NI PXI矢量網(wǎng)絡(luò )分析儀助半導體移動(dòng)設備制造商降低測試成本

　　美國國家儀器公司(National Instruments, 簡(jiǎn)稱(chēng) NI)近日發(fā)布了NI NI PXIe-5632 VNA，它經(jīng)進(jìn)一步優(yōu)化，可幫助工程師滿(mǎn)足日益復雜的射頻測試要求，而其成本、尺寸和使用所需時(shí)間僅是傳統堆疊式解決方案的極小一部分。 新的PXIe VNA基于創(chuàng )新型的雙源架構，頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz，擁有獨立調整的源代碼和源接入循環(huán)，可適用于眾多不同的測量應用?！　?/p>本文引用地址：http://dyxdggzs.com/article/139694.htm

　　“NI在射頻和微波儀器上持續大力投入，將PXI的應用領(lǐng)域擴大至高端應用。”NI射頻研究和開(kāi)發(fā)副總裁Jin Bains表示， “NI PXIe-5632矢量網(wǎng)絡(luò )分析儀功能豐富，可顯著(zhù)降低網(wǎng)絡(luò )測量成本，尤其是針對那些需要高度精確、快速和小封裝測量的大批量自動(dòng)化測試的應用。”

　　產(chǎn)品特征

• 雙端口，3槽PXI Express矢量網(wǎng)絡(luò )分析儀，頻率范圍為300 kHz至8.5 GHz 。
• 功率范圍較寬，為-30dBm到+15 dBm，調節步長(cháng)為0.01dB，用于測量有源設備的壓縮和S-參數。
• 帶有源接入循環(huán)的雙源架構，可實(shí)現脈沖S參數測量和擴展源功率范圍。
• 頻偏功能使用獨立調整的源代碼，實(shí)現對頻率轉換器件和熱S-參數的測量。
• 通過(guò)NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行業(yè)領(lǐng)先的編程接口，可簡(jiǎn)化編程并加快測試開(kāi)發(fā)速度，同時(shí)保證射頻測量質(zhì)量。