朱夢(mèng)劍研究員團隊:基于拉曼光譜法的電偏置懸空石墨烯器件熱導率研究
來(lái)源:DT半導體
石墨烯是典型的二維原子晶體材料,具有極高的熱導率,其以獨特的電子-聲子相互作用機制以及在微納尺度熱管理領(lǐng)域的應用潛力而備受矚目。國內外針對石墨烯在不同溫度下的熱導率進(jìn)行了大量的理論和實(shí)驗研究,但如何準確測量電偏置作用下懸空石墨烯器件的熱導率仍需進(jìn)一步深入研究。本課題組成功制備了高質(zhì)量的懸空石墨烯場(chǎng)效應晶體管,并基于拉曼光譜法研究了少層懸空石墨烯在不同電壓下的熱導率變化規律。實(shí)驗結果顯示:當偏置電壓從0 V增加至1.5 V時(shí),懸空石墨烯的最大溫度變化范圍為300~779 K,同時(shí)其熱導率也發(fā)生了相應變化,介于2390~3000 W/(m·K)之間。本實(shí)驗結果為研究懸空石墨烯納米電子器件在實(shí)際應用場(chǎng)景中的熱傳導特性提供了實(shí)驗數據參考。
關(guān)鍵詞:光學(xué)器件、懸空石墨烯、場(chǎng)效應晶體管、熱導率、拉曼光譜
1 引 言
隨著(zhù)半導體制備技術(shù)的快速發(fā)展以及新型二維材料的涌現,半導體器件的尺寸不斷縮小至微納尺度,器件的集成化越來(lái)越高,但器件的產(chǎn)熱也集中在更小的范圍內,熱能密度成倍增大,散熱問(wèn)題成為制約微納器件尺寸進(jìn)一步縮小的主要問(wèn)題。因此,微納器件的熱管理不容忽視。熱導率作為材料的關(guān)鍵熱特性參數之一,對于優(yōu)化微納器件的熱管理至關(guān)重要。熱導率的確定通常需要測量樣品的溫度或熱流量,并結合公式或數值模型來(lái)完成。例如,塊體材料的熱導率一般采用3ω法進(jìn)行測量,而納米材料的熱導率通常采用拉曼光譜法、懸空熱橋法以及時(shí)域熱反射法測量[1-6]。在眾多的新材料中,石墨烯、硼烯[7]、二硫化鉬[8-9]、二硫化鎢[10]等二維層狀材料具有原子級厚度以及優(yōu)異的熱導率,很適合用于微納尺度器件的熱管理。其中,石墨烯是由碳原子以sp2雜化形成的以蜂窩狀晶格排列而成的單原子層材料,厚度僅為0.34 nm,是目前已知最薄的材料,具有優(yōu)異的電學(xué)、光學(xué)和熱學(xué)性能[11-15]。2008年,加州大學(xué)河濱分校的Balandin課題組[1]利用拉曼光譜法對單層石墨烯的熱導率進(jìn)行了測量,結果顯示其熱導率最高可達5300 W/(m·K),高于塊體石墨與金剛石的熱導率,是目前所知材料中最高的,引起了研究人員的廣泛關(guān)注。石墨烯是一種良好的二維導熱填料,在熱界面材料中具有廣闊的應用前景。在此應用背景下,諸多學(xué)者研究了襯底、褶皺、應變及晶粒尺寸對石墨烯熱導率的影響。2010年,得克薩斯大學(xué)的Ruoff課題組[6]測量了通過(guò)化學(xué)氣相沉積(CVD)在銅襯底上生長(cháng)的單層石墨烯在懸空與支撐狀態(tài)下的熱導率,結果表明,銅襯底與二氧化硅襯底上的單層石墨烯的熱導率相近。2011年,新加坡國立大學(xué)的Thong課題組[16]采用懸空熱橋法對懸空和襯底支撐的少層石墨烯在77~350 K溫度范圍內的熱導率進(jìn)行了測量,驗證了襯底的存在會(huì )降低石墨烯的熱導率。2012年,廈門(mén)大學(xué)的蔡偉偉課題組[17]研究了CVD生長(cháng)的懸空石墨烯的褶皺對熱導率的影響,他們對無(wú)褶皺和有褶皺石墨烯的熱導率進(jìn)行統計后發(fā)現,無(wú)褶皺石墨烯熱導率的平均值比有褶皺石墨烯的高27%。