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EEPW首頁(yè) > 電源與新能源 > 設計應用 > 技術(shù)知識:嵌入式功率系統的100V MOSFET器件

技術(shù)知識:嵌入式功率系統的100V MOSFET器件

作者: 時(shí)間:2014-01-21 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò ) 收藏

高效的AC/DC SMPS與DC/DC轉換器是現代功率架構的主干,用于驅動(dòng)電信或計算機等系統。為了滿(mǎn)足市場(chǎng)對這些轉換器的需求,英飛凌科技推出了全新的100VMOSFET系列器件。該系列器件以電荷平衡為基礎,可大幅度降低導通電阻。通過(guò)組合應用低柵電荷、高開(kāi)關(guān)速度、卓越的抗雪崩能力及改進(jìn)的體二極管(body-diode)特性,使這些器件適用于多種不同的應用。

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/226750.htm

簡(jiǎn)介

電信與計算系統中的面臨著(zhù)功率密度日益增加帶來(lái)的挑戰。盡管功率要求不斷提高,但空間且保持不變。這些需求只有通過(guò)更高的系統效率來(lái)實(shí)現。

改進(jìn)可在不同的級別實(shí)現——系統、轉換器和器件級別。新的功率架構可降低系統級別的損耗。優(yōu)化AC/DC和DC/DC轉換器的拓撲結構可提高轉換器級別的效率。新型MOSFET技術(shù)可提升器件級別的效率。MOSFET是功率轉換器中的關(guān)鍵組件。更好的技術(shù)可使現有拓撲結構采用更具挑戰性的工作條件 ——增加開(kāi)關(guān)頻率甚至可以改變其他拓撲結構。

帶有超低柵電荷的高速系列(HS系列)可進(jìn)一步將速度提升33%。

新型OptiMOS2 MOSFET的先進(jìn)理念

功率MOSFET的補償理念是在1998年上市的600V CoolMOSTM產(chǎn)品中推出的。與傳統功率MOSFET相比,Rds(on) A大幅度降低的基本原理是由位于P柱的受體對N漂移區的施體進(jìn)行補償。

對于擊穿電壓低于200V的應用而言,溝道場(chǎng)極板MOSFET是很好的選擇。場(chǎng)極板的應用可明顯改善器件的性能。器件包含深入大部分N漂移區的深溝道。絕緣深源電極通過(guò)厚氧化層與N漂移區隔離開(kāi),并作為場(chǎng)極板提供阻斷條件下平衡漂移區施體所需的移動(dòng)電荷。厚場(chǎng)極板絕緣必須能夠承受溝道底部的阻斷電壓。相應地,以微米為單位的氧化物厚度也必須小心控制,避免底部溝道角落的氧化物過(guò)薄,并防止出現應力導致的缺陷。與標準MOS結構不同(標準MOS結構的電場(chǎng)呈線(xiàn)性下降,在體/漂移區pn結合部下降到最大值),場(chǎng)極板可帶來(lái)幾乎恒定的電場(chǎng)分布,因此可縮短面向既定擊穿電壓的漂移區長(cháng)度。此外,漂移區摻雜度可有所提高,以降低導通電阻。實(shí)際上,Rds(on) A甚至可降低到低于所謂的“硅極限值”——既定擊穿電壓下理想p+n-結點(diǎn)的導通電阻。場(chǎng)極板和溝道柵MOSFET的組合應用可帶來(lái)當今市場(chǎng)上最低的電阻和最快的硅開(kāi)關(guān)技術(shù)。

應用優(yōu)點(diǎn)

中,目前面向100V MOSFET的主要應用有三種:AC/DC前端同步整流開(kāi)關(guān)(輸出電壓12V~20V)、48V寬范圍電源母線(xiàn)上的功率開(kāi)關(guān)以及利用48V電源母線(xiàn)進(jìn)行操作的隔離式DC/DC轉換器的原邊側主開(kāi)關(guān)。極低的Rds(on) 值對以上所有應用都有利。100V OptiMOS2技術(shù)的其他功能適用于其中的一些具體應用。

電荷平衡的應用使OptiMOS2 100V技術(shù)在大多數應用領(lǐng)域都具有很強的競爭力。這種技術(shù)可在單一器件里同時(shí)實(shí)現基準性關(guān)鍵參數如Rds(on) 、Qg、Qgd、Crss/Ciss比值和卓越的抗雪崩能力等。低導通電阻Rds(on) [12.5mΩ(max)@D-Pak,5.1mΩ(max)@D2-Pak]加上快速開(kāi)關(guān)能力,以及卓越的抗雪崩能力使OptiMOS2 100V成為安全、高性能和高功率密度應用的正確選擇。1.抗雪崩能力

雖然電感負載在電機控制及類(lèi)似應用中存在,但在功率系統中并沒(méi)有, 因此MOSFET安全處理雪崩事件的能力至關(guān)重要。上述所有應用可能要面對諸如雷擊或其他不可預見(jiàn)性事件所造成的故障,使這些器件處于雪崩狀態(tài)??煽康目寡┍滥芰Υ_保系統安全運行,即使在這些糟糕狀況下。

在硅技術(shù)級,有兩種機制可以在雪崩期間提供電荷載體。

第一種機制與MOSFET中寄生npn晶體管的導通有關(guān)。這是一種非熱破壞,因為它是由電流通過(guò)p基區造成的。一旦該區域的壓降大到可以順向偏壓繞過(guò)基極發(fā)射極勢壘,晶體管就會(huì )導通。該機制具有自動(dòng)放大功能,可導致電流限制型雪崩特性。對于功率MOSFET來(lái)說(shuō),這種限制并不有利,因為只要達到臨界電流水平,即使是非常低的能量都足以破壞器件。

第二種機制與載體的雪崩產(chǎn)生相關(guān)。器件上的過(guò)電壓足以將單個(gè)自由電子加速至可以再次產(chǎn)生自由電子的水平,從而帶來(lái)連鎖反應。器件中的能量耗散分布在漂移區。在該機制下,器件雪崩能力限制是由該器件吸收(熱)能量的能力決定的。這個(gè)故障機制被稱(chēng)為熱破壞機制。

器件由于熱破壞而發(fā)生故障,并呈現出特有的特性。這里的推斷線(xiàn)與不同溫度下的平均故障電流值相對應。與零電流線(xiàn)的交叉點(diǎn)標志著(zhù)器件的固有溫度,是器件抗雪崩能力的衡量指標。

2.對動(dòng)態(tài)導通的抗擾性

降低SMPS里的功率損耗最有效的方法就是將二次側整流從無(wú)源系統(使用二極管)變?yōu)橛性赐秸?使用MOSFET)。對于輸出電壓12V~24V(取決于拓撲結構)的應用而言,100V MOSFET是同步整流的正確選擇。由于有相應的傳導損耗,Rds(on)成為同步整流的關(guān)鍵參數。

但用于二次側整流的MOSFET也帶來(lái)了額外的風(fēng)險。其中最顯著(zhù)的方面是動(dòng)態(tài)導通。在硬開(kāi)關(guān)拓撲結構中,當器件開(kāi)始阻斷時(shí),可能有非常大的從漏極到源極的dv/dt值。這種dv/dt值通過(guò)容性Cgd/Cgs分壓器與柵極聯(lián)系起來(lái),并可動(dòng)態(tài)接通相關(guān)器件。在這種情況下將形

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