西安紫光國芯新一代多層陣列SeDRAM技術(shù)
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本年度 VLSI 會(huì )議共收到全球投稿 632 篇，在最終錄取的212 篇中，僅有2篇來(lái)自中國內地企業(yè)，其中1篇便是來(lái)自西安紫光國芯的嵌入式多層陣列DRAM論文。
本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/202308/449513.htm
論文第一作者西安紫光國芯副總裁王嵩代表公司作論文報告
本次VLSI 2023上，西安紫光國芯發(fā)布的新一代多層陣列SeDRAM，相較于上一代單層陣列結構，新一代技術(shù)平臺主要采用了低溫混合鍵合技術(shù)（Hybrid Bonding，HB）和mini-TSV堆積技術(shù)。該技術(shù)平臺每Gbit由2048個(gè)數據接口組成，每個(gè)接口數據速度達541Mbps，最終實(shí)現業(yè)界領(lǐng)先的135GBps/Gbit 帶寬和0.66 pJ/bit 能效，為疊加更多層 DRAM 陣列結構提供先進(jìn)有效的解決方案。
嵌入式多層陣列SeDRAM示意圖
論文通訊作者西安紫光國芯總經(jīng)理江喜平表示，“2020年IEDM我們發(fā)布了第一代SeDRAM技術(shù)，之后我們實(shí)現了多款產(chǎn)品的大規模量產(chǎn)。這次發(fā)布的新一代多層陣列SeDRAM技術(shù)，實(shí)現了更小的電容電阻、更大的帶寬和容量，可廣泛應用于近存計算、大數據處理和高性能計算等領(lǐng)域?！?/p>
西安紫光國芯異質(zhì)集成嵌入式DRAM（SeDRAM）基于混合鍵合技術(shù)實(shí)現了邏輯單元和 DRAM陣列三維集成，多項研發(fā)成果已先后在IEDM 2020、CICC 2021、ISSCC 2022等多個(gè)期刊和會(huì )議上公開(kāi)發(fā)表和作專(zhuān)題報告。
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