2017年,中國科學(xué)院金屬研究所的任文才課題組[18]通過(guò)一種分離-吸附化學(xué)氣相沉積方法實(shí)現了鉑(Pt)襯底上晶粒大小可控的單層石墨烯的生長(cháng),并研究了晶粒尺寸在200 nm~1 μm范圍內的單層石墨烯熱導率的變化規律,結果發(fā)現石墨烯薄膜的熱導率隨著(zhù)晶粒尺寸的減小而顯著(zhù)降低。2022年,大阪府立大學(xué)的Arie課題組[19]研究了石墨烯在施加雙軸拉伸應變時(shí)熱導率的變化,他們在實(shí)驗中采用拉曼光譜儀和原子力顯微鏡精確估計應變;結果表明:當應變?yōu)?.1%時(shí),石墨烯的熱導率急劇降低了約70%??偨Y前人關(guān)于懸空石墨烯熱導率的研究發(fā)現,石墨烯中溫度的變化多數來(lái)源于環(huán)境溫度的變化(環(huán)境溫度變化是由于將基底作為加熱源,或者通過(guò)照射拉曼激光引入了熱量)。鑒于此,本課題組結合拉曼光譜法,針對電偏置作用下的少層懸空石墨烯的熱導率展開(kāi)研究。石墨烯中的溫度變化過(guò)程是一個(gè)連續變化的動(dòng)態(tài)過(guò)程,是由外加偏置電壓主導的,而非簡(jiǎn)單的環(huán)境溫度變化。在這個(gè)過(guò)程中,熱電子通過(guò)電子-聲子耦合機制將熱量傳遞給石墨烯晶格。以單層石墨烯為例,其總共有6支聲子色散曲線(xiàn),分別為3個(gè)光學(xué)支(面內縱向光學(xué)支iLO、面內橫向光學(xué)支iTO和面外橫向光學(xué)支oTO)和三個(gè)聲學(xué)支(面內縱向聲學(xué)支iLA、面內橫向聲學(xué)支iTA和面外橫向聲學(xué)支oTA),其中涉及石墨烯中的熱電子與這些聲子之間較為復雜的耦合機制與平衡狀態(tài)。本課題組首先通過(guò)對不同溫度下的少層懸空石墨烯(簡(jiǎn)稱(chēng)為“FLG”)進(jìn)行變溫拉曼光譜測試,計算出石墨烯拉曼特征峰的一階溫度系數,然后基于拉曼光譜法研究不同偏置電壓作用下少層懸空石墨烯的溫度及熱導率變化。
2 結構與測量方法
懸空石墨烯器件的制作分為三步:1)制作電極;2)刻蝕溝道;3)轉移石墨烯。第一步包括以下幾個(gè)步驟:1)在硅片表面旋涂AZ5214光刻膠,并在100 ℃下烘烤1 min,減小光刻膠的流動(dòng)性,使之定型;2)使用紫外光刻進(jìn)行曝光,顯影定影后,得到所需的電極圖案;3)采用電子束熱蒸鍍工藝先后在曝光區域蒸鍍厚度分別為5 nm的鉻(Cr)層和50 nm的金(Au)層,通過(guò)剝離(lift-off)工藝得到所需的金屬電極。第二步使用電感耦合等離子體刻蝕機(ICP)對電極之間的SiO2層進(jìn)行刻蝕,得到刻蝕溝道,溝道寬度為1.0 μm,深度為300 nm。第三步所用的石墨烯是由高定向熱解石墨薄片通過(guò)機械剝離得到的,石墨烯的轉移采用的是基于聚二甲基硅氧烷和聚乙烯醇樹(shù)脂薄膜(PDMS+PVA)的干法轉移,即:加熱轉移載體,PDMS反復釋放PVA,從而實(shí)現石墨烯從硅片到電極上方的轉移,得到所需器件。
