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博客專(zhuān)欄

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誰(shuí)在搶奪掩膜版?

發(fā)布人:芯東西 時(shí)間:2022-11-18 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章
全球掩膜版市場(chǎng)格局解析。

如何一句話(huà)拉近與陌生人的距離:現在不景氣啊,都沒(méi)有單子,你家有嗎?這是筆者日前在某一電子展上的所見(jiàn)所聞,以此為開(kāi)頭,幾個(gè)陌生人迅速交換了聯(lián)絡(luò )方式,并投入到了激烈的討論中。

當前,全球半導體產(chǎn)業(yè)不景氣已經(jīng)成為不爭事實(shí),裁人、砍單、縮減資本等各種降本措施層出不求,就連代工一哥臺積電都傳出客戶(hù)大規??硢?,7nm制程產(chǎn)能利用率跌至50%以下。

然而就在這一片低迷的局勢中,芯片制造必需的掩膜版卻傳出供給告急,明年價(jià)格將再漲10%~25%。

下行周期里,到底是誰(shuí)在搶掩膜版?全球市場(chǎng)格局又呈現出怎樣的局面?


01.下行的周期,逆行的MASK


光刻機對芯片制造的重要性,想必大家都有所了解,而掩膜版就是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版。掩膜版(Photomask)又稱(chēng)為光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,由制造商通過(guò)光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成,主要作用體現為利用已設計好的圖案,通過(guò)透光與非透光方式進(jìn)行電路圖形復制,從而實(shí)現芯片的批量生產(chǎn)。圖片圖源:中泰證券從數據來(lái)看,掩膜版供給告急并不是空穴來(lái)風(fēng)。公開(kāi)消息顯示,以往高規格掩膜版的出貨時(shí)間為7天,現在拉長(cháng)4~7倍至30~50天,而低規格產(chǎn)品的交貨時(shí)間也較平時(shí)增加一倍。甚至有芯片設計廠(chǎng)商擔憂(yōu)稱(chēng),需要 30~45 個(gè)光掩膜來(lái)進(jìn)行半導體開(kāi)發(fā),但現在卻無(wú)法正確獲得。半導體業(yè)者透露,掩膜版電子束圖形曝光源(e-beam patterning lighters)等制造設備延后交貨,耽擱掩膜版出廠(chǎng)、推升產(chǎn)品價(jià)格。那么,為什么掩膜版的需求量會(huì )如此之高?
這需要從掩膜版的性質(zhì)來(lái)說(shuō),在芯片制造中,掩膜版屬于不可缺少的消耗品。由于每個(gè)掩膜版所能夠繪制的電路圖是有限的,而芯片制作又需要很多不同的電路圖形,相應就會(huì )需要很多塊掩膜版。
尤其隨著(zhù)芯片制程工藝的演進(jìn),電路圖變得越來(lái)越復雜,所需的掩膜版也越來(lái)越多。ASML數據顯示,2021年5nm制程每片晶圓平均掩膜版層約逾10層,3nm之后,每片晶圓平均掩膜層約將倍增達20層。DRAM部分,目前采用EUV技術(shù)完成約5層掩膜版量產(chǎn),明年后將提升至8到10層。雖然每片晶圓所需要的掩膜版數量很多,但每塊掩膜版在轉移完版上圖形后,就不會(huì )再用到,而且在工藝驗證過(guò)程中,一旦發(fā)生設計變動(dòng),調整了光刻版圖,那么原本制作的光掩膜也不會(huì )再使用。上述屬性決定了掩膜版本身的需求量就很大,然而之所以能在下行周期里,還能撐起逆行市場(chǎng),還有以下兩大原因:一是來(lái)自系統半導體,特別是高效能芯片,如車(chē)用半導體和自駕車(chē)芯片等需求的飆漲,而過(guò)去掩膜版擴產(chǎn)甚為有限。眾所周知,智能汽車(chē)所帶來(lái)的芯片市場(chǎng)規模是十分龐大的,英特爾CEO基辛格預測,到 2030 年,汽車(chē)半導體市場(chǎng)將翻一番,達到 1150 億美元,而高端汽車(chē)上搭載的半導體數量將增加 5 倍。
