EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
光刻系統
光刻系統 文章 進(jìn)入光刻系統技術(shù)社區
EVG推出EVG620HBL光刻系統
- 世界領(lǐng)先的先進(jìn)半導體與封裝、微機電系統、硅絕緣體(SOI)和新興納米技術(shù)市場(chǎng)晶圓鍵合與光刻設備應供應商EVG宣布，其產(chǎn)品組合中再添新成員。 這一全新的EVG620HBL全自動(dòng)光刻系統以經(jīng)過(guò)實(shí)戰作業(yè)驗證的EVG光刻機平臺為基礎，旨在優(yōu)化高亮度發(fā)光二極管(HB - LED)、復合半導體和動(dòng)力電子設備的生產(chǎn)制造。據悉，EVG620HBL增加了一個(gè)高強度紫外線(xiàn)光源和五個(gè)向盒裝卸臺，可以不間斷地制造設備。
- 關(guān)鍵字： EVG 光刻系統
Maskless Lithography推出用于大批量PCB生產(chǎn)的直寫(xiě)光刻設備
- Maskless Lithography公司今天首次公開(kāi)推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產(chǎn)門(mén)檻的直寫(xiě)數字成像技術(shù)。這種MLI-2027直寫(xiě)光刻系統首次在業(yè)內同時(shí)實(shí)現高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過(guò)在洛杉磯的工廠(chǎng)中對Maskless MLI-2027設備進(jìn)行測試、驗證和認證后，購買(mǎi)了該公司的首臺產(chǎn)品。 “這臺設備的售出標志著(zhù)我們五年的研發(fā)工
- 關(guān)鍵字： Maskless-Lithography PCB 光刻系統 MLI-2027
| 共3條 1/1 1 |
光刻系統介紹
您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng )建詞條光刻系統!
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對光刻系統的理解，并與今后在此搜索光刻系統的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
歡迎您創(chuàng )建該詞條，闡述對光刻系統的理解，并與今后在此搜索光刻系統的朋友們分享。 創(chuàng )建詞條
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì )員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473