在熱導率測量實(shí)驗中,通過(guò)改變電極兩端的偏置電壓,在電流焦耳熱作用下改變石墨烯的溫度。固定偏置電壓,改變拉曼光譜儀的激光功率,測量石墨烯的拉曼光譜,如圖1(a)所示。圖1(b)為懸空石墨烯器件的掃描電子顯微鏡圖像,圖1(c)為后續加電測試的石墨烯拉曼單點(diǎn)光譜與器件的掃描電子顯微鏡照片。根據拉曼光譜可以判斷石墨烯的層數為4~5層;掃描電子顯微鏡照片清晰地表明石墨烯懸空狀態(tài)良好,沒(méi)有塌陷與破損。值得注意的是,通過(guò)PDMS+PVA干法轉移的石墨烯器件通常會(huì )存在不可避免的聚合物殘留。使用探針臺與2636B源表對器件進(jìn)行電流退火,可以減少石墨烯上殘留的PVA,減少摻雜,顯著(zhù)提高器件的遷移率,同時(shí)保證后續測試過(guò)程的穩定性。圖1(d)是石墨烯器件經(jīng)電流退火后在室溫下測得的場(chǎng)效應轉移曲線(xiàn)I–Vg,石墨烯器件的電中性點(diǎn)VD=3.47V,這表明石墨烯摻雜很少。
圖 1. 懸空石墨烯器件示意圖及表征測試。(a)器件結構以及拉曼光譜儀測量熱導率的實(shí)驗示意圖;(b)懸空石墨烯器件的掃描電子顯微鏡(SEM)照片;(c)少層懸空石墨烯的拉曼光譜;(d)少層懸空石墨烯晶體管的場(chǎng)效應轉移曲線(xiàn)
遷移率μ的計算公式為
材料的拉曼特性對外部環(huán)境變化具有很高的敏感性,如應力、溫度等外部因素發(fā)生改變時(shí),拉曼光譜的特征峰頻率會(huì )發(fā)生相應變化[20-24]。采用拉曼光譜法測定二維材料的熱導率通常分為兩步:
1) 標定石墨烯的溫度系數。通過(guò)改變環(huán)境溫度,獲得不同溫度下石墨烯的拉曼光譜,確定溫度與特征峰頻率的關(guān)系,得到一階溫度系數χ。
2) 固定偏置電壓,改變激光功率,獲得不同激光功率下石墨烯的拉曼光譜,確定激光功率與特征峰頻率的關(guān)系,計算得到熱導率κ。
對于單層懸空石墨烯的熱輸運過(guò)程,可以考慮兩種極端情況[1],一種是熱量從石墨烯的中心向邊界擴散,另一種是熱量以平面波的形式以相反的方向向兩側溝道傳播。前者適用于激光光斑遠小于懸浮石墨烯尺寸的情況,后者則適用于激光光斑大小與石墨烯寬度W 相當的情況?;趦蓚€(gè)不同激光功率(P1和P2)下的器件中心點(diǎn)溫度,可以建立均勻徑向熱流方程,得到關(guān)于熱導率的表達式κ=χ(1/2πh)(ΔP/ΔT)?1,其中h是單層石墨烯的厚度,ΔT是兩個(gè)激光功率下單層石墨烯的溫度變化。
對于少層懸空石墨烯,熱導率可由熱流方程[1]計算得出,即
式中:L、h、W分別為刻蝕溝道上方少層懸空石墨烯的長(cháng)度、厚度與寬度;δω為激光加熱功率δP導致的特征峰峰值頻率的位移;χ為石墨烯拉曼特征峰的一階溫度系數,需要單獨進(jìn)行計算;ω0為計算所得0 K下的拉曼特征峰頻率。在一定溫度范圍內,當溫度發(fā)生變化時(shí),石墨烯的晶格結構也會(huì )隨之發(fā)生變化,導致拉曼特征峰發(fā)生變化,即:溫度升高時(shí),拉曼特征峰紅移;溫度下降時(shí),拉曼特征峰藍移。拉曼峰值處的頻率隨著(zhù)樣品溫度變化近似呈線(xiàn)性變化,如式(3)所示。此前使用拉曼光譜法測量石墨烯溫度的研究也因此將石墨烯的G峰與2D峰作為溫度計。該式也可以寫(xiě)成Δω=χΔT,其中Δω是由溫度變化引起的拉曼特征峰頻率的變化,ΔT為溫度變化,即通過(guò)變溫拉曼光譜下石墨烯特征峰的頻率變化可以計算得到材料拉曼特征峰的一階溫度系數。

圖 2. 石墨烯變溫拉曼光譜以及G峰、2D峰的頻率變化。(a)100~400 K范圍內少層懸空石墨烯的變溫拉曼光譜;(b)不同溫度下的石墨烯G峰頻率以及計算得到的一階溫度系數χGχG;(c)不同溫度下的石墨烯2D峰頻率以及計算得到的一階溫度系數χ2D