目前,汽車(chē)領(lǐng)域已經(jīng)成為了眾多芯片廠(chǎng)商瞄準的新賽道,甚至于三星電子和SK海力士等存儲廠(chǎng)商都已逐漸將目光投向了汽車(chē)半導體領(lǐng)域,更不用說(shuō)其他系統半導體廠(chǎng)商,更是扎堆涌入,在消費電子失速的當下,汽車(chē)迥然成為了他們的救星。但是過(guò)去掩膜版的擴產(chǎn)是十分有限的。一般來(lái)說(shuō),掩膜版制造商分為兩種,一種是英特爾、三星、臺積電等代工廠(chǎng)擁有自制掩膜版業(yè)務(wù),但他們的產(chǎn)能都是自產(chǎn)自銷(xiāo)。另一種就是獨立于代工廠(chǎng)的第三方掩膜版制造商,諸如美國Photronics、日本DNP、凸版印刷等,此類(lèi)廠(chǎng)商主要銷(xiāo)售的是成熟制程掩膜版,比如上述提到的車(chē)用芯片,大多數仍是成熟制程,麥肯錫高級顧問(wèn)Denise Lee日前指出,成熟工藝制程仍將是汽車(chē)芯片生產(chǎn)的主流,預計到2030年汽車(chē)芯片的成熟工藝制程需求將達到10%左右的復合年增長(cháng)率。圖片圖源:日經(jīng)中文網(wǎng)與先進(jìn)制程掩膜版相比,成熟制程掩膜版利潤率長(cháng)期處于低位,未來(lái)十年僅更新生產(chǎn)設備就需要投入10-20億美元,更不要說(shuō)新建產(chǎn)線(xiàn),凸版印刷就曾估計,以65nm節點(diǎn)為例,一條新的光掩膜生產(chǎn)線(xiàn)預計需投資6500萬(wàn)美元。巨大的折舊成本可能與當前掩膜版市價(jià)倒掛,長(cháng)期回報率不足以激發(fā)廠(chǎng)商投資,這也使得過(guò)去掩膜版擴產(chǎn)有限,因此面對現下蜂擁而至的需求,掩膜廠(chǎng)的產(chǎn)能難免有些“捉襟見(jiàn)肘”,供不應求之下,市場(chǎng)自然逆行向上。二是晶圓代工廠(chǎng)與IC設計廠(chǎng)產(chǎn)能陸續釋出,有更多新芯片完成設計定案,掩膜版開(kāi)案逐步涌現。臺灣光罩總經(jīng)理陳立惇先前曾分析,半導體需求在往下,但晶圓代工廠(chǎng)與設計公司的產(chǎn)能都開(kāi)始松動(dòng),但也因為有空出產(chǎn)能,新芯片完成設計定案,掩膜版開(kāi)案才能開(kāi)始涌入,有更多的Tape out進(jìn)來(lái),對掩膜版廠(chǎng)來(lái)說(shuō),客戶(hù)需求反而增加,下半年需求反而比上半年好。上述提到不同的芯片設計需要的掩膜版也是不同的,自動(dòng)駕駛、5G、元宇宙等技術(shù)的發(fā)展催生出了芯片的新需求,但由于此前缺芯情勢過(guò)于嚴峻,芯片設計廠(chǎng)和代工廠(chǎng)專(zhuān)注于短缺芯片,無(wú)暇顧及太多新需求。而如今,缺芯情況已經(jīng)得到了明顯緩解,雖然行業(yè)景氣徹底反轉,已經(jīng)處于下行周期內,但設計廠(chǎng)商想要立于不敗之地,搶奪未來(lái)市場(chǎng)仍是重中之重,隨之而來(lái)的是新芯片設計案數量的“水漲船高”,這也是IC設計廠(chǎng)擴大下單掩膜版廠(chǎng)商的原因,他們需要購買(mǎi)新的掩膜版并供應給代工廠(chǎng)。芯片設計廠(chǎng)瘋狂下單,但掩膜版廠(chǎng)已有產(chǎn)能有限,擴產(chǎn)也需要時(shí)間,短期內又不會(huì )出現新的產(chǎn)線(xiàn),這也加劇了緊張的供需關(guān)系。
02.掩膜版巨頭的增產(chǎn)投資


