NI發(fā)布業(yè)界最高精度的PXI源測量單元

　　NI(美國國家儀器，National Instruments, 簡(jiǎn)稱(chēng)NI)作為致力于為工程師和科學(xué)家提供解決方案來(lái)應對全球最嚴峻的工程挑戰的供應商，近日宣布推出NI PXIe-4135源測量單元(SMU)，其測量靈敏度達10 fA，輸出電壓高達200V。工程師可以使用NI PXIe-4135 SMU來(lái)測量低電流信號，并利用NI PXI SMU的高通道密度、高速的測試吞吐率和靈活性來(lái)實(shí)現晶圓級參數測試、材料研究以及分析低電流傳感器和集成電路的特性等各種應用。

　　“我們的順序參數測試需要采集數百萬(wàn)個(gè)數據點(diǎn)，電流泄露通常在pA級。”IMEC研究人員Bart De Wachter博士表示， “在受益于PXI平臺提供的高速度和LabVIEW的系統編程靈活性的同時(shí)，全新的NI PXI SMU可幫助我們精確地測量低電流信號。”

　　模塊化NI PXI SMU可幫助工程師來(lái)構建緊湊型并行高通道數系統，在單個(gè)PXI機箱中提供了高達68個(gè)SMU通道，而且可擴展至數百個(gè)通道來(lái)滿(mǎn)足晶圓級可靠性和并行測試需求。 此外，用戶(hù)還可利用高速通信總線(xiàn)、確定性硬件序列生成、以及使用數字控制回路技術(shù)對任意待測設備自定義調節SMU響應，從而提高測試吞吐量。工程師還可以通過(guò)軟件控制SMU響應，避免了長(cháng)時(shí)間等待SMU穩定，并可借助NI PXI SMU的靈活性來(lái)最小化過(guò)沖和振蕩，即使是在帶有高電容性的負載的情況下也是如此。

　　“半導體器件復雜性的增加要求我們重新思考傳統的研究、特性分析和晶片可靠性測量方法，而這一直是我們投資PXI SMU的關(guān)鍵動(dòng)力，”NI自動(dòng)化測試總監Luke Schreier表示， “NI SMU降低了測量時(shí)間，提高了通道密度，而且現在更提供了更好的測量質(zhì)量和高達10 fA的靈敏度。”

　　NI PXI SMU不僅提供了臺式SMU的易用性，其交互式軟件前面板也可用于進(jìn)行基本的測量和調試自動(dòng)化應用。 驅動(dòng)程序包含了幫助文件、文檔描述和可立即運行的范例程序，可輔助測試代碼開(kāi)發(fā)，并包含了一個(gè)編程接口，可支持C、Microsoft .NET和LabVIEW系統設計軟件等各種開(kāi)發(fā)環(huán)境。工程師還可結合NI TestStand測試管理軟件使用NI PXI SMU，簡(jiǎn)化實(shí)驗室或生產(chǎn)車(chē)間的測試系統開(kāi)發(fā)和部署。

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