Mentor EDA 軟件進(jìn)一步支持三星Foundry 5/4nm 工藝技術(shù)

Mentor, a Siemens business 旗下領(lǐng)先的 Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS) 定制和模擬/混合信號 (AMS) 電路驗證平臺現已符合三星Foundry最新的5/4 nm FinFET工藝技術(shù)要求，客戶(hù)可以使用最新的解決方案為其先進(jìn)的IC 設計tapeouts進(jìn)行驗證和sign-off。

三星5nm FinFET 工藝在功耗、性能和面積 (PPA) 方面表現優(yōu)異，其本身具備的增強功能，結合更加精細的5nm 幾何尺寸，能夠獲得比前幾代工藝節點(diǎn)更為出色的性能提升。

三星電子設計支持團隊副總裁 Jongwook Kye 表示：“三星與 Mentor 的合作由來(lái)已久，我們的共同客戶(hù)能夠以此充分使用Calibre 解決方案的各種功能?，F在，Calibre 和 AFS 都已通過(guò)最新的三星Foundry的工藝認證，雙方的專(zhuān)業(yè)知識再次結合，幫助設計人員快速開(kāi)發(fā)和驗證創(chuàng )新型 IC，以應對各種高速增長(cháng)的市場(chǎng)和應用需求?！?/p>

除 Calibre nmDRC 之外，同時(shí)通過(guò)三星Foundry的最新工藝認證的Mentor 工具還包括：

●   Calibre? xACT - 該工具能夠解決與先進(jìn)納米設計相關(guān)的技術(shù)挑戰，包括多重曝光、FinFET、局部互連、高復雜性和更嚴苛的約束條件。其獨特的混合引擎提供了場(chǎng)求解器的高精度，這對于FinFET 這類(lèi)的精細3D 結構而言至關(guān)重要，此外Calibre xACT還提供快速的吞吐能力，可迅速完成全芯片設計。

●   Calibre? YieldEnhancer - 具備 SmartFill 和ECO Fill 功能，客戶(hù)可以控制設計平面度，并減少多次設計迭代的周轉時(shí)間。Calibre YieldEnhancer 還可以通過(guò)自動(dòng) PowerVia 流程減少 IR 壓降，從而幫助客戶(hù)提升設計的可靠性。三星與 Mentor 合作定制了該工作流程，為其領(lǐng)先的制程技術(shù)提供最高數量的過(guò)孔加插。

●   Calibre? PERC - 該工具采用獨特集成的方法對物理版圖和網(wǎng)表進(jìn)行分析，進(jìn)而將復雜的可靠性驗證檢查自動(dòng)化。支持5/4nm 工藝的三星Foundry Calibre PERC 設計工具套件能夠提供額外的驗證檢查功能，幫助客戶(hù)應對與靜電放電和閂鎖效應可靠性相關(guān)的挑戰。

●   Calibre? nmLVS 可以作為任何三星Foundry提取流程的前端。Calibre nmLVS致力于解決持續增加的布局復雜性，并滿(mǎn)足設計團隊的高級計算需求，助其在驗證復雜電路的同時(shí)，以預期的運行時(shí)間實(shí)現先進(jìn)工藝節點(diǎn)設計。

●   Calibre? RealTime 數字和定制接口平臺 - 該平臺利用同樣通過(guò)三星Foundry認證批量Calibre的設計套件，在數字化和定制的設計流程中即時(shí)進(jìn)行sign-off質(zhì)量的DRC檢查。在先進(jìn)和成熟節點(diǎn)設計的 DRC 收斂期間，這些接口可帶來(lái)顯著(zhù)的生產(chǎn)率優(yōu)勢，幫助客戶(hù)快速優(yōu)化其手動(dòng)的DRC 修復，從而能更加專(zhuān)注于其PPA目標。

●   AFS平臺，該平臺助力芯片級系統 (SoC) 設計人員充滿(mǎn)信心地完成電路驗證。三星Foundry的器件模型和設計工具套件均支持AFS 平臺。雙方的共同客戶(hù)能夠以此在驗證模擬、射頻、混合信號、存儲器和定制數字電路上，實(shí)現比傳統 SPICE 仿真器速度更快的納米級 SPICE 精度驗證。

“三星Foundry憑借最新工藝，不斷提供高度創(chuàng )新的技術(shù)，以應對日趨復雜的 IC 設計難題，”Mentor Calibre 設計解決方案產(chǎn)品管理副總裁 Michael Buehler-Garcia 表示：“我們很高興能與三星Foundry繼續深化合作，并作為其創(chuàng )新解決方案中的關(guān)鍵設計要素，幫助雙方的共同客戶(hù)設計和制造最先進(jìn)的IC產(chǎn)品?！?/p>