Qcept為晶圓廠(chǎng)提供NVD檢測方案

　　Qcept Technologies 公司日前宣布，已經(jīng)有兩家位于亞洲的大型半導體制造商，采用了 Qcept 的 ChemetriQ 5000 非光學(xué)可視性缺陷(NVD)檢測系統。不論是提供有無(wú)圖案化(pattern)的晶圓， ChemetriQ 5000 都能檢測出 NVD ，因此可用于廣泛的工具與在線(xiàn)檢測應用，以提高良率學(xué)習的速度。

　　該方案專(zhuān)門(mén)針對3X納米內存與邏輯組件生產(chǎn)，據Qcept表示，目前主要訂單均來(lái)自?xún)杉掖笮托酒圃焐?，顯示可支持高產(chǎn)量良率管理策略的NVD檢測重要性正日益提升。

　　其中一家客戶(hù)已采購多部ChemetriQ 5000系統，用于監測3X納米的內存與邏輯產(chǎn)品晶圓。第二家客戶(hù)則購買(mǎi)一部ChemetriQ 5000系統用于監測3X納米內存晶圓。這些系統將運用于客戶(hù)生產(chǎn)晶圓廠(chǎng)中的多種應用，其中包括凈后檢測、監視反應式離子蝕刻制程(Reactive Ion Etch, RIE)、以及監視濕凈制程。

　　在3X納米與更小的設計節點(diǎn)方面，業(yè)界透過(guò)新的材料與組件結構，加上運用傳統的微影制程，可提升半導體組件的效能。業(yè)者采用這些新材料與結構時(shí)，需要極精準地控制晶圓的洗凈以及進(jìn)行表面預處理(surface preparation)，因此這些制程對于組件良率的重要性也隨之升高。晶圓洗凈與表面預處理是晶圓廠(chǎng)中重復次數最多的步驟，每片晶圓須重復進(jìn)行高達100次，因此有許多機會(huì )出現非最佳(sub-optimal)的洗凈制程，導致在這些先進(jìn)的設計節點(diǎn)上會(huì )出現嚴重的良率損耗。

　　ChemetriQ 5000平臺能針對非最佳洗凈作業(yè)所造成的NVD，提供快速、全晶圓、NVD的在線(xiàn)檢測功能 — 如有機與無(wú)機的殘余物、金屬污染、以及制程引發(fā)的充電–這些因素都可能導致嚴重的良率損失，但若采用光學(xué)檢測系統則無(wú)法檢測出這些缺陷來(lái)源。此平臺采用一種創(chuàng )新的非破壞性技術(shù)來(lái)檢測晶圓表面上的功函數(work function)變化。更強化的偵測算法加上更高的定位準確度，進(jìn)一步提升ChemetriQ 5000的效能，不論晶圓是否已經(jīng)進(jìn)行微影圖案化，都能偵測出各種非光學(xué)可視性缺陷。