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專(zhuān)利 文章 進(jìn)入專(zhuān)利技術(shù)社區
蘋(píng)果獲得微型SIM卡槽專(zhuān)利：主導未來(lái)手機設計
- 蘋(píng)果本周獲得了一項有關(guān)Micro SIM卡槽的專(zhuān)利，有可能主導未來(lái)手機等移動(dòng)設備的SIM卡設計方案。 今年4月有報道稱(chēng)，蘋(píng)果正在申請一項Micro SIM卡槽的專(zhuān)利。由于蘋(píng)果和諾基亞當時(shí)正在爭奪未來(lái)移動(dòng)設備中小型SIM卡設計的主導權，因此這項專(zhuān)利很有意義。 諾基亞當時(shí)威脅稱(chēng)，如果蘋(píng)果的設計得到批準，那么諾基亞將從歐洲電信標準協(xié)會(huì )(ETSI)收回約50項專(zhuān)利。不過(guò)，蘋(píng)果的設計仍于6月份勝出。 蘋(píng)果獲得的這項專(zhuān)利能幫助用戶(hù)更方便地拔插SIM卡，在用戶(hù)插入不當時(shí)也可以保證設備不會(huì )受損，同時(shí)
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美法庭要求蘋(píng)果向三星公開(kāi)與HTC專(zhuān)利和解內容
- 11月23日消息，據國外媒體報道，美國法庭已經(jīng)令蘋(píng)果于本月向三星提供其與HTC達成專(zhuān)利權和解協(xié)議的細節內容，這將作為三星與蘋(píng)果之間不間斷的專(zhuān)利戰的一部分。蘋(píng)果與HTC于11月10日就他們之間的專(zhuān)利權爭議達成和解，雙方同意進(jìn)行一項長(cháng)達10年的專(zhuān)利使用權交易，但是這項協(xié)議的具體詳細內容并未向外界公開(kāi)透露。周二的時(shí)候，HTC的CEO周永明對一位分析師的猜測進(jìn)行了駁斥，該分析師稱(chēng)HTC可能需要向蘋(píng)果賠付每臺手機6-8美元，周永明稱(chēng)這一猜測數據是“離譜的?！? 路透報道稱(chēng)三星之前就有
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RF防反射隔聲罩獲美國專(zhuān)利
- 電子產(chǎn)品世界,為電子工程師提供全面的電子產(chǎn)品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術(shù)中心和交流中心,是電子產(chǎn)品的市場(chǎng)中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網(wǎng)絡(luò )家園
- 關(guān)鍵字： sEElectronics 防反射隔聲罩 專(zhuān)利 RF
蘋(píng)果新專(zhuān)利將Mac天線(xiàn)隱藏在鍵盤(pán)下
- 電子產(chǎn)品世界,為電子工程師提供全面的電子產(chǎn)品信息和行業(yè)解決方案,是電子工程師的技術(shù)中心和交流中心,是電子產(chǎn)品的市場(chǎng)中心,EEPW 20年的品牌歷史,是電子工程師的網(wǎng)絡(luò )家園
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2010 年度知識產(chǎn)權領(lǐng)域五件大事
- 一、 新《中華人民共和國專(zhuān)利法實(shí)施細則》出臺 為了保證新修改的專(zhuān)利法順利實(shí)施，更好地適應國際國內形勢發(fā)展的需要，國務(wù)院根據專(zhuān)利法，對《中華人民共和國專(zhuān)利法實(shí)施細則》進(jìn)行了修改，并于2010年2 月1 日開(kāi)始施行。新修改的專(zhuān)利法實(shí)施細則在堅持專(zhuān)利法的立法精神和宗旨的基礎上，結合我國專(zhuān)利工作實(shí)際，對其中一些原則性的規范做了細化規定，標志著(zhù)由法律、行政法規、地方性法規和規章組成的專(zhuān)利法律法規體系進(jìn)一步完善。新修改的專(zhuān)利法實(shí)施細則體現了《國家知識產(chǎn)權戰略綱要》的要求，具有顯著(zhù)的進(jìn)步性。
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我國汽車(chē)電子核心專(zhuān)利被外資掌握
- 盡管?chē)鴥绕?chē)上的防抱死剎車(chē)系統(ABS)、電子制動(dòng)力分配系統(EBD)、電子穩定程序(ESP)等汽車(chē)電子安全技術(shù)逐漸成為主流，但由中國半導體行業(yè)協(xié)會(huì )知識產(chǎn)權工作部和上海硅知識產(chǎn)權交易中心近期編撰的《中國汽車(chē)電子專(zhuān)利態(tài)勢報告》(以下簡(jiǎn)稱(chēng)《報告》)顯示，我國汽車(chē)電子專(zhuān)利市場(chǎng)幾乎被外資掌握，無(wú)法滿(mǎn)足自主品牌汽車(chē)的研發(fā)需求。 ■ 汽車(chē)電子專(zhuān)利申請 年復合增長(cháng)率超過(guò)15% 作為當前汽車(chē)功能和性能提高的重要部分，汽車(chē)電子產(chǎn)品應用十分廣泛，自主創(chuàng )新和知識產(chǎn)權保護得到更多重視。近年來(lái)我國汽車(chē)電子行業(yè)發(fā)展較