雖然過(guò)去掩膜版廠(chǎng)商對于擴產(chǎn)十分謹慎,但在當前這個(gè)行業(yè)情勢下,巨頭們也是大動(dòng)作頻頻。比如最近的臺灣光罩,臺灣光罩是全球第六大掩膜版制造商,最新財報顯示,臺灣光罩第三季合并營(yíng)收達20.68億元,年增28%;第三季營(yíng)業(yè)毛利5.42億元,年增48%;第三季營(yíng)業(yè)凈利3.05億元,年增89%。為解決掩膜版產(chǎn)能持續吃緊,搶先取得關(guān)鍵產(chǎn)能,爭取設備交機時(shí)效,臺灣光罩決定逆勢追加4.6億元資本支出,用于訂購KLA半導體檢測設備,預計于今年12月裝機,并于明年第一季創(chuàng )造營(yíng)收,預估營(yíng)收將持續二位數成長(cháng)。此前,臺灣光罩主要供應給6英寸/8英寸晶圓代工廠(chǎng),2019年開(kāi)始更進(jìn)一步跨足12英寸晶圓掩膜版市場(chǎng),法人估計今年臺灣光罩掩膜版12英寸業(yè)務(wù)占比將從2021年的21%提升至30%。不僅如此,臺灣光罩40nm也預計于2022年導入量產(chǎn),28nm則估計在2023年上半年導入量產(chǎn),90/65nm等制程產(chǎn)品已量產(chǎn)。早在今年3月初,臺灣光罩就召開(kāi)董事會(huì )現金增資發(fā)行新股事宜,預計規劃兩年內透過(guò)現金增資募集新臺幣60億元,以支應興建廠(chǎng)房與購置機器設備,作為中長(cháng)期產(chǎn)能升級計劃所需資金,該計劃完成后預計將增加20%產(chǎn)能,并可支持到40nm的半導體制程所需的掩膜版。當時(shí)消息顯示,除了在現有廠(chǎng)區擴產(chǎn)之外,臺灣光罩也將在苗栗銅鑼園區投資建新廠(chǎng)。今年1月初,臺灣光罩還曾宣布將投資35.57億元,主要是用在擴充產(chǎn)能與建廠(chǎng)的資本支出。掩膜版作為芯片制造的關(guān)鍵材料,半導體材料大國日本的實(shí)力自然不容小覷,擁有SKE、豪雅(HOYA)、日本DNP印刷公司(大日本印刷)、日本凸版印刷株式會(huì )社(Toppan Printing)等多家巨頭企業(yè)。今年8月,日經(jīng)新聞報道稱(chēng),因看好半導體中長(cháng)期旺盛需求,日本半導體材料大廠(chǎng)凸版印刷將通過(guò)子公司“Toppan Photomask”在2023年度之前投資約200億日元(約合人民幣10.13億元),擴大在日本及中國臺灣工廠(chǎng)的掩膜版產(chǎn)能。Toppan Photomask是凸版印刷于今年4月剝離其光掩膜業(yè)務(wù)而成立的子公司,目的是為了更容易從外部籌集投資資金。據悉,Toppan Photomask將增設使用于5-10nm邏輯芯片、10nm等級DRAM等先進(jìn)產(chǎn)品的掩膜版產(chǎn)線(xiàn),先進(jìn)制程產(chǎn)品的掩膜版產(chǎn)能較2020年度相比提高約2成。凸版印刷指出,短期內出現過(guò)剩情況消解的動(dòng)向不奇怪,但中長(cháng)期來(lái)看需求將成長(cháng)。圖片圖源:凸版印刷
除此之外,日經(jīng)新聞2月報道稱(chēng),DNP將在2023年度之前向設在日本、中國大陸和臺灣的生產(chǎn)工廠(chǎng)投資近100億日元來(lái)增加生產(chǎn)線(xiàn)。據了解,DNP在中國臺灣、中國大陸和意大利與當地企業(yè)建立了合資公司,今后將通過(guò)增資等方式提高產(chǎn)能,構建可根據供求情況在短期內交貨的生產(chǎn)體制。DNP表示,車(chē)載和傳感器等通用性較高的中端產(chǎn)品所用的光掩膜處于短缺狀態(tài),因此決定增產(chǎn)。值得一提的是,就在11月10日,DSP宣布將投資200億日元,在福岡縣北九州市的黑崎工廠(chǎng)新建大型金屬掩膜生產(chǎn)線(xiàn),預計2024年上半年開(kāi)始運營(yíng),雖然該產(chǎn)線(xiàn)主要是用于制造OLED顯示器所需的掩膜版,而非芯片制造所需,但從一定程度上也反映出無(wú)論顯示還是芯片,對掩膜版的需求都十分旺盛。圖片▲股價(jià)變化黑崎工廠(chǎng) 圖源:DNP
03.緊隨其后的國產(chǎn)廠(chǎng)商


