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一種具有故障保護功能的掃描電源設計

  • 在線(xiàn)性電子加速器系統的輻照處理過(guò)程中,需要根據商品的大小、形狀、體積等頻繁調整電子束的掃描寬度。這就要求掃描電源提供可變的交流電以產(chǎn)生磁場(chǎng),使產(chǎn)生的電子隨著(zhù)電流的變化而產(chǎn)生磁轉,并且產(chǎn)生的電子不會(huì )都打到一個(gè)點(diǎn)上,從而確保輻照物品接受輻照的均勻性。由于每種食品接受輻照的能量不同,所以不可能產(chǎn)生的電子束能量都一樣,為確保經(jīng)過(guò)電子束輻照的食品都滿(mǎn)足相應的要求,要通過(guò)控制掃描電源頻率和幅度來(lái)調節電子束偏轉大小和多少來(lái)控制輻照能量的大??;當束流管掃描電源出現故障時(shí),電源必須及時(shí)準確的報給主控臺,以保護束流管以及整個(gè)
  • 關(guān)鍵字: 電子束  掃描電源  遠程復位  磁轉  202104  

半導體制造的工藝與材料發(fā)展趨勢

  • 應用將持續驅動(dòng)芯片業(yè)的發(fā)展。摩爾定律將繼續演進(jìn),但形式正發(fā)生變化,從注重特征尺寸的縮小,正轉變到同時(shí)關(guān)注材料和結構創(chuàng )新。預計中國半導體市場(chǎng)10年內翻番,將帶來(lái)半導體制造的興盛。為了迎接10nm以下的挑戰,應用材料公司近期推出了三款新產(chǎn)品。
  • 關(guān)鍵字: 晶圓  材料工程  設備  刻蝕  電子束  201612  

示波器的原理及應用

  •   導讀:示波器是一種用途十分廣泛的電子測量?jì)x器。它能把肉眼看不見(jiàn)的電信號變換成看得見(jiàn)的圖象,便于人們研究各種電現象的變化過(guò)程。它是觀(guān)察數字電路實(shí)驗現象、分析實(shí)驗中的問(wèn)題、測量實(shí)驗結果必不可少的重要儀器 示波器的原理及應用--工作原理   示波器利用狹窄的、由高速電子組成的電子束,打在涂有熒光物質(zhì)的屏面上,就可產(chǎn)生細小的光點(diǎn)。在被測信號的作用下,電子束就好像一支筆的筆尖,可以在屏面上描繪出被測信號的瞬時(shí)值的變化曲線(xiàn)。利用示波器能觀(guān)察各種不同信號幅度隨時(shí)間變化的波形曲線(xiàn),還可以用它測試各種不同的電量,如
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CRT顯像管電子束著(zhù)屏斑點(diǎn)的仿真分析

  • 電子產(chǎn)品世界,為電子工程師提供全面的電子產(chǎn)品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術(shù)中心和交流中心,是電子產(chǎn)品的市場(chǎng)中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網(wǎng)絡(luò )家園
  • 關(guān)鍵字: CRT  仿真  電子束  CST  

采用電子束檢測技術(shù)輔助晶體管開(kāi)發(fā)

  • 涉足尖端技術(shù)研究工作的芯片制造商正在把無(wú)數新材料和奇特的器件結構結合起來(lái),用于65nm及更低節點(diǎn)的量產(chǎn)。同時(shí)他們發(fā)現,在這些研究上的努力生產(chǎn)的結果還包括目前必須著(zhù)手解決各器件各個(gè)層上出現的越來(lái)越多的細微的
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電子束焊機用高壓電源中的PLC控制系統的設計

  • 摘要:介紹了電子束焊機用高壓電源及其控制系統的要求,根據PLC控制技術(shù)的特點(diǎn),設計了控制系統的硬件電路及其相關(guān)軟件。試驗表明:控制系統的硬件、軟件工作可靠,滿(mǎn)足電子束焊接工藝之需要。 關(guān)鍵詞:可編程控制器
  • 關(guān)鍵字: 控制系統  設計  PLC  電源  焊機  高壓  電子束  

一種120kV電子束焊機用的高壓直流電源裝置

  • 摘要:介紹了雙金屬鋸帶電子束焊機用的高壓直流電源裝置的技術(shù)要求,結合電子束焊機用高壓電源的特點(diǎn),提出一種真空管直接調整式高壓直流電源裝置。詳細介紹了電源的主電路結構和控制電路的工作原理。經(jīng)試驗和現場(chǎng)運
  • 關(guān)鍵字: 直流電源  裝置  高壓  焊機  120kV  電子束  一種  

KLA-Tencor 推出第十代電子束偵測系統

  •   KLA-Tencor 公司(納斯達克股票代碼:KLAC)今天宣布推出 eS35 電子束偵測系統,該系統能夠以大幅提升的速度檢測和分類(lèi)更小的物理缺陷,以及更細微的電子缺陷。eS35 屬于 KLA-Tencor 的第十代電子束偵測系統,它具備更高的靈敏度,改善了單機檢查和分類(lèi),并且顯著(zhù)加強了吞吐能力,以提高 4Xnm 和 3Xnm 設備的良率。   KLA-Tencor 的電子束技術(shù)部集團副總裁兼總工程師 Zain Saidin 表示:“電子束偵測對于捕獲和發(fā)現最小缺陷以及只能通過(guò)它們的電子
  • 關(guān)鍵字: KLA-Tencor  電子束  偵測  半導體  微電子  

22納米后EUV光刻還是電子束光刻?市場(chǎng)看法存分歧

  • 浸潤式微顯影雙重曝光能進(jìn)一步延伸摩爾定律的壽命至32納米,不過(guò),22納米以下究竟哪種技術(shù)得以出頭,爭議不斷。據了解,臺積電目前正積極研發(fā)22納米以下直寫(xiě)式多重電子束(MEBDW)方案,并已有具體成果,但積極推動(dòng)深紫外光(EUV)的ASML則表示,目前已有數家客戶(hù)下單,最快2009年便可出貨,但哪種技術(shù)最終將「一統江湖」,尚未有定論。     ASML表示,目前深紫外光EUV的光波波長(cháng)可達13.5納米,約是248波長(cháng)的KrF顯影設備的15分之1,盡管浸潤式顯
  • 關(guān)鍵字: 消費電子  EUV  電子束  消費電子  

KLA-Tencor推出新一代電子束缺陷再檢查和分類(lèi)系統

  • KLA-Tencor正式推出新一代晶片缺陷再檢查和分類(lèi)系統 eDR-5200。該系統綜合高分辨率圖像和高缺陷再檢查靈敏度,以及與 KLA-Tencor 光學(xué)檢測系統的獨特連接技術(shù),進(jìn)而實(shí)現更高的再檢查效能,更短的良率學(xué)習周期和更高的總體系統生產(chǎn)效率。KLA-Tencor 光學(xué)檢測系統和 eDR-5200 電子再檢查系統的獨特連接,確保生產(chǎn) 45 納米及以下的芯片廠(chǎng)每小時(shí)能建立更多, 更高品質(zhì)的缺陷 Pare
  • 關(guān)鍵字: KLA-Tencor  測量  測試  電子束  工業(yè)控制  工業(yè)控制  
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電子束介紹

【詞語(yǔ)】:電子束   【注音】:diàn zǐ shù   【釋義】:又稱(chēng)電子注。在真空匯集成束??刹捎渺o電場(chǎng)聚焦,磁場(chǎng)聚焦等方法。電子顯微鏡和電視機就是利用電子束形成影像的。 [ 查看詳細 ]

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