圖2(a)為不同溫度下測得的石墨烯的拉曼光譜,G峰、2D峰的峰位變化由黑色虛線(xiàn)標出,可以看出:當溫度升高時(shí),石墨烯的G峰頻率減小,發(fā)生紅移;當溫度降低時(shí),G峰頻率增大,發(fā)生藍移。2D峰也出現相同的趨勢,同時(shí)在溫度升高時(shí)會(huì )發(fā)生展寬。圖2(b)、(c)分別是從石墨烯變溫拉曼光譜中提取的G峰與2D峰的頻率,頻率與溫度之間的變化關(guān)系可以用Δω=χΔT描述。擬合后的結果表明,石墨烯G峰的一階溫度系數χG=?0.0158 cm?1?K?1,2D峰的一階溫度系數χ2D=?0.0368 cm?1?K?1。由之前的報道[25-27]可知,石墨烯的G峰與2D峰都可以用來(lái)判斷石墨烯的局部溫度變化。對于單層石墨烯而言,2D峰表現出明顯的對稱(chēng)性,其頻率可由單個(gè)洛倫茲峰擬合得到;隨著(zhù)石墨烯層數增加,2D峰的對稱(chēng)性逐漸消失,頻率須由多個(gè)洛倫茲峰擬合得到。對于少層懸空石墨烯來(lái)說(shuō),繼續采用2D峰進(jìn)行擬合將不再合適,因此本文用G峰進(jìn)行擬合,同時(shí)采用對應的一階溫度系數χG進(jìn)行后續計算。接下來(lái)采用光功率計確定少層懸空石墨烯上的拉曼激光功率。由圖3(a)可以明顯看出,當偏置電壓為零時(shí),隨著(zhù)激光功率由0.5 mW增大到4.0 mW,少層懸空石墨烯的G峰發(fā)生紅移,頻率減小,峰強明顯增大。這表明少層懸空石墨烯中心位置的局部溫度升高。圖3(b)展示了少層懸空石墨烯的G峰頻率與激光功率之間的關(guān)系,通過(guò)線(xiàn)性擬合得到斜率δωδP=?0.5698。該樣品的長(cháng)度L=1.0 μm,寬度W=2.8 μm,厚度h=1.7 nm,結合G峰一階溫度系數(χG=?0.0158 cm?1?K?1)和式(2)可以計算得到熱導率κ≈2895.8 W/(m?K)。
圖 3. 零偏置電壓下少層懸空石墨烯的G峰拉曼光譜以及G峰頻率隨激光功率變化發(fā)生的偏移。(a)兩種不同激光功率下少層懸空石墨烯的G峰拉曼光譜;(b)少層懸空石墨烯的G峰頻率隨激光功率的變化
圖 4. 不同偏置電壓下少層懸空石墨烯G峰頻率與激光功率的關(guān)系
圖 5. 通過(guò)實(shí)驗測量并計算得到的少層懸空石墨烯的溫度與偏置電壓、熱導率的關(guān)系。
激光的熱效應會(huì )對測量結果產(chǎn)生影響,因此實(shí)驗中應盡可能采用較小的激光功率(0.5 mW)來(lái)探測偏置電壓下少層懸空石墨烯的拉曼光譜。由圖5(a)可以看出,增大偏置電壓,少層懸空石墨烯的溫度上升,當偏置電壓Vb=1.5 V時(shí),溫度為779 K。由圖5(b)可以看出,熱導率的變化范圍為2390~3000 W/(m·K)。隨著(zhù)外加偏置電壓增大,石墨烯中的溫度升高,由于聲子之間的散射作用,石墨烯的熱導率表現為一定的下降趨勢并趨于平穩。因為聲子導熱的機制與理想分子氣體中粒子的導熱機制不同,聲子的動(dòng)量在每次碰撞中并不都是守恒的。由三聲子散射過(guò)程可以知道:當兩個(gè)聲子碰撞前的波矢之和處于第一布里淵區內時(shí),倒格矢G=0,合成的聲子的運動(dòng)方向不變,不會(huì )產(chǎn)生熱阻,為N過(guò)程;當兩個(gè)聲子碰撞前的波矢之和超出第一布里淵區時(shí),G≠0,合成的聲子的運動(dòng)方向會(huì )發(fā)生較大改變,產(chǎn)生熱阻,為U過(guò)程。