受到掩膜版整體市場(chǎng)景氣度的提升,我國兩大掩膜制造商近期的股價(jià)也逆勢增長(cháng),11月10日,路維光電漲逾10%,清溢光電漲超7%,而兩家的財報數據更是喜氣洋洋。其中,龍頭廠(chǎng)商路維光電第三季度單季營(yíng)業(yè)收入1.99億元,同比增長(cháng)31.21%,歸母凈利潤為3905.37萬(wàn)元,同比增長(cháng)104.74%;清溢光電三季度營(yíng)業(yè)總收入2.06億元,同比上升28.95%,本季度歸母凈利潤3015.41萬(wàn)元,同比上升193.82%。雖然凈利潤增幅直線(xiàn)飆升,但需要注意的是,兩家巨頭的大頭業(yè)務(wù)都在平板顯示領(lǐng)域,半導體芯片業(yè)務(wù)占比皆不足兩成(路維光電2021年半導體芯片領(lǐng)域占比19.68%,清溢光電2021年半導體芯片占比16.68%),不過(guò)好在隨著(zhù)下游晶圓廠(chǎng)的話(huà)語(yǔ)權不斷增加,國產(chǎn)替代節奏有望提速,國內掩膜版廠(chǎng)商能力也在不斷成長(cháng)。路維光電在今年IPO中擬募資4.05億元,主要用于高精度半導體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴產(chǎn)項目等。路維光電表示,募投項目會(huì )進(jìn)一步將半導體掩膜版量產(chǎn)能力提升至130nm制程節點(diǎn),并立足于自主研發(fā)、突破半導體掩膜版制造中的精度控制、缺陷控制等關(guān)鍵技術(shù),將半導體掩膜版制作技術(shù)進(jìn)一步推進(jìn)至110nm/90nm/65nm等制程節點(diǎn)。據悉,路維光電已實(shí)現250nm制程節點(diǎn)半導體掩膜版的量產(chǎn),掌握180nm/150nm制程節點(diǎn)半導體掩膜版制造核心技術(shù)能力。圖片▲圖源:路維光電公告列表清溢光電也在加快半導體芯片掩膜版布局,目前已實(shí)現250nm工藝節點(diǎn)的6英寸和8英寸半導體芯片用掩膜版的量產(chǎn),正在推進(jìn)180nm半導體芯片用掩膜版的客戶(hù)測試認證,同步開(kāi)展130nm-65nm半導體芯片用掩膜版的工藝研發(fā)和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開(kāi)發(fā)規劃。此外,為了進(jìn)一步滿(mǎn)足產(chǎn)能,清溢光電也在積極引進(jìn)所需設備,深圳工廠(chǎng)新引進(jìn)的半導體芯片用掩膜版光刻機及配套設備已投產(chǎn),提升半導體芯片和 MicroLED 顯示、硅基半導體顯示用掩膜版等產(chǎn)品的產(chǎn)能。從清溢光電去年財報數據來(lái)看,半導體芯片領(lǐng)域已經(jīng)成為發(fā)展最快的業(yè)務(wù),增速高達 39.42%,有望成為新的增量業(yè)務(wù)。國內廠(chǎng)商在發(fā)力的同時(shí),半導體大佬也在積極建設掩膜版廠(chǎng)。“中國半導體之父” 張汝京深度參與的青島芯恩項目就自建了光罩廠(chǎng),2021年8月,青島芯恩正式宣布8英寸廠(chǎng)投片成功,投片產(chǎn)品為功率芯片,良率達90%以上,光罩廠(chǎng)也于同期完成了產(chǎn)品交付。
而就在今年8月,張汝京主導的光罩材料產(chǎn)業(yè)鏈項目簽約落戶(hù)浙江嘉興,項目總投資30億元,首期投資11億元,主要從事光罩材料產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)產(chǎn)品的研發(fā)制造。圖片圖源:中新網(wǎng)
04.結語(yǔ)


