哪些因素影響了屏蔽材料的使用效果?

       隨著(zhù)不同場(chǎng)所對于屏蔽的要求有所不同，為了滿(mǎn)足人們的不同屏蔽需求，屏蔽技術(shù)水平也逐漸在提高。采用屏蔽機房，由于屏蔽材料會(huì )有不同，因而，人們對于屏蔽機房的屏蔽效果是否與屏蔽材料有關(guān)，也提出了疑問(wèn)。那么什么情況會(huì )影響屏蔽材料的效果呢？

     （1）材料的導電性和導磁性越好，屏蔽效能越高，但實(shí)際的金屬材料不可能兼顧這兩個(gè)方面，例如銅的導電性很好，但是導磁性很差;鐵的導磁性很好，但是導電性較差。應該使用什么材料，根據具體屏蔽主要依賴(lài)反射損耗、還是吸收損耗來(lái)決定是側重導電性還是導磁性;

     （2）電場(chǎng)波是很容易屏蔽的，平面波其次，磁場(chǎng)波是非常難屏蔽的。尤其是(1KHz以下)低頻磁場(chǎng)，很難屏蔽。對于低頻磁場(chǎng)，要采用高導磁性材料屏蔽，幾種情況影響屏蔽材料的效果甚至采用高導電性材料和高導磁性材料復合起來(lái)的材料。

     （3）頻率較低的時(shí)候，吸收損耗很小，反射損耗是屏蔽效能的主要機理，要盡量提高反射損耗;

     （4）反射損耗與屏蔽體到輻射源的距離有關(guān)，對于電場(chǎng)輻射源，距離越近，則反射損耗越大;對于磁場(chǎng)輻射源，距離越近，則反射損耗越小;正確判斷輻射源的性質(zhì)，決定它應該靠近屏蔽體，還是原理屏蔽體，是結構設計的一個(gè)重要內容。

     （5）頻率較高時(shí)，吸收損耗是主要的屏蔽機理，這時(shí)與輻射源是電場(chǎng)輻射源還是磁場(chǎng)輻射源關(guān)系不大。

     （6）反射損耗與輻射源的特性有關(guān)，對于電場(chǎng)輻射源，反射損耗很大;對于磁場(chǎng)輻射源，反射損耗很小。因此，對于磁場(chǎng)輻射源的屏蔽主要依靠材料的吸收損耗，應該選用磁導率較高的材料做屏蔽材料。