東方集成在上海安裝了等離子體沉積系統

　　2012年3月，東方集成在上海某研究所成功安裝了SENTECH SI500D等離子體沉積系統。SI500D等離子沉積系統是ICP-PECVD設備，用于在基片上沉積 SiOx, SiOxNy或 SiNy薄膜。沉積薄膜的厚度、折射率、應力可以簡(jiǎn)單的、連續的調節。

　　這是帶LOADLOCK的SI500D等離子沉積系統在中國的第一次安裝。SENTECH ICP-PECVD設備的安裝，由德國原廠(chǎng)技術(shù)支持工程師和東方集成工程師共同完成，由SENTECH和東方集成共同承擔售后保修，具有標志性的歷史意義?！　?/p>

本次的安裝，體現了東方集成為客戶(hù)考慮，將工作做完美的一貫宗旨;也標志著(zhù)，SENTECH中國區等離子體刻腐蝕和沉積系統業(yè)務(wù)在與東方集成的合作中進(jìn)入了飛速、穩定的發(fā)展。