KLA-Tencor發(fā)布全新SURFmonitor系統

KLA-Tencor正式發(fā)布最新 SURFmonitor 系統，該模塊擴展了業(yè)界領(lǐng)先的 Surfscan SP2 無(wú)圖形表面檢測系統，超越了傳統的缺陷檢測范圍，具備監控工藝變化和偏移的能力。SURFmonitor 系統專(zhuān)門(mén)用于測量裸晶片或薄膜表面形態(tài)變化，而這些變化與多種工藝參數如表面粗糙度、微粒尺寸和溫度等均有關(guān)聯(lián)。該系統可在收集缺陷信息的同時(shí)，在不到一分鐘時(shí)間內生成具備亞埃級重復性的詳細全晶片參數圖，使代工廠(chǎng)能夠同時(shí)監控工藝變化和缺陷情況。SURFmonitor 構建于 Surfscan SP2 平臺之上，表現出無(wú)可比擬的重復性和匹配能力。

“當今的先進(jìn)集成電路依賴(lài)于只有幾個(gè)原子層厚度的薄膜，”KLA-Tencor 晶片檢測事業(yè)部總經(jīng)理兼副總裁 Mike Kirk 指出，“薄膜的質(zhì)量，即表面粗糙度和均勻性，對器件的性能和可靠性已經(jīng)變得至關(guān)重要。盡管量測系統可以滿(mǎn)足分辨率、精度和重復性方面的要求，但系統的非連續取樣策略可能會(huì )遺漏局部的參數變化。SURFmonitor 系統通過(guò)快速的全晶片掃描，可迅速識別任何失控晶片或芯片區域，從而填補檢測和量測之間的鴻溝。由此，量測工具可將取樣方案調整至感興趣的目標區域來(lái)對圖形晶片進(jìn)行特定測量。這樣，SURFmonitor 系統就能同時(shí)提升 Surfscan SP2 平臺和薄膜量測工具的生產(chǎn)率?！?nbsp;

在過(guò)去五年里，KLA-Tencor 一直在開(kāi)發(fā)SURFmonitor的專(zhuān)有技術(shù)和應用，并申請了專(zhuān)利。SURFmonitor 模塊使用來(lái)自缺陷掃描的低空間頻率、低幅度散射信號，產(chǎn)生出高分辨率的全晶片圖。這些圖具備亞埃級高度的分辨率，相當于高質(zhì)量的晶片表面數字照片。SURFmonitor 系統隨后對這些圖進(jìn)行分析，獲得晶片內部或晶片間的空間變化，并將結果用于統計工藝控制。SURFmonitor 數據顯示出和多種參數的高度相關(guān)性，包括薄膜厚度、表面損傷、表面溫度變化和對銅、鎢和多晶硅薄膜表面粗糙度的 AFM* 測量結果。該系統還具備亞臨界缺陷檢測能力，可以發(fā)現如水印和污跡等在傳統缺陷通道中很難被檢測到的缺陷。 
 
“我們看到了將SURFmonitor應用于某些量測檢測中的巨大優(yōu)勢，因為它可以在進(jìn)行缺陷檢測的同時(shí)描繪出每個(gè)晶片表面全部區域的特點(diǎn)，”Soitec 的 SOI 產(chǎn)品平臺副總裁 Christophe Maleville 說(shuō)，“它具備檢測原子級粗糙度變化的能力，因而可以在很大程度上取代 AFM。SURFmonitor 系統可以可靠地檢測某些富有挑戰性的缺陷類(lèi)型，并且在實(shí)際生產(chǎn)中行之有效。它標志著(zhù)檢測技術(shù)領(lǐng)域的一個(gè)顯著(zhù)進(jìn)步?！?

SURFmonitor 系統提供了一套豐富的功能集來(lái)幫助先進(jìn)的工藝研發(fā)工作，它同時(shí)還具有一個(gè)靈活的自動(dòng)圖像處理和分析引擎來(lái)支持大批量生產(chǎn)的要求。該系統現已向亞洲、歐洲和美國的 IC 和晶片代工廠(chǎng)供貨，并應用于多種工藝場(chǎng)合，其中包括沉浸光刻、裸晶片表面質(zhì)量控制、濕式清洗、熱處理和薄膜沉積等?，F在，多家行業(yè)期刊上已刊登了十多篇介紹 SURFmonitor 技術(shù)的論文，并且在全球各地的會(huì )議上也介紹了這種技術(shù)。