65nm后，DFM的作用將逐步體現

　　IC芯片產(chǎn)業(yè)在進(jìn)入納米時(shí)代后，生產(chǎn)工藝復雜度和物理極限等局限開(kāi)始挑戰被稱(chēng)為定律的“Moor’s Law”。同時(shí)，EDA技術(shù)的發(fā)展不但完全融入到電子產(chǎn)品的設計和定型過(guò)程中，并且開(kāi)始涉足包括存檔、生產(chǎn)、制造、測試等環(huán)節，幫助IC產(chǎn)業(yè)迎接工藝極限的挑戰。

　　作為EDA行業(yè)的佼佼者，Mentor Graphics公司一年一度的“Mentor Graphics EDA Tech Forum 2007”備受關(guān)注。今年的技術(shù)論壇以 “洞悉您最復雜的設計挑戰!”為主題在全球18個(gè)城市巡回開(kāi)展。8月31日，Mentor Graphics的CEO Walden C. Rhines 先生攜帶著(zhù)包括The Mathworks、Altera、Lattice, ARM 和Sun等合作伙伴來(lái)到北京。在論壇上，Mentor Graphics演示了System Design、Design for Manufacture、Functional Verification 、Electronic System Level等解決方案。

　　依據應用領(lǐng)域和設計對象的區別，EDA技術(shù)可以細分為系統級設計、芯片設計、板級設計以及整機系統設計技術(shù)等多種流程和方法學(xué)。Walden頗為自豪的是Mentor Graphics的技術(shù)和產(chǎn)品已經(jīng)覆蓋了廣泛的EDA領(lǐng)域，但是Walden也表示沒(méi)有一家EDA公司能夠做到全能，成功的EDA公司知道如何取舍。

　　這其中，DFM(Design for Manufacture)是Mentor Graphics的關(guān)注重點(diǎn)。DFM因為是在IC設計階段便將對生產(chǎn)工藝可能造成的影響考慮在內，而受到歡迎，并且在去年成為EDA市場(chǎng)增長(cháng)的主要推動(dòng)力。Walden表示Mentor Graphics占據了DFM市場(chǎng)20%的份額，并且在六月成功收購S(chǎng)ierra Design Automation后，可以將Sierra的工具套件與Mentor Graphics的DRC和DFM工具結合起來(lái)。此外，為了提供Foundry與IC設計公司有效的溝通接口， Mentor Graphics已經(jīng)開(kāi)始展開(kāi)與Foundry和IDM廠(chǎng)商的密切合作。Walden介紹說(shuō)對于Foundry一方面需要考慮如何幫助客戶(hù)提高產(chǎn)品的良率，另一面還需要謹防工藝技術(shù)泄密，Mentor Graphics針對這些提供編碼方式讓Foundry更加放心。

　　在半導體生產(chǎn)工藝進(jìn)入65nm后，DFM的關(guān)鍵影響力將逐步體現，因為OPC等分辨率增強技術(shù)面臨物理極限，市場(chǎng)對PRV(Post-RET Verification)與DFP(DFM in layout-to-silicon-pattern transfer)等DFM方案的需求開(kāi)始加強。與此同時(shí)，市場(chǎng)的競爭也將加劇，有分析顯示2007年加入DFM市場(chǎng)的公司增幅高達75%，但同時(shí)也會(huì )有相當的競爭者被收購或者被迫退出市場(chǎng)。(山水)

Walden：沒(méi)有一家EDA公司能夠提供所有領(lǐng)域的工具