一種微型寬帶光隔離器的設計

(5)回波損耗
(6)偏振相關(guān)損耗PDL
2．2 微型帶寬光隔離器的設計：
這里主要是分析設計微型寬帶光隔離器的三個(gè)方面。
(1)反向隔離度的設計
反向隔離度與工作波長(cháng)及法拉第旋光片的波長(cháng)有著(zhù)密切關(guān)系。在中心波長(cháng)(1．55μm)處可以獲得很好的反向隔離度，但當工作波長(cháng)轉移到近1．51μm或1．59μm后，反向隔離度就降低了約50dB，效果不是很理想。為此，可以在法拉第旋光片后加入一個(gè)1／4波片或全波片來(lái)補償這種隔離器的旋光色散特性。改良后，當波長(cháng)移到1．51μm和1．59μm處，反向隔離度也只是減小了20 d B。

(2)△L的設計
(3)隔離度帶寬的設計
在法拉第旋光片后加入一個(gè)1／4波片或全波片，不僅減小了反向隔離度并可以使50dB光隔離器的隔離度范圍變成大約80nm以上，故稱(chēng)為微型寬帶光隔離器。

3 展望未來(lái)
在我國，光隔離器在七十年代就被列為重點(diǎn)開(kāi)發(fā)項目，到了八十年代后，其發(fā)展步伐越來(lái)越快。光隔離器的產(chǎn)品性能越來(lái)越好，體積越來(lái)越小。隨著(zhù)單膜光纖通信的發(fā)展，光隔離器的發(fā)展正朝著(zhù)高性能，集成化，微型化，多功能，低價(jià)格的方向一步步發(fā)展。未來(lái)的光隔離器可能是一種微型化的高性能集成器件。所以利用納米制造技術(shù)制造體積更小的光隔離器將成為一個(gè)趨勢。納米制造是一種更為高效的制造技術(shù)。這種技術(shù)利用半導體晶片制造工藝在亞微米尺寸上制作元器件。納米制造技術(shù)使尺寸低于光波長(cháng)的微型結構得以實(shí)現，它可以在不同材料(如玻璃、熔融石英、III―IV族材料、石榴石)、不同規格(如圓形、矩形)的基底上制作出各種形狀(如軌道形、柱形、棱錐形、圓錐形)的器件。通過(guò)適當地選擇材料、基底、形狀、規格便可以在納米結構上實(shí)現光隔離器的功能。納米制造的光隔離器的核心部件就是直接在石榴石基底上集成納米偏振結構。這項技術(shù)的應用給光隔離器帶來(lái)了三大優(yōu)勢：體積小、穩定性高、成本低。

4 結論
光隔離器是廣泛應用于光纖通信中的光無(wú)源器件。隨著(zhù)光通信技術(shù)向高速、大容量方向發(fā)展，光路中反射已經(jīng)成為一個(gè)必須解決的問(wèn)題，由此出現了一種只允許光線(xiàn)沿光路正向傳輸的非互易性無(wú)源器件一光隔離器。光隔離器是光通信技術(shù)中廣泛應用的重要無(wú)源器件之一，目前國內外市場(chǎng)處于一種供不應求的局面。光隔離器經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展，已產(chǎn)生了―系列的器件，如陣列(2in1 or 3inl)光隔離器小型光隔離器，還有一些隔離器與WDM、Tap、GFF等濾波器件混合的器件等，這些器件都已在光訊科技研制成功，并批量生產(chǎn)。按隔離器的形狀可分為在線(xiàn)型和自由空間型兩大類(lèi)，按偏振相關(guān)和偏振無(wú)關(guān)來(lái)分在線(xiàn)型和自由空問(wèn)型兩種都有，一般來(lái)說(shuō)自由空間型、偏振相關(guān)型隔離器應用較多，主要應用在有源器件的封裝。