功率循環(huán)測試助力車(chē)用IGBT性能提升
汽車(chē)功率電子組件(例如IGBT)的設計必須能負荷數千小時(shí)的工作時(shí)間和上百萬(wàn)次的功率循環(huán),同時(shí)得承受高達 200℃的溫度。因此產(chǎn)品的可靠性特別關(guān)鍵,而同時(shí)故障成本也會(huì )是一個(gè)很大的問(wèn)題。隨著(zhù)工業(yè)電子系統對能量需求的增加,汽車(chē)功率電子設備和組件的供貨商所面臨的最大挑戰就是提供汽車(chē)OEM業(yè)者所需更高可靠度的系統。
本文引用地址:http://dyxdggzs.com/article/201710/368228.htm隨著(zhù)越來(lái)越高的能量負載壓力,功率電子創(chuàng )新帶來(lái)了一些新的技術(shù),例如使用能夠增加熱傳導系數的直接鍵合銅基板、優(yōu)越的互連技術(shù)(粗封裝鍵合線(xiàn)、帶式鍵合等)和無(wú)焊料芯片粘貼技術(shù),都是用來(lái)增強模塊的循環(huán)能力。這些新的基板有助于降低溫度,金屬帶可負載更大的電流,而且無(wú)焊料芯片粘貼可以是燒結的銀,具有特別低的熱阻。
所有的技術(shù)都有助于改善組件中的熱傳路徑。但是,功率循環(huán)過(guò)程和熱效應所產(chǎn)生的熱及熱機械應力仍然會(huì )造成系統故障。這些應力可能會(huì )導致很多問(wèn)題,如封裝鍵合線(xiàn)降級、黏貼層疲勞、堆棧脫層以及芯片或基板破裂。
結點(diǎn)位置的熱消散是影響IGBT芯片可靠性的主要因素之一,特別是芯片的粘貼層材料。功率循環(huán)測試是仿效模塊生命周期的理想方式,因根據所應用的領(lǐng)域,IGBT模塊的切換次數是可被預測。
本文主要描述結合功率循環(huán)測試和熱瞬態(tài)測試的測量研究,在此試驗中主要是利用功率循環(huán)測試造成組件故障,同時(shí)在不同的穩態(tài)之間進(jìn)行熱瞬態(tài)測量,用以確定IGBT樣品的故障原因。這類(lèi)型的測試能適當協(xié)助重新設計模塊的物理結構,此外根據需求,它還可以模擬熱機械應力的輸入。
測試的主要目的是利用可重復性的流程來(lái)研究當前IGBT模塊中常出現的故障模式。然而,這些測試的數量并不足以預測產(chǎn)品的壽命期,但我們能藉此了解并試驗 IGBT芯片中的降級過(guò)程。我們首先對樣品進(jìn)行熱瞬態(tài)測試,測量結果顯示,組件在熱瞬態(tài)試驗過(guò)程中,不同穩態(tài)之間所需要的時(shí)間為180秒。組件在輸入 10A的驅動(dòng)電流時(shí)可達到最高溫,接著(zhù)在開(kāi)始測量時(shí)則切換至100mA的感測電流。
圖1顯示樣品在最初「健康」狀的校準基礎。結構函數是一維、縱向態(tài)下的熱瞬態(tài)函數。此曲線(xiàn)和相對應熱傳的模型。在許多常用的三維幾何的結構函數可作為封裝結構詳細數值形狀中,結構函數是「實(shí)質(zhì)」的一維熱傳模型,例如圓盤(pán)中的徑向擴散(極坐標系中的一維流)、球面擴散、錐形擴散等。
圖1 IGBT的熱瞬態(tài)反應。
因此結構函數可概括地辨認出外型/材料參數。結構函數可藉由加熱或冷卻曲線(xiàn)的數學(xué)計算直接轉換求得。這些曲線(xiàn)可從實(shí)際測量結果或利用詳細的結構模型仿真熱傳路徑來(lái)獲得。
創(chuàng )建熱仿真模型
