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微電子工藝專(zhuān)有名詞(4)

  • 151 RESOLUTION 解析力 1. 定義:解析力在IC制程的對準及印刷(Align & Print)過(guò)程中站著(zhù)相當重要的地位,尤其演進(jìn)到VLSI后,解析力的要求就更高了。它是對光學(xué)系統(如對準機、顯微鏡、望遠鏡等)好壞的評估標準之一,現今多以法國人雷萊(Rayleigh)所制定的標準遵循之。物面上兩光點(diǎn)經(jīng)光學(xué)系統頭于成像面上不會(huì )模糊到只被看成一點(diǎn)時(shí),物面上兩點(diǎn)間之最短距離。若此距離越小,則解析力越大。(通常鏡面大者,即NA大者,其解析力也越大)解析力不佳時(shí),例如對準機對焦不清時(shí),就會(huì )造成C
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微電子工藝專(zhuān)有名詞(1)

  • 1 Active Area 主動(dòng)區(工作區) 主動(dòng)晶體管(ACTIVE TRANSISTOR)被制造的區域即所謂的主動(dòng)區(ACTIVE AREA)。在標準之MOS制造過(guò)程中ACTIVE AREA是由一層氮化硅光罩即等接氮化硅蝕刻之后的局部場(chǎng)區氧化所形成的,而由于利用到局部場(chǎng)氧化之步驟,所以ACTIVE AREA會(huì )受到鳥(niǎo)嘴(BIRD’S BEAK)之影響而比原先之氮化硅光罩所定義的區域來(lái)的小,以長(cháng)0.6UM之場(chǎng)區氧化而言,大概會(huì )有0.5UM之BIRD’S BEAK存在,也就是說(shuō)ACTIVE AREA比原在之
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微電子工藝專(zhuān)有名詞(2)

  • 51 DRAM , SRAM 動(dòng)態(tài),靜態(tài)隨機存取內存 隨機存取記憶器可分動(dòng)態(tài)及靜態(tài)兩種,主要之差異在于動(dòng)態(tài)隨機存取內存(DRAM),在一段時(shí)間(一般是0.5ms~5ms)后,資料會(huì )消失,故必須在資料未消失前讀取元資料再重寫(xiě)(refresh),此為其最大缺點(diǎn),此外速度較慢也是其缺點(diǎn),而DRAM之最大好處為,其每一記憶單元(bit)指需一個(gè)Transistor(晶體管)加一個(gè)Capacitor(電容器),故最省面積,而有最高之密度。而SRAM則有不需重寫(xiě)、速度快之優(yōu)點(diǎn),但是密度低,每一記憶單元(bit)有兩類(lèi)
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福華先進(jìn)微電子推出保護嵌入式軟件之系列芯片FS88x6

  •   目前,有許多嵌入式系統中加入由專(zhuān)用芯片構成的軟件保護模塊,這類(lèi)芯片多為第三代EEPROM存儲型產(chǎn)品,缺點(diǎn)是在端口進(jìn)行數據分析就容易被破解。所以為適應市場(chǎng)的需求,福華先進(jìn)微電子(上海)有限公司推出了一款嵌入式系統軟件的安全保護方案——嵌入式軟件安全衛士,其所用芯片FS88x6具有應用面廣、功耗小、安全性高等特點(diǎn),潛在市場(chǎng)巨大。     此芯片是針對當前市場(chǎng)上, 軟件被竄改盜用的事件層出不窮情況而研發(fā)的,并已成功運用在立體聲藍牙方案、IP網(wǎng)絡(luò )照相機、機頂盒、媒體播放器、DVR/PVR硬
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微電子學(xué)專(zhuān)業(yè)

  • 業(yè)務(wù)培養目標:   業(yè)務(wù)培養目標:本專(zhuān)業(yè)培養掌握微電子學(xué)專(zhuān)業(yè)所必需的基礎知識、基本理論和基本實(shí)驗技能,能在微電子學(xué)及相關(guān)領(lǐng)域從事科研、教學(xué)、科技開(kāi)發(fā)、工程技術(shù)、生產(chǎn)管理與行政管理等工作的高級專(zhuān)門(mén)人才。   業(yè)務(wù)培養要求:本專(zhuān)業(yè)學(xué)生主要學(xué)習微電子學(xué)的基本理論和基本知識,受到科學(xué)實(shí)驗與科學(xué)思維的基本訓練,具有良好科學(xué)素養,掌握大規模集成電路及新型半導體器件的設計、制造及測試所必需的基本理論和方法,具有電路分析、工藝分析、器件性能分析和版圖設計等的基本能力。   畢業(yè)生應獲得以下幾方面的知識和能力:
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奧地利微電子監測IC具手動(dòng)重啟功能

