佳能發(fā)布新型光刻機！顛覆ASML！
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10月13日消息，日本佳能宣布推出新型光刻設備：FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備！
受此消息影響，納米壓印概念股午后走高，匯創(chuàng )達午后開(kāi)盤(pán)拉升漲超11%，美迪凱、晶方科技、利和興、蘇大維格等紛紛大幅拉升。
據佳能介紹，傳統的光刻設備通過(guò)將電路圖案投射到涂有抗蝕劑的晶圓上，而佳能此新產(chǎn)品通過(guò)在晶圓上的抗蝕劑上壓印有電路圖案的掩模來(lái)實(shí)現這一點(diǎn)，就像郵票一樣。
據了解，佳能的納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）技術(shù)可實(shí)現最小線(xiàn)寬14nm的圖案化，相當于生產(chǎn)目前最先進(jìn)的邏輯半導體所需的5nm節點(diǎn)。此外，隨著(zhù)掩模技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)，NIL有望實(shí)現最小線(xiàn)寬為10nm的電路圖案，相當于2nm節點(diǎn)。
資料顯示，納米壓印是一種微納加工技術(shù)，它采用傳統機械模具微復型原理。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，傳統的光刻設備通過(guò)將電路圖案投影到涂有抗蝕劑的晶圓上來(lái)轉移電路圖案，而納米壓印光刻造芯片則通過(guò)將印有電路圖案的掩模壓印在晶圓上的抗蝕劑上，就像印章蓋在橡皮泥上，然后經(jīng)過(guò)脫模就能夠得到一顆芯片。
官方消息顯示，佳能早在2004年開(kāi)始秘密研發(fā)NIL技術(shù)，2014年美國分子壓印公司（現佳能納米技術(shù)）加入佳能集團，該研發(fā)消息才被公開(kāi)。
來(lái)源：中國半導體論壇
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