光柵莫爾條紋技術(shù)的發(fā)展
上世紀六、七十年代,由于光柵制造工藝的改進(jìn)以及電子技術(shù)的發(fā)展,能夠批量提供廉價(jià)的光柵產(chǎn)品,并出現了電子細分技術(shù),使光柵的分辨率和精度能夠適應現代計量的要求,莫爾條紋技術(shù)得到迅速推廣應用,且出現了許多嶄新的光柵莫爾條紋測量技術(shù)。
傳統的四場(chǎng)掃描光柵系統(成都工具研究所開(kāi)發(fā)的光柵傳感器均屬這種系統)由于受污染影響較大,已逐漸被準單場(chǎng)掃描和單場(chǎng)掃描系統所取。準單場(chǎng)掃描系統的指示光柵由兩個(gè)相位不同的光柵組成,標尺光柵(主光柵)反射后由四個(gè)光電池接收,得到相位差為90°的4個(gè)莫爾條紋信號;單場(chǎng)掃描系統采用柵距與主光柵略有不同的一個(gè)大光柵組成指示光柵,用柵狀光電器件接收信號。這兩種結構中,由于都使用一個(gè)掃描場(chǎng),光柵上的局部污染對各組信號的光強影響大致相同,大幅度減少了因污染造成的測量誤差。這二種掃描系統都屬于成像掃描原理,是目前廣泛應用的光柵系統。
1987年,Haidenhain公司推出了一種干涉掃描系統,該系統中,標尺光柵和指示光柵均采用相位光柵,通過(guò)合理設計光柵線(xiàn)紋高度方向的形狀來(lái)控制衍射的級次和相位,莫爾條紋由輸入光兩次衍射后的干涉光形成。干涉掃描系統是一種高精度、高分辨率的光柵系統,如Haidenhain的LIP382,測量長(cháng)度270mm,分辨率1nm,精度0.1μm。
為保證形成莫爾條紋的質(zhì)量,避免陰影與衍射并存,莫爾條紋系統采用的光柵柵距明顯向兩端(疏或密)發(fā)展。在成像掃描系統中,認為光線(xiàn)完全是直線(xiàn)傳播的,符合幾何成像原理,采用的光柵柵距一般大于20μm;而在干涉掃描系統中,系統完全處于衍射、干涉狀態(tài),使用的光柵柵距一般小于8μm。由于干涉掃描系統采用了遠心成像和Fraunhofer衍射系統,使光柵副能夠工作在大間距狀態(tài)(甚至接近1mm),且間距的變化對信號幅值的影響很小,調整系統時(shí),完全不必像過(guò)去那樣去尋找Frensnel焦面,這對于實(shí)際測量是極其有利的。
為適應數控機床的需要,絕對式光柵正成為發(fā)展趨勢。絕對式光柵是在增量光柵上設置絕對軌,在絕對軌上設計了用不同距離編碼的一系列零位光柵,使用時(shí)通過(guò)探測相鄰零位光柵的距離來(lái)確定絕對位置,與絕對軌配合使用的EnDat雙向數據接口除可判斷絕對位置外,當光柵出現故障時(shí)還能即時(shí)向數控機床發(fā)出報警信號,以保證加工的安全性。
光柵線(xiàn)紋的位置精度和一個(gè)信號周期內的線(xiàn)紋質(zhì)量是影響光柵精度的主要因素,通過(guò)對光柵制造環(huán)境的嚴格控制和采用特殊的二維刻蝕工藝以及單場(chǎng)掃描的平均效應,目前光柵的精度已可達±0.1μm/m,在一個(gè)條紋周期內誤差小于1%。優(yōu)異的莫爾條紋信號是高倍細分的前提,Haidenhain光柵產(chǎn)品的最高細分數可達4096。
上世紀九十年代出現了二維光柵,其線(xiàn)紋是網(wǎng)格狀的,可以同時(shí)進(jìn)行兩個(gè)方向的測量,是一種新型的光柵系統。如PP271R、PP281R光柵的精度為±0.1μm,系統可以直接利用X—Y工作臺作為坐標系統,也可以用于檢測數控機床的插補誤差(KGM182)。
由于光柵莫爾條紋技術(shù)的不斷發(fā)展,光柵傳感器已成為一種可與激光干涉儀媲美的測量?jì)x器,目前除測量精度不及激光干涉儀外,在測量成本低、測量速度高(480m/min)、測量范圍大(100m以上)、受環(huán)境影響小等方面都是激光干涉儀所不及的??梢灶A見(jiàn),隨著(zhù)技術(shù)的不斷進(jìn)步,光柵莫爾條紋技術(shù)的應用必將日益廣泛。
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