ARM和TSMC簽署65納米和45納米技術(shù)的物理IP長(cháng)期協(xié)議
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ARM Advantage IP提供高速、低功耗的性能表現,滿(mǎn)足消費電子、通訊和網(wǎng)絡(luò )市場(chǎng)眾多應用的需求。Advantage標準單元包括功耗管理工具包,實(shí)現動(dòng)態(tài)和漏泄功耗節省技術(shù),例如時(shí)鐘門(mén)控、多電壓分離和電能門(mén)控等。它還提供五個(gè)Advantage存儲編譯器,提供相似的高級功耗節省特性。該產(chǎn)品套件在擴展了的電壓范圍內對時(shí)鐘和功耗作了特殊設置,使得設計師可以完成多電壓設計的精確模擬。此外,ARM還將發(fā)布TSMC Nexsys I/O產(chǎn)品,從而提供完整的物理IP。
Advantage IP包含了ARM廣泛的views和模型集,提供了與眾多業(yè)界領(lǐng)先的EDA工具的整合。這些views在廣泛的運行條件下可以為Advantage產(chǎn)品提供功能、時(shí)鐘和功耗信息,使得設計師可以在SoC中實(shí)現能夠積極控制動(dòng)態(tài)和漏泄功耗的復雜功耗管理系統。
TSMC 65納米技術(shù)的成功是建立在其業(yè)界領(lǐng)先的0.13微米和90納米技術(shù)的基礎上。TSMC預計2006年65納米產(chǎn)品將會(huì )有一個(gè)爆發(fā)式的增長(cháng)。公司每2個(gè)月會(huì )啟動(dòng)65納米的原型驗證試驗線(xiàn),幫助客戶(hù)和EDA、IP和庫供應商就他們的尖端設計進(jìn)行原型試驗和驗證。
TSMC 65納米NexsysSM技術(shù)是其同時(shí)采用了銅互連和low-k絕緣技術(shù)的第三代半導體工藝。它是一個(gè)9層金屬工藝,核電壓1.0或1.2伏,I/O電壓1.8,2.5或3.3伏。與TSMC現有的90nm Nexsys工藝相比,這項新工藝技術(shù)可以將使標準單元門(mén)的密度翻倍。它同時(shí)還有很具競爭力的六晶體靜態(tài)隨機存取記憶體(6T SRAM)和單晶體嵌入式靜態(tài)隨機存取記憶體(1T embedded DRAM)這兩種存儲單元尺寸。此外,該技術(shù)還包括支持模擬和無(wú)線(xiàn)設計的混合信號和無(wú)線(xiàn)電頻率功能,支持邏輯和存儲整合的嵌入式高密度存儲,以及支持客戶(hù)加密需求的電子保險絲選項功能。
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