科學(xué)家研發(fā)2D金屬芯片:讓儲存速度提高100倍
科學(xué)家正在努力,希望開(kāi)發(fā)出下一代數據存儲材料,以提高現有存儲速度。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/202007/415156.htm據英國《自然·物理學(xué)》雜志近日發(fā)表的一項研究,一個(gè)美國聯(lián)合研究團隊利用層狀二碲化鎢制成了二維(2D)金屬芯片,其厚度僅三個(gè)原子,其可代替硅芯片存儲數據,且比硅芯片更密集、更小、更快,也更節能,同時(shí)儲存速度提高了100倍之多。
研究人員對二碲化鎢薄層結構施加微小電流,使其奇數層相對于偶數層發(fā)生穩定的偏移,并利用奇偶層的排列來(lái)存儲二進(jìn)制數據。數據寫(xiě)入后,他們再通過(guò)一種稱(chēng)為貝利曲率的量子特性,在不干擾排列的情況下讀取數據。
與現有的基于硅的數據存儲系統相比,新系統具有巨大優(yōu)勢——它可以將更多的數據填充到極小的物理空間中,并且非常節能。此外,其偏移發(fā)生得如此之快,以至于數據寫(xiě)入速度可以比現有技術(shù)快100倍。
對超薄層進(jìn)行非常小的調整,就會(huì )對它的功能特性產(chǎn)生很大的影響,而人們可以利用這一知識來(lái)設計新型節能設備,以實(shí)現可持續發(fā)展和更智慧的未來(lái)存儲方式。
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