X波段微帶帶通濾波器的仿真設計

　氧化鋁陶瓷基板上薄膜無(wú)源元件混合電路過(guò)去常用于要求高精度、長(cháng)期穩定可靠、中等功耗和頻率不超過(guò)100MHz的應用。提高這些傳統性能的極限以滿(mǎn)足平面傳輸線(xiàn)濾波器不斷發(fā)展和增長(cháng)的要求，已成為生產(chǎn)流程控制、材料相容性工程以及電磁(EM)設計的精巧之處。X波段微帶帶通濾波器的薄膜制造工藝綜合考慮了上述因素。

　　在高精度微帶帶通過(guò)濾器的設計和制造過(guò)程中，需要考慮導體屬性、介電性能、尺寸和幾何外形。這里采用了平行板電容和諧振腔介電特性技術(shù)，對氧化鋁的介電常數(Er)和損耗角正切值進(jìn)行了測量。測量結果顯示，氧化鋁的批次內電氣屬性的非均勻性(Er=4~5%)和損耗角正切值(tan=40%)。介電厚度測量顯示有明顯的不一致性。為適應介質(zhì)基板的不一致性，需根據其特定的介電特性量身定制導體掩膜原圖，以實(shí)現最佳濾波器性能。TiW/Au金屬化方案的RF薄層電阻率的計算結果顯示，TiW決定導體損耗程度，在10GHz時(shí)約為0.089dB/cm。經(jīng)過(guò)評估，鈦鎢金(TiW/Au)的導體損耗在0.08dB/cm到0.11dB/cm 之間，主要決定于界面TiW附著(zhù)層。

　　對X波段微帶帶通濾波器進(jìn)行了EM仿真、薄膜制造和矢量網(wǎng)絡(luò )分析儀(VNA)測試。仿真和測試的濾波器特性非常吻合：因數為10.1GHz;S211.3dB;電壓駐波比(VSWR)為1.1;帶寬在1dB、3dB和10dB的時(shí)候分別為340MHz、380MHz和800MHz;形狀因數為0.054dB/MHz。

　　下文詳細介紹X波段微帶帶通濾波器的設計，重點(diǎn)關(guān)注材料與生產(chǎn)考慮因素。

　　濾波器通常用來(lái)從復雜波形中篩選/隔離出單個(gè)或者多個(gè)信號(頻率)。此外，它們還能夠對稱(chēng)或者非對稱(chēng)地修正信號的幅度和/或相位。

　　隨著(zhù)業(yè)界逐漸使用特定頻率用于通信，以及射頻信號傳輸需要兼顧普通模擬信號和數字信號，帶寬被具有獨特特性的信號所占用。這些特殊信號既能以離散頻率通道中的單一信號形式存在，也能以占用跳頻信號集群包形式出現。頻譜被劃分為普遍接受的頻段外，剩余部分供各級雷達工作頻率使用。頻段劃分隨定義機構(國際電信聯(lián)盟(ITU)、JCS)的不同略有區別。

　　表1是ITU的頻段名稱(chēng)及其一般應用。在如此復雜電磁環(huán)境中，需要對分配的帶寬進(jìn)行充分的利用，因此出色的射頻系統性能主要取決于經(jīng)過(guò)優(yōu)化的器件性能。其中濾波器是系統的關(guān)鍵組成部分，一般用來(lái)從更為復雜的波形中篩選/隔離出一個(gè)或多個(gè)信號(頻率)。此外，濾波器能對稱(chēng)或者非對稱(chēng)地修正信號的幅度和/或相位。在為數眾多的濾波器設計中，采用微帶幾何形狀的平面導波傳輸線(xiàn)結構，最適合采用高精度薄膜制造工藝、無(wú)源微波組件制造工藝以及后續的模塊組裝工藝。

　　設計結構

　　在這種配置中，介質(zhì)層位于金屬化導體之間，頂層是金屬化電路導體層，底層是整片的接地層。雖然由于介質(zhì)層與頂層電路導體層不對稱(chēng)(介質(zhì)層與導體層只在一側接觸)，該結構的電場(chǎng)(E)和磁場(chǎng)(H)將導致近似TEM的電磁橫向傳播，但是微帶幾何結構能在寬泛的特性阻抗范圍內(15~150Ω)提供良好的功率容量、中等的輻射損耗(適度的串擾)和頻散性能。

　　設計目標

　　一般而言，帶通濾波器的設計目標是在帶通頻率上將傳輸損耗降至最低，并且在期望帶寬的上下實(shí)現最大抑制。濾波器的性能品質(zhì)因數(FOM)由S參數、帶寬、中心頻率、紋波、抑制、群延遲和功率容量定義。根據由這些FOM構成的規范集，可以進(jìn)行計算密集的EM建模和優(yōu)化。選擇與所需濾波器性能最接近的合適的傳輸函數(切比雪夫、貝塞爾、橢圓等)，并重復運行FOM優(yōu)化流程。最終的濾波器結構由終端耦合、邊緣耦合、交叉的Ω/2長(cháng)開(kāi)路諧振器串聯(lián)而成。通過(guò)調節導體諧振器的對稱(chēng)偏移量、間隔、寬度、長(cháng)度、厚度以及“中間”介質(zhì)層的Er和厚度，可以得到最佳的FOM。

　　用于生產(chǎn)的材料結構

　　已完成的邊緣耦合交叉式濾波器的結構示例如圖2和圖3所示。邊緣耦合濾波器的插入損耗和回波損耗性能如圖1所示。

　　一旦優(yōu)化設計完成，就可以生成合適的導體走線(xiàn)圖，然后采用常規的薄膜加工進(jìn)行諧振器所要求的金屬化圖形沉淀。采用這種方法生產(chǎn)的帶通濾波器，其獨特之處在于填充的過(guò)孔將接地層和頂層的微帶導體連接在一起(接地層-信號層-接地層)，并采用聚酰亞胺支撐的“空氣橋”進(jìn)行導體互聯(lián)。

　　介電特性的測量

　　介電常數和損耗角正切屬性測量采用了開(kāi)放式諧振器/HP8510 VNA和平行于基板的兩個(gè)主平面內軸線(xiàn)的電場(chǎng)，測量范圍為18GHz到25GHz。

　　平行板法用于根據電容和損耗因數分別導出介電常數(Er)和損耗角正切。先對99.6%的0.015英寸x4.5英寸x3.75英寸三氧化二鋁陶瓷基板進(jìn)行清洗，然后進(jìn)行TiW/Au(1000A/2500A)濺射金屬化，最后電鍍Au(3.75微米)?；咫S后被切割成4.40英寸x3.70英寸的標稱(chēng)尺寸，供隔離的頂部電極和底部電極使用。先用LCR測量計/固定裝置進(jìn)行電容測量，然后用介電厚度、電極面積和測得電容計算Er。

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