當溫度高于100 K時(shí),石墨烯的導熱以U過(guò)程為主,且隨著(zhù)溫度升高,U過(guò)程的貢獻逐漸增大,石墨烯的熱導率隨溫度的升高而逐漸減小。實(shí)驗結果表明,石墨烯的熱導率隨溫度的變化呈現出波動(dòng)變化的態(tài)勢,與此前的報道不盡相同[5-6,28-31]。室溫下,熱導率與溫度之間基本符合κ∝1Ta,但目前關(guān)于懸空石墨烯的熱輸運特性在理論和實(shí)驗上都存在很大爭議,且對于a的具體值尚沒(méi)有統一結果。
4 結論
本課題組制備了高質(zhì)量的懸空石墨烯場(chǎng)效應晶體管,該器件具有較高的載流子遷移率。通過(guò)測量電偏置作用下少層懸空石墨烯的變溫拉曼光譜,確定了其拉曼特征峰的一階溫度系數。固定激光功率不變,改變外加偏置電壓,結合G峰一階溫度系數χG=-0.0158 cm-1·K-1,提取到了不同電壓下懸空石墨烯最中心位置拉曼光譜的變化情況,從而計算出了不同偏置電壓下少層懸空石墨烯的G峰頻率與外加偏置電壓之間的關(guān)系,得到了不同偏置電壓下懸空石墨烯最中心位置的溫度變化。固定外加偏置電壓不變,改變激光功率,結合熱流方程,計算得到了不同偏置電壓(對應著(zhù)石墨烯的不同溫度)下的熱導率。當偏置電壓從0 V增加到1.5 V時(shí),石墨烯的溫度從300 K升至779 K,熱導率介于2390~3000 W/(m·K)之間。
材料的熱學(xué)特性在一定程度上影響著(zhù)新型微電子器件工作的穩定性。隨著(zhù)電子器件微型化以及集成度的顯著(zhù)提高,功率密度急劇增大,電子器件中會(huì )產(chǎn)生大量的熱量,若這些熱量不能高效地耗散,就會(huì )在局部熱流密度較大的位置出現溫度較高的“熱點(diǎn)”,進(jìn)而對器件工作的穩定性和可靠性產(chǎn)生一定影響。這一問(wèn)題將嚴重制約半導體行業(yè)的發(fā)展。近年來(lái),納米尺度熱管理逐漸成為解決這一問(wèn)題的重要手段,高熱導率(熱輸運特性)和低界面熱阻(界面熱輸運特性)材料為半導體工業(yè)的發(fā)展提供了保障。具有較高熱導率的石墨烯可為微納器件的高效散熱提供保障。本文對具有一定電功率輸入的懸空石墨烯電子器件的熱導率變化進(jìn)行了深入研究,為石墨烯在納米電子器件領(lǐng)域的應用提供了重要參考。
原文信息 題目:基于拉曼光譜法的電偏置懸空石墨烯器件熱導率研究Thermal Conductivity of Electrically Biased Few-Layer Suspended Graphene Devices Measured by Raman Spectroscopy作者:子孺 1,2 周思宇 1,2 肖暘 1 張宇辰 1 郭楚才 1,2 劉肯 1,2 羅芳 1,2,* 朱夢(mèng)劍 1,2,**作者單位:1國防科技大學(xué)前沿交叉學(xué)科學(xué)院,湖南 長(cháng)沙 410073;2新型納米光電信息材料與器件湖南省重點(diǎn)實(shí)驗室,湖南 長(cháng)沙 410073來(lái)源:中國激光, 2023, 50(1): 0113017, 網(wǎng)絡(luò )出版: 2023-01-13參考文獻:略
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