接著(zhù)我們建立并驗證詳細的三維(3D)模型以便分析結構內部的溫度分布。所有的幾何參數都會(huì )在組件發(fā)生故障并拆解后進(jìn)行測量。圖2是仿真模型的外觀(guān)(圖3是其剖面結構)。我們藉由調整材料參數,直到瞬態(tài)仿真結果所產(chǎn)生的結構函數與測量結果的結構函數相重合,如此一來(lái)我們可以確保所建立的模型運作方式與實(shí)際組件完全相同。此流程需要進(jìn)行多次的反復計算。
圖 2 仿真模型的外觀(guān)。
圖3 IGBT模塊結構圖。
依據所測量的幾何外型以及對材料參數的猜測所創(chuàng )建的基礎模型顯示,熱瞬態(tài)的傳遞路徑與實(shí)際組件有明顯差異。此類(lèi)偏差可藉由校準模型且不斷地改善模型參數予以排除。最后可將瞬態(tài)仿真所獲得的結構函數(圖4中的紅色曲線(xiàn))與實(shí)際組件的測量結果產(chǎn)生的結構函數(藍色曲線(xiàn))相互重迭。
圖4 基礎模型的仿真結果。
接著(zhù)利用合適的封裝內部特征來(lái)校準組件,然后沿著(zhù)向外的熱傳路徑方向,不斷地擬合不同區域的熱容和熱阻值。為了正確地校正熱容值,我們需確保芯片的實(shí)體尺寸正確無(wú)誤,且熱源區域的設定正確。在這種情況下,需要增加受熱面積直到芯片區域的熱容值在結構函數中互相重迭。
此外還需確保陶瓷層的熱阻設定在適當的范圍。隨著(zhù)陶瓷的熱傳導系數升高,結構函數中相對應的熱阻區域可能需降低以達到另一部份的重迭。下一步則是將組件與冷板間的銅底層和接口材料(TIM)設定在適當的熱傳導系數,使曲線(xiàn)能正確地相互匹配(圖5)。
圖5 模型校準后的所得到的結構函數。模擬值(藍色)、測量值(紅色)。
在功率測試設備中試驗組件#e#
在功率測試設備中試驗組件
一旦IGBT熱結構的初始狀態(tài)被記錄后,組件就可以進(jìn)行可靠性測試來(lái)評估其長(cháng)時(shí)間的表現。我們利用導熱貼片將所選的IGBT模塊固定在水冷式冷板上。導熱貼片的導熱性比起大部分的導熱膏和導熱膠還差,但是它在先前的實(shí)驗中顯示出了極佳的熱穩定性,因此不會(huì )影響測試的結果。此時(shí)冷板溫度設置為25℃。
測試中的模塊包含兩個(gè)半橋模塊,即四個(gè)IGBT。將組件的閘級連接到汲極,同時(shí)半橋模塊使用獨立的驅動(dòng)電流供電(見(jiàn)圖6)。所有IGBT分別連接到熱瞬態(tài)測試設備的通道。
圖 6 用于功率循環(huán)和熱瞬態(tài)測試的 IGBT電路圖。
為了加速功率循環(huán)測試的流程,我們迫使組件產(chǎn)生100℃的溫差變化。選擇此數值是為了確保結溫最高可達125℃,這是組件所允許的最高溫度。同時(shí)我們也輸入最大的功率以縮短循環(huán)時(shí)間,并選擇適當的時(shí)間來(lái)達到100℃的溫度變化。此IGBT模塊可負載最大80A的電流,但是由于組件的壓降過(guò)高,額定功率就變成了限制因素。根據先前的測試結果,此試驗選擇25A作為加熱電流。
測試過(guò)程輸入200W的功率并加熱3秒使芯片升溫到125℃。所需的冷卻時(shí)間則應確保芯片有足夠的時(shí)間冷卻下來(lái),且平均溫度在測試過(guò)程中不會(huì )發(fā)生變化。圖7顯示了時(shí)間和溫度的分布圖。
圖7 功率循環(huán)期間的功率和結溫變化圖。
不論是壓降產(chǎn)生變化還是熱阻升高,所輸入的加熱電流和時(shí)間在整個(gè)測試過(guò)程中均保持不變。在每次循環(huán)測試中,組件冷卻過(guò)程的瞬態(tài)變化都被記錄下來(lái)以便能夠連續地監測結溫的變化。而每經(jīng)過(guò)200次的循環(huán),都會(huì )使用10A的加熱電流來(lái)測量完整的瞬態(tài)變化以檢查熱流路徑的結構完整性。
閘級氧化層損壞所引發(fā)的故障——非封裝鍵合線(xiàn)的缺陷
