改進(jìn)晶圓制造工藝,探索蝕刻終點(diǎn)的全光譜等離子監測解決方案

滿(mǎn)足當今技術(shù)創(chuàng )新的繁榮發(fā)展和復雜多變的產(chǎn)業(yè)環(huán)境，半導體代工廠(chǎng)需要定量、準確和高速的過(guò)程測量。海洋光學(xué)(Ocean Insight)與等離子蝕刻技術(shù)的領(lǐng)先創(chuàng )新者合作，探索適用于檢測關(guān)鍵晶圓蝕刻終點(diǎn)的全光譜等離子監測解決方案。

客戶(hù)面臨的挑戰

隨著(zhù)全球對半導體的需求迅速增長(cháng)，該行業(yè)已做好投資于節約成本的工藝改進(jìn)以及開(kāi)發(fā)日益復雜的半導體設計和配方的準備。為了滿(mǎn)足當今的技術(shù)繁榮并應對不斷擴大的市場(chǎng)，半導體代工廠(chǎng)需要定量、準確和高速的過(guò)程測量。

半導體和微機電系統 (MEMS) 正在達到設計極限，通過(guò)減小尺寸或提高速度來(lái)進(jìn)一步改進(jìn)幾乎是不可能的。相反，制造商專(zhuān)注于晶圓質(zhì)量、可重復性和整體良率，以及提高產(chǎn)能。目標是滿(mǎn)足對智能電子產(chǎn)品不斷增長(cháng)的需求，同時(shí)保持生產(chǎn)成本和價(jià)格競爭力。

我們的觀(guān)點(diǎn)

微弱等離子體或晶圓光譜的快速分析有助于完善蝕刻工藝參數，同時(shí)提高晶圓質(zhì)量?；诠庾V儀的等離子體測量與強大的軟件相結合，可以說(shuō)明等離子體、腔室和視口條件的變化狀態(tài)，并對來(lái)自深蝕刻或薄設計特征的最微弱信號敏感。

光譜有助于使終點(diǎn)檢測更加精確，從而可以設計出更復雜的晶片形狀和圖案。由于制造商可以更準確地停止和啟動(dòng)生產(chǎn)過(guò)程，因此可以制造更小的特征，同時(shí)減少錯誤和減少晶圓上的不可用空間。另外，隨著(zhù)終點(diǎn)檢測變得更加精確，可以使用更薄的不同材料層，即使它們產(chǎn)生微弱的、難以分辨的光譜特征和更緊密排列的峰值。

解決方案

海洋光學(xué)與半導體行業(yè)領(lǐng)先的設備供應商合作，共同推進(jìn)終點(diǎn)檢測技術(shù)。我們定制了光譜儀（Ocean SR2 和 Ocean HDX 是等離子監測應用的理想選擇），以提供半導體制造所需的快速、高靈敏度、精確分辨率和多功能連接能力。

借助海洋光學(xué)硬件和支持，設備供應商不斷改進(jìn)和完善其為半導體行業(yè)提供的蝕刻技術(shù)。其在等離子處理和先進(jìn)封裝解決方案方面的領(lǐng)先地位支持與無(wú)線(xiàn)設備、光子學(xué)、固態(tài)照明和 MEMS 設備相關(guān)的新興技術(shù)。