TDK發(fā)布低電阻高透射率的ITO導電薄膜

　　TDK在“CEATEC JAPAN 2010”(10月5～9日，幕張Messe會(huì )展中心)上，發(fā)布了利用濺射法替代原來(lái)的涂布法對ITO層進(jìn)行成膜的ITO透明導電性薄膜。據TDK介紹，通過(guò)導入濺射法，實(shí)現了低電阻及高透射率。另外，由于底板采用PET薄膜而非玻璃，還實(shí)現了薄型輕量化。目前該公司正利用樣品開(kāi)展受理訂單的活動(dòng)。

　　利用濺射法可實(shí)現低電阻及高透射率是“因為ITO的結晶之間的接觸性增強”(該公司的解說(shuō)員)。此次通過(guò)導入濺射方式，與原來(lái)的涂布方式相比，表面電阻從700Ω/sp降低到了150Ω/sq，同時(shí)全光線(xiàn)透射率從89%提高到了92%。TDK打算面向靜電容量式觸摸面板銷(xiāo)售此次開(kāi)發(fā)的ITO透明導電性薄膜。另外，采用原來(lái)涂布方式的ITO透明導電性薄膜則定位于面向電阻膜式觸摸面板。

　　ITO透明導電性薄膜是通過(guò)在PET薄膜上形成ITO層而實(shí)現的。不過(guò)，此次采用濺射方式的薄膜在PET薄膜與ITO層之間形成了可調整色調及防反射的光學(xué)調整層。調整色調時(shí)可除去ITO特有的黃色將其調整為無(wú)色透明，或者調整為略帶有一點(diǎn)藍色的顏色。這些光學(xué)調整層利用涂布法形成。TDK在制造磁記錄媒體時(shí)積累的涂布技術(shù)方面具有優(yōu)勢。該公司打算通過(guò)利用該涂布技術(shù)形成光學(xué)調整層，并導入濺射技術(shù)形成ITO從而提高ITO膜的特性，來(lái)實(shí)現與其他公司的差異化。