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Power Integrations與 BCD Semiconductor的專(zhuān)利訴訟達成和解
- 2009年2月11日加州圣何塞消息–用于高能效功率轉換的高壓集成電路領(lǐng)域的領(lǐng)導廠(chǎng)商Power Integrations （納斯達克代號：POWI）今天宣布，公司已經(jīng)同意與BCD Semiconductor的專(zhuān)利訴訟中提出的和解條件。根據和解條件，BCD將接受美國特拉華州聯(lián)邦地方法院的一項決議，即禁止BCD在美國生產(chǎn)和銷(xiāo)售此項訴訟中涉及的產(chǎn)品。這項決議還禁止BCD將這些產(chǎn)品出售并用于銷(xiāo)往美國市場(chǎng)的最終產(chǎn)品中。BCD還同意向最近接觸的客戶(hù)、分銷(xiāo)商和其它第三方提供有關(guān)此項決議的通告。
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BCD和PI就專(zhuān)利訴訟案達成和解
- ?? ?BCD Semiconductor Manufacturing Limited(簡(jiǎn)稱(chēng)BCD)是一家位于大中華區，首屈一指的模擬信號制造商（IDM），從事電源管理集成電路產(chǎn)品的設計研發(fā)、工藝制造和銷(xiāo)售。 BCD日前與Power Integrations（簡(jiǎn)稱(chēng)PI） 就一項達成和解，雖然BCD并不認為有侵犯PI之任何專(zhuān)利，并且PI于此訴訟中所主張之專(zhuān)利大都被美國商標專(zhuān)利局撤銷(xiāo)；BCD出于商業(yè)原因之考慮，最終同意與PI達成和解。根據一項由美國聯(lián)邦法院所作出之和解裁定，
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美法院判決Power Integrations應獲的損害賠償金降低82%
- 飛兆半導體公司 (Fairchild Semiconductor) 宣布，審理該公司與Power Integrations之間專(zhuān)利侵權訴訟案的法院已把陪審團裁定對 Power Integrations的損害賠償金從約3400萬(wàn)美元降到約600萬(wàn)美元。 法院同時(shí)裁定重審飛兆半導體公司是否蓄意侵犯Power Integrations公司所宣稱(chēng)之專(zhuān)利。裁決結果于周五在美國特拉華州地方法院宣布。 雖然飛兆半導體之小部份產(chǎn)品受到永久禁令裁決，但該公司表示因為早在2007年就已主動(dòng)停止這些產(chǎn)品在美國的
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美國專(zhuān)利商標局最終駁回Power Integrations針對飛兆半導體的專(zhuān)利權指控
- • 兩項專(zhuān)利中共有14項專(zhuān)利指控送交再次審查，其中12項被最終駁回 • 該兩項專(zhuān)利中，涉及2004年侵權訴訟的專(zhuān)利指控除一項外其余全被最終駁回 飛兆半導體公司 (Fairchild Semiconductor) 宣布，針對該公司與Power Integrations之間長(cháng)達4年的專(zhuān)利侵權訴訟案中所涉及的三項 Power Integrations未到期專(zhuān)利，美國專(zhuān)利商標局 (U.S. Patent and Trademark Office) 已就其中兩項專(zhuān)利的專(zhuān)利
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信息技術(shù)領(lǐng)域專(zhuān)利申請量十年超67萬(wàn)件
- 11月20日，第十屆信息技術(shù)領(lǐng)域專(zhuān)利態(tài)勢發(fā)布會(huì )在京召開(kāi)。會(huì )上工業(yè)和信息化部科技司發(fā)布的《2008年信息技術(shù)領(lǐng)域專(zhuān)利態(tài)勢分析報告》顯示，1998到2007年10年間，電子信息技術(shù)領(lǐng)域相關(guān)專(zhuān)利申請數量超過(guò)67萬(wàn)件，約為1985-1997年全部專(zhuān)利申請總量的5.6倍；發(fā)明專(zhuān)利申請增長(cháng)速度明顯超過(guò)國外，與國外專(zhuān)利申請的技術(shù)含量差距逐步縮小。 工業(yè)和信息化部副部長(cháng)婁勤儉出席會(huì )議時(shí)強調，隨著(zhù)我國工業(yè)化信息化進(jìn)程的不斷加快，今后要認真抓好三方面工作。一是圍繞重大專(zhuān)項和產(chǎn)業(yè)化專(zhuān)項統籌協(xié)調各方面資源，開(kāi)展技術(shù)攻關(guān)
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