KLA-Tencor推出先進(jìn)RET/OPC功能的LithoWare產(chǎn)品

 KLA-Tencor今日正式推出基于 Linux 的新型產(chǎn)品 LithoWare，該系統可幫助半導體電路設計人員大幅度降低 RET* 和 OPC* 工藝開(kāi)發(fā)的時(shí)間和成本。LithoWare是一款基于業(yè)內標準的PROLITH 模型的光刻優(yōu)化工具，它允許客戶(hù)同時(shí)優(yōu)化 RET 和工藝條件，并將校準數據采集降至最少，從而有效縮短從設計到生產(chǎn)的時(shí)間。

“LithoWare 擁有無(wú)可比擬的預測精度以及在 Linux 計算機集群上運行的特性，它為 RET 開(kāi)發(fā)人員提供了雙項優(yōu)勢?！?a class="contentlabel" href="http://dyxdggzs.com/news/listbylabel/label/KLA-Tencor">KLA-Tencor Corporation 工藝分析事業(yè)部總經(jīng)理 Edward Charrier 表示?！癛ET 工程師可利用 LithoWare 獨有的靈活性和預測能力，在探索光刻工藝條件（如：光源照明、最新光刻膠、PEB 和其他等）的同時(shí)，優(yōu)化其 OPC。通過(guò) LithoWare，他們還可更快地創(chuàng )建 RET 菜單，并確保其在整個(gè)工藝窗口中都能正常工作，從而增強設計的穩定性和可生產(chǎn)性?！?

目前大多數 EDA 產(chǎn)品運行于Linux/Unix 環(huán)境下，因此同樣基于 Linux 的 LithoWare 可全面兼容這些產(chǎn)品。用戶(hù)可通過(guò) LithoWare 裝載 GDSII 文件，選擇多個(gè)摸擬區域，互動(dòng)改變光照條件和 OPC 修正，并將 OPC 修正后的掩膜圖樣輸出為 GDSII 文件。  

最近的估計表明，32 納米開(kāi)發(fā)需數以?xún)|計的光刻摸擬計算。LithoWare 運行在 Linux 環(huán)境下，可將大量模擬工作量分布到很多臺計算工作站上進(jìn)行，從而允許工程師執行先進(jìn)的光刻計算，并探索擴展的工藝參數，而這些在 PC或其他工具上都是無(wú)法實(shí)現的，因為它們無(wú)法承擔每次變化所帶來(lái)的大量重復校準工作。LithoWare 基于 Linux 的架構還可有效利用客戶(hù)現有的計算機投資，而無(wú)需配置額外的硬件。LithoWare 現已應用于美國和日本的 IC 公司，幫助提升其 RET 開(kāi)發(fā)效率。 

Charrier先生介紹說(shuō)：“用于全晶片 RET/OPC 的常規產(chǎn)品在不同光照情況下預測能力非常有限，而且不支持不斷的工藝變化，它們需要耗時(shí)、昂貴的工藝程序，包括掩膜加工、晶片印刷、測量和設備校準等等，這往往需要幾天、幾周甚至幾個(gè)月的時(shí)間。LithoWare 提供獨有的‘假設分析’功能，可動(dòng)態(tài)地優(yōu)化大量工藝和 RET 變量，使得工程師一次就能獲得準確結果?！?

與許多傳統產(chǎn)品相比，LithoWare為RET/OPC 工程師和設計人員提供了更加方便易用的工具。由于它可幫助 RET/OPC 工程師或設計人員快速檢查設計或新創(chuàng )意是否違反光刻條件，因而能夠縮短開(kāi)發(fā)周期。這些 RET/OPC 技術(shù)人員無(wú)需等待工藝工程師或代工廠(chǎng)合作伙伴提供專(zhuān)門(mén)的工藝信息和結果。  
KLA-Tencor 計劃于6月4-9 日在圣地亞哥即將舉行的設計自動(dòng)化會(huì )議(Design Automation Conference 2007)上展示LithoWare。感興趣的用戶(hù)可以在 KLA-Tencor 網(wǎng)站上注冊來(lái)獲取產(chǎn)品演示，網(wǎng)址是：www.klatencor.com/Events/LithoWare Reception(http://www.kla-tencor.com/events/event/Prolith_SD_2007_regform.html)。