東方晶源CD-SEM榮獲第七屆“IC創(chuàng )新獎”成果產(chǎn)業(yè)化獎

日前，“2024集成電路產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng )新發(fā)展交流會(huì )暨中國集成電路創(chuàng )新聯(lián)盟大會(huì )”在北京舉行，會(huì )上頒發(fā)了“第七屆集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng )新獎”（簡(jiǎn)稱(chēng)IC創(chuàng )新獎）。經(jīng)過(guò)申報、受理、評選等環(huán)節，東方晶源自主研發(fā)的關(guān)鍵尺寸量測設備CD-SEM成功斬獲第七屆IC創(chuàng )新獎——成果產(chǎn)業(yè)化獎。

CD-SEM用于集成電路硅片圖形關(guān)鍵尺寸量測，是良率控制核心設備。該類(lèi)設備被日本和美國公司壟斷，國內空白，屬于“卡脖子”產(chǎn)品。東方晶源自2021年先后推出12英寸CD-SEM和6&8英寸兼容CD-SEM設備，成功突破多項關(guān)鍵技術(shù)，如高速高精度硅片傳輸定位、圖像像差補償等，創(chuàng )新性地提出了復合高精度定位技術(shù)、電磁復合偏轉器及多級視場(chǎng)像差校正方法，從而大幅提升了設備性能與良率優(yōu)化能力。

東方晶源CD-SEM產(chǎn)品已廣泛應用于多個(gè)制程領(lǐng)域，包括12英寸≥28nm邏輯制程、3D-NAND制程、DRAM制程，以及8英寸Si、MEMS制程和6英寸第三代半導體SiC、GaN、GaAs等化合物制程，成功獲得國內多家晶圓制造頭部企業(yè)認可，具有極高的性能表現和可靠性，市場(chǎng)認可度高。

“IC創(chuàng )新獎”重點(diǎn)鼓勵集成電路技術(shù)創(chuàng )新、成果產(chǎn)業(yè)化、產(chǎn)業(yè)鏈上下游合作，是集成電路產(chǎn)業(yè)最重要的技術(shù)獎項之一。其中“成果產(chǎn)業(yè)化獎項”皆在表彰集成電路創(chuàng )新成果產(chǎn)業(yè)化推進(jìn)和市場(chǎng)拓展方面取得突出業(yè)績(jì)的單位和團隊，東方晶源CD-SEM獲此獎項實(shí)至名歸。值得一提的是，東方晶源電子束缺陷檢測設備EBI產(chǎn)品曾獲得第五屆IC創(chuàng )新獎——技術(shù)創(chuàng )新獎。

檢測、量測設備是集成電路制造過(guò)程中進(jìn)行良率控制的關(guān)鍵設備，作為立足良率管理的企業(yè)，東方晶源自成立以來(lái)便聚焦電子束檢測、量測領(lǐng)域，經(jīng)過(guò)十年的發(fā)展，突破多項關(guān)鍵核心技術(shù)、產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程突飛猛進(jìn)、積極布局電子束缺陷復檢設備DR-SEM，為我國芯片安全做出了重要的貢獻。未來(lái)，東方晶源將繼續在電子束檢測、量測領(lǐng)域深耕，不斷進(jìn)行技術(shù)突破與產(chǎn)品創(chuàng )新。同時(shí)，將充分發(fā)揮公司在計算光刻O(píng)PC等軟件方面的優(yōu)勢，將軟硬件進(jìn)行協(xié)同，為國內集成電路制造良率管理探索全新路徑。