yè)內的最新一次重大并購案，業(yè)界還是持關(guān)注態(tài)度。 Lam Research今日發(fā)表聲明稱(chēng)，這項收購交易給予N
- 關(guān)鍵字： Novellus 晶圓 芯片制造設備
Novellus業(yè)績(jì)報喜 第二季營(yíng)收3.21億美元
- 半導體設備大廠(chǎng)Novellus Systems于12日公布第2季(4-6月)財報：營(yíng)收年增169.6%(季增16.3%)至3.214億美元;每股稀釋盈余達0.66美元，優(yōu)于1-3月的0.43美元。根據Thomson Reuters的調查，分析師原先預期Novellus 4-6月?tīng)I收、本業(yè)每股稀釋盈余各為3.12億美元、0.60美元。 Novellus 4-6月接單金額季增19.8%至3.849億美元;出貨金額季增17.4%至3.321億美元。Novellus執行長(cháng)Richard S. Hill指
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Novellus第二季虧損5000萬(wàn)美元 高于預估
- 半導體設備制造商Novellus Systems日前公布了較預期嚴重的虧損，在截至6月27日止的第二季凈虧5000萬(wàn)美元或稀釋後每股虧損0.52美元;該公司2008年第二季虧損240萬(wàn)美元或每股0.02美元。 但扣除特殊項目后，Novellus虧損為3,930萬(wàn)美元或每股0.41美元。特殊項目包括1,590萬(wàn)美元裁員費用和縮減部分業(yè)務(wù)的支出等。 根據Reuters Estimates，分析師原平均預估該公司每股虧損0.38美元。 Novellus營(yíng)收較上年同期銳減54%至1.192億
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32nm節點(diǎn)的PVD設備暗戰？
- 半導體產(chǎn)業(yè)的低谷擋不住技術(shù)前進(jìn)的腳步。近期兩大設備廠(chǎng)商Applied Materials和Novellus相繼推出了新型PVD機臺，目標均鎖定為32nm及更小的技術(shù)節點(diǎn)。 5月28日，設備巨頭Novellus宣布開(kāi)發(fā)出HCM(中空陰極磁電管)PVD技術(shù)，稱(chēng)為IONX XL。該機臺可滿(mǎn)足3Xnm技術(shù)節點(diǎn)的薄阻擋層淀積，主要的服務(wù)對象為存儲器制造廠(chǎng)商。由于在3Xnm節點(diǎn)，存儲器的CD相比邏輯器件要小30%，存儲器的銅互連中將更多的采用高深寬比的結構，這為阻擋層和晶籽層的臺階覆蓋性帶來(lái)了挑戰。
- 關(guān)鍵字： Novellus 半導體 PVD 32nm
諾發(fā)在臺積電供應鏈管理論壇上獲得優(yōu)秀供應商獎
- 諾發(fā)公司的VECTOR系統憑借其技術(shù)創(chuàng )新和高效生產(chǎn)力被評為最佳CVD產(chǎn)品 諾發(fā)系統有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代碼：NVLS)宣布，該公司的VECTOR®系統在臺積電2006供應鏈管理論壇上獲得TSMC頒發(fā)的“2006年度優(yōu)秀CVD供應商獎”。350多家TSMC供應商參加了這次活動(dòng)，諾發(fā)公司是獲得“2006年度優(yōu)秀供應商獎”殊榮的十一家公司之一。諾發(fā)公司的VECTOR 300mm等離子增強化學(xué)氣相淀積
- 關(guān)鍵字： NOVELLUS 單片機 供應鏈管理論壇 諾發(fā) 嵌入式系統 臺積電 優(yōu)秀供應商獎
NOVELLUS力推用于65-NM以及更小規格技術(shù)標準的先進(jìn)平面化系統
- Novellus Systems公司（Nasdaq NM代碼：NVLS）于發(fā)布了用于300-mm晶圓生產(chǎn)的化學(xué)機械研磨（CMP）平臺，滿(mǎn)足并超越了65nm及其以下規格標準的技術(shù)和經(jīng)濟需求。Xceda 完全是為了應對新一代多層銅/低k結構中的平面化挑戰而設計的，通過(guò)將溶劑利用率提高到40%，極大地減小了總擁有成本（CoO）。 Novellus Systems總裁 Sass Somekh博士表示：“我們深信Xceda所提供的核心技術(shù)將引領(lǐng)我們擴展到32-nm技術(shù)標準，而無(wú)需對平臺進(jìn)行分裂性的改進(jìn)。事實(shí)上，近期
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