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小貼士:開(kāi)關(guān)電源中功率MOSFET管損壞模式及分析

作者: 時(shí)間:2014-01-24 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò ) 收藏

本文將通過(guò)功率的工作特性,結合失效分析圖片中不同的損壞形態(tài),系統地分析過(guò)電流損壞和過(guò)電壓損壞。同時(shí)根據損壞位置不同,分析功率的失效發(fā)生在開(kāi)通的過(guò)程中或發(fā)生在關(guān)斷的過(guò)程中,從而為設計工程師提供一些依據,找到系統設計中的問(wèn)題,提高電子系統的可靠性。

本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/226641.htm

目前,功率廣泛地應用于系統及其他功率電子電路中。實(shí)際應用中,特別是在一些極端的邊界條件下,如系統的輸出短路及過(guò)載測試、輸入過(guò)電壓測試以及動(dòng)態(tài)的老化測試中,功率MOSFET管有時(shí)候會(huì )發(fā)生失效損壞。工程師將損壞的功率MOSFET管送到半導體原廠(chǎng)做失效分析后,分析報告的結論通常是過(guò)電性應力EOS,卻無(wú)法判斷是什么原因導致MOSFET的損壞。

1 過(guò)電壓和過(guò)電流測試電路

過(guò)電壓測試的電路圖如圖1(a)所示,選用40 V的功率MOSFET:AON6240,DFN5?鄢6封裝。通過(guò)開(kāi)關(guān)來(lái)控制,將60 V的電壓直接加到AON6240的D極和S極,熔絲用來(lái)保護測試系統,功率MOSFET損壞后,將電源斷開(kāi)。測試樣品數量為5片。

小貼士:開(kāi)關(guān)電源中功率MOSFET管損壞模式及分析

過(guò)電流測試的電路圖如圖1(b)所示,選用40 V的功率MOSFET:AON6240,DFN5?鄢6封裝。首先合上開(kāi)關(guān)A,用20 V的電源給大電容充電,電容C的容值為15 mF,然后斷開(kāi)開(kāi)關(guān)A,合上開(kāi)關(guān)B,將電容C的電壓加到功率MOSFET管的D極和S極,使用信號發(fā)生器產(chǎn)生一個(gè)電壓幅值為4 V、持續時(shí)間為1 s的單脈沖,加到功率MOSFET管的G極。測試樣品數量為5片。

2 過(guò)電壓和過(guò)電流失效損壞

將過(guò)電壓和過(guò)電流測試損壞的功率MOSFET管去除外面的塑料外殼,露出硅片正面失效損壞的形態(tài)的圖片,分別如圖2(a)和圖2(b)所示。

小貼士:開(kāi)關(guān)電源中功率MOSFET管損壞模式及分析

從圖2(a)可以看到,過(guò)電壓的失效形態(tài)是在硅片中間的某一個(gè)位置產(chǎn)生一個(gè)擊穿小孔洞,通常稱(chēng)為熱點(diǎn),其產(chǎn)生的原因就是因為過(guò)壓而產(chǎn)生雪崩擊穿,在過(guò)壓時(shí),通常導致功率MOSFET管內部的寄生三極管導通[1]。由于三極管具有負溫度系數特性,當局部流過(guò)三極管的電流越大時(shí),溫度越高。而溫度越高,流過(guò)此局部區域的電流就越大,從而導致功率MOSFET管內部形成局部的熱點(diǎn)而損壞。硅片中間區域是散熱條件最差的位置,也是最容易產(chǎn)生熱點(diǎn)的地方,可以看到,圖中擊穿小孔洞(即熱點(diǎn))正好都位于硅片的中間區域。從圖2(b)可以看到,在過(guò)流損壞的條件下,所有的損壞位置都發(fā)生在S極,而且比較靠近G極。這是因為電容放電形成大的電流流過(guò)功率MOSFET管,所有的電流匯集于S極,此時(shí)溫度最高,最容易產(chǎn)生損壞。

功率MOSFET管內部由許多單元并聯(lián)形成,如圖3(a)所示。其等效的電路圖如圖3(b)所示。在開(kāi)通過(guò)程中,離G極越近的區域,VGS的電壓越高,流過(guò)該區域的單元電流越大,在瞬態(tài)開(kāi)通過(guò)程承擔的電流就越大。因此,離G極近的S極區域溫度更高,更容易因過(guò)流產(chǎn)生損壞。

小貼士:開(kāi)關(guān)電源中功率MOSFET管損壞模式及分析

3 過(guò)電壓和過(guò)電流混合失效損壞

在實(shí)際應用中,單一的過(guò)電流和過(guò)電流的損壞通常很少發(fā)生,更多的損壞發(fā)生在過(guò)流后,由于系統的過(guò)流保護電路工作,關(guān)斷功率MOSFET,而在關(guān)斷的過(guò)程中常發(fā)生過(guò)壓(即雪崩)。圖2(c)即為功率MOSFET管先發(fā)生過(guò)流,然后進(jìn)入雪崩發(fā)生過(guò)壓的損壞形態(tài)。與過(guò)流損壞形式類(lèi)似,過(guò)壓多發(fā)生在靠近S極的地方。但是也存在因為過(guò)壓產(chǎn)生的擊穿洞坑遠離S極的情況。這是因為在關(guān)斷的過(guò)程,距離G極越遠的位置,在瞬態(tài)關(guān)斷過(guò)程中,VGS的電壓越高,承擔電流也越大,因此更容易發(fā)生損壞。

4 線(xiàn)性區大電流失效損壞

在電池充放電保護電路板上,一旦負載發(fā)生短線(xiàn)或過(guò)流電,保護電路將關(guān)斷功率MOSFET管,以免電池產(chǎn)生過(guò)放電。與短路或過(guò)流保護快速關(guān)斷方式不同,功率MOSFET管是以非常慢的速度關(guān)斷,如圖4所示。功率MOSFET管的G極通過(guò)一個(gè)1 MΩ的電阻,緩慢關(guān)斷。從VGS波形上看到,米勒平臺的時(shí)間高達5 ms。米勒平臺期間,功率MOSFET管工作在放大狀態(tài),即線(xiàn)性區。

功率MOSFET管開(kāi)始工作的電流為10 A,使用器件為AO4488,失效的形態(tài)如圖4(c)所示。當功率MOSFET管工作在線(xiàn)性區時(shí),它是負溫度系數[2],局部單元區域發(fā)生過(guò)流時(shí),同樣會(huì )產(chǎn)生局部熱點(diǎn)。溫度越高,電流越大,致使溫度進(jìn)一步增加,導致過(guò)熱損壞??梢钥闯?,其損壞的熱點(diǎn)的面積較大,這是因為該區域經(jīng)過(guò)了一定時(shí)間的熱量的積累。另外,破位的位置離G極較遠。損壞同樣發(fā)生于關(guān)斷過(guò)程,破位的位置在中間區域,同樣也是散熱條件最差的區域。小貼士:開(kāi)關(guān)電源中功率MOSFET管損壞模式及分析

另外,在功率MOSFET管內部,局部性能弱的單元,其封裝形


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