  •  奧地利微電子公司(austriamicrosystems)日前推出帶手動(dòng)重啟和監視功能的雙電壓微處理器監測電路AS1910-15系列。該系列IC適用于手持式、電池驅動(dòng)設備和所有雙電壓供電應用,其功耗僅5.8μA(典型情況下),可用于-40℃到+125℃之間的溫度范圍。   AS1913、AS1914和AS1915根據其出廠(chǎng)設定的極限值,能監控1.8V到3.6V之間的初級電壓,以及0.9V到2.5V之間的次級電壓。對于A(yíng)S1910、AS1911和AS1912,用戶(hù)可以通過(guò)一個(gè)外置的電阻分壓器將次級監控電壓
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奧地利微電子監測IC具手動(dòng)重啟功能

  •  奧地利微電子公司(austriamicrosystems)日前推出帶手動(dòng)重啟和監視功能的雙電壓微處理器監測電路AS1910-15系列。該系列IC適用于手持式、電池驅動(dòng)設備和所有雙電壓供電應用,其功耗僅5.8μA(典型情況下),可用于-40℃到+125℃之間的溫度范圍。   AS1913、AS1914和AS1915根據其出廠(chǎng)設定的極限值,能監控1.8V到3.6V之間的初級電壓,以及0.9V到2.5V之間的次級電壓。對于A(yíng)S1910、AS1911和AS1912,用戶(hù)可以通過(guò)一個(gè)外置的電阻分壓器將次級監控電壓
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火馬微電子推出EVD芯片支持中國標準

  •  HM9001是火馬微電子(HOMAA)公司專(zhuān)為中國市場(chǎng)推出的新一代高密度數字激光視盤(pán)系統(EVD)開(kāi)發(fā)設計的核心解碼芯片。EVD作為家電產(chǎn)品和計算機技術(shù)相結合的產(chǎn)物,既可以播放高清晰度(1920
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南京將投28億美元 打造微電子的航母基地

  •   該產(chǎn)業(yè)園將通過(guò)政府支持、基地化運作的方式,集中建立2到3個(gè)半導體封裝測試企業(yè),3到4個(gè)6英寸和8英寸的芯片廠(chǎng),1到2個(gè)12英寸芯片廠(chǎng)上述項目總投資將達28億美元,全部投產(chǎn)后產(chǎn)值將達50億美元??偛邉澣笋R啟元表示,兩到三年,南京微電子產(chǎn)業(yè)園將有望成為全國芯片產(chǎn)業(yè)的“航母基地”。   素以“江寧織造”聞名天下的南京,正開(kāi)始走上“江寧創(chuàng )造”的歷程。   6月19日,美國時(shí)代創(chuàng )新投資管理公司與南京江寧開(kāi)發(fā)區簽訂了《在江寧開(kāi)發(fā)區建立國家級微電子產(chǎn)業(yè)基地的框架協(xié)議》。協(xié)議主題是,由前者引導國際、民間資本于2006
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天津微電子工業(yè)區 每平方公里創(chuàng )值300億元

  •     天津開(kāi)發(fā)區微電子工業(yè)區一期1平方公里于2000年開(kāi)發(fā)完畢,2003年企業(yè)全部達產(chǎn),2004年實(shí)現工業(yè)總產(chǎn)值315億元,出口19億美元,稅收7.13億元。這樣,在一期1平方公里土地上,園區創(chuàng )造出了300億元工業(yè)總產(chǎn)值的驕人業(yè)績(jì),園區人均 GDP 已超過(guò)4萬(wàn)美元,成為天津乃至中國北方最具生機和活力的經(jīng)濟區域。      該園區二期1.32平方公里于2002年開(kāi)始投入建設,目前基本轉讓完畢,截至
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1976年11月,中科院計算所研制成功1000萬(wàn)次大型電子計算機

  •   1976年11月,中國科學(xué)院計算所研制成功1000萬(wàn)次大型電子計算機,所使用的電路為中國科學(xué)院109廠(chǎng)(現中科院微電子中心)研制的ECL型(發(fā)射極耦合邏輯)電路。
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微電子介紹

微電子技術(shù)是隨著(zhù)集成電路,尤其是超大型規模集成電路而發(fā)展起來(lái)的一門(mén)新的技術(shù)。微電子技術(shù)包括系統電路設計、器件物理、工藝技術(shù)、材料制備、自動(dòng)測試以及封裝、組裝等一系列專(zhuān)門(mén)的技術(shù),微電子技術(shù)是微電子學(xué)中的各項工藝技術(shù)的總和。微電子技術(shù)是在電子電路和系統的超小型化和微型化過(guò)程中逐漸形成和發(fā)展起來(lái)的,第二次大戰中、后期,由于軍事需要對電子設備提出了不少具有根本意義的設想,并研究出一些有用的技術(shù)。1947年 [ 查看詳細 ]
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