在測試過(guò)程中,功率循環(huán)測試會(huì )一直持續直到達到失效標準,即組件完全損壞(短路或斷路)。在受測的四個(gè)IGBT組件中,其中之一(樣品3)發(fā)生故障的時(shí)間明顯地早于其他組件,只有 10,158次的功率循環(huán)(圖8)。過(guò)早損壞發(fā)生的原因可能是組件放在冷板上時(shí)貼附不當,或其他隨機的錯誤。其他三個(gè)組件,即樣品0、1和2顯示出相似的表現,分別在經(jīng)過(guò)40,660、41,476和43,489次循環(huán)后發(fā)生故障。
圖8 組件故障所經(jīng)過(guò)的功率循環(huán)次數。
在所有IGBT都發(fā)生故障之后,模塊會(huì )被拆除并檢查芯片和封裝鍵合線(xiàn)的狀況。圖9是其中一個(gè)測試芯片的照片,顯示出在測試期間有多條封裝鍵合線(xiàn)斷裂,芯片表面有一個(gè)區域發(fā)生燒毀,這可能是在輸入高電流時(shí)線(xiàn)路脫落而產(chǎn)生電弧所造成。
圖9 封裝鍵合線(xiàn)斷裂和芯片表面燒毀。
盡管封裝鍵合線(xiàn)出現明顯的缺陷,但是斷裂的封裝鍵合線(xiàn)并未造成器件故障。所有芯片失效的原因都是因為過(guò)熱和閘級氧化層損壞導致。這些效應隨后都可經(jīng)電性測試來(lái)進(jìn)行檢查和追蹤─封裝鍵合線(xiàn)破裂會(huì )可由VCE(集極-射極)電壓升高顯現,閘級氧化層損壞可造成IG(閘級漏電流)升高。在設計IGBT功率循環(huán)設備時(shí),這些參數都應當需要測量。
此外為了解過(guò)熱的原因,基板和底板之間的連接點(diǎn)以及芯片黏貼層都需要加以研究,這也是為何需要校準仿真模型的原因。圖10顯示兩個(gè)相鄰IGBT的溫度分布圖,此圖是使用校準后的詳細模型來(lái)仿真加熱后的溫度現象。相鄰芯片之間的熱耦合影響忽略不計,因此每個(gè)芯片可以單獨地測試。
圖 10 仿真單一半橋模塊在加熱 3 秒鐘之后的溫度分布。
由于加熱時(shí)間短,基板-底板連接點(diǎn)的最大溫升僅為71℃,但是芯片粘貼層溫度升高超過(guò)100℃。結果顯示,結構中最易受損的地方是芯片粘貼層的材料。
定期測量所獲得的熱瞬態(tài)值會(huì )依據不同的功率循環(huán)次數來(lái)產(chǎn)生不同的結構函數。圖11顯示每5,000次循Power Cycles 環(huán)測試后所對應結構函數的影響。在第一階熱容值后,平坦區域對應的是芯片粘貼層材料。組件結構在17,000次循環(huán)之前仍很穩定;但是在此之后,芯片粘貼層材料明顯發(fā)生降級,且其熱阻持續升高直到組件發(fā)生故障。
圖11 樣品0在不同時(shí)間點(diǎn)下所測量的結構函數。
圖 12所顯示的是芯片粘貼層的熱阻除以系統的初始總熱阻,并依功率循環(huán)測試的次數所繪制的圖形。此結果可確認該黏貼層在15,000次循環(huán)之后迅速產(chǎn)生降級。因為芯片粘貼層材料發(fā)生了極大的變化導致熱傳路徑明顯改變,使其無(wú)法研究后一層的結構。但后一層結構中的降級也可合理預測,只不過(guò)它們與芯片粘貼層材料的問(wèn)題相比可忽略不計。
圖12 芯片粘貼層熱阻與初始總熱阻的相對比值。
大約20,000次循環(huán)后,芯片粘貼層的降級影響越趨明顯,而在接下來(lái)的10,000次循環(huán)內,組件節點(diǎn)至環(huán)境的總熱阻因循環(huán)而倍增。在30,000次循環(huán)后,因為熱傳遞路徑發(fā)生了變化,我們已無(wú)法確定芯片粘貼層的正確熱阻。
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