從某種意義上來(lái)說(shuō),掩膜版廠(chǎng)商的逆勢擴產(chǎn)與大硅片廠(chǎng)商有著(zhù)“異曲同工之妙”,都是看中了半導體長(cháng)期的強勁需求。DigitalJournal數據顯示,2021 年全球半導體光掩膜市場(chǎng)規模為 46.87 億美元,預計在預測期內以6.11%的復合年增長(cháng)率增長(cháng),到2027年達到 66.9128 億美元。與集成電路產(chǎn)業(yè)千億美元的市場(chǎng)相比,這個(gè)數據可以說(shuō)是微乎其微,但掩膜版對整個(gè)產(chǎn)業(yè)卻有著(zhù)舉足輕重的作用,其質(zhì)量的優(yōu)劣是可以直接影響光刻的質(zhì)量,進(jìn)而影響到芯片的性能。五礦證券報告顯示,未來(lái)掩膜版發(fā)展趨勢主要有 3 個(gè)方向:第一,精度趨向精細化,半導體領(lǐng)域,先進(jìn)制程工藝的演進(jìn),使其對與之配套的晶圓制造以及芯片封裝掩膜版提出了更高要求,隨著(zhù)先進(jìn)制程占比有望越來(lái)越大,未來(lái)掩膜版產(chǎn)品的精度將日趨精細化。第二,尺寸趨向大型化,隨著(zhù)電視尺寸趨向大型化,帶動(dòng)面板基板逐步趨向大型化,直接決定了掩膜版產(chǎn)品尺寸趨向大型化。第三,掩膜版廠(chǎng)商向上游產(chǎn)業(yè)鏈延伸,為了降低原材料采購成本,控制終端產(chǎn)品質(zhì)量,掩膜版廠(chǎng)商開(kāi)始陸續向上游產(chǎn)業(yè)鏈延伸,HOYA、LG-IT等部分企業(yè)已經(jīng)具備了研磨/拋光、鍍鉻、光阻涂布等掩膜版全產(chǎn)業(yè)鏈的生產(chǎn)能力。圖片圖源:路維光電招股書(shū)雖然本土掩膜版廠(chǎng)商已經(jīng)取得了很大的進(jìn)步,然而上游產(chǎn)業(yè)鏈的缺失也阻礙了他們發(fā)展的步伐,不過(guò)從當前整體局勢來(lái)看,想要打通整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈依舊任重而道遠,但仍要相信